{"id":17060,"date":"2025-10-20T17:39:59","date_gmt":"2025-10-20T09:39:59","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/tellururo-di-tantalio\/"},"modified":"2025-10-20T17:39:59","modified_gmt":"2025-10-20T09:39:59","slug":"tellururo-di-tantalio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/tellururo-di-tantalio\/","title":{"rendered":"Tellururo di tantalio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bersaglio per sputtering al tellururo di tantalio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Tantalum+Telluride\">Il target di tellururo di tantalio<\/a><\/span> \u00e8 un materiale bidimensionale ad alte prestazioni adatto ad applicazioni elettroniche e optoelettroniche all&#8217;avanguardia. Si tratta di un ditelluride metallico di transizione con una struttura stratificata unica ed \u00e8 ampiamente utilizzato nella ricerca e nella produzione di nuovi dispositivi elettronici, fotorivelatori e dispositivi di accumulo di energia. Il materiale ha attirato molta attenzione per la sua anisotropia, l&#8217;elevata mobilit\u00e0 dei portatori e l&#8217;eccellente capacit\u00e0 di formare film.<\/p>\n<p>Forniamo target di sputtering al tellururo di tantalio di elevata purezza e densit\u00e0, che possono essere utilizzati per una variet\u00e0 di tecnologie di deposizione di film sottili (come sputtering magnetronico, evaporazione a fascio di elettroni, ecc.) e supportano una variet\u00e0 di specifiche personalizzate per soddisfare le diverse esigenze dello sviluppo di laboratorio e della produzione industriale di massa.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Purezza: 99,9%<br \/>\nAlta densit\u00e0, superficie liscia<br \/>\nStruttura cristallina stratificata, adatta alla formazione di film sottili bidimensionali<br \/>\nDimensioni e forma personalizzabili su richiesta (rotonde, rettangolari, ecc.)<br \/>\nAdatto per processi di deposizione sotto alto vuoto e in atmosfera inerte<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del target di sputtering in tellururo di tantalio<\/span><\/h2>\n<p>Dispositivi elettronici: pu\u00f2 essere utilizzato per dispositivi semiconduttori bidimensionali come i transistor a effetto di campo (FET) di nuova generazione.<br \/>\nFotorivelatori: Con capacit\u00e0 di risposta ad ampia banda, adatti a dispositivi di imaging nell&#8217;infrarosso e nell&#8217;ultravioletto.<br \/>\nMateriali per l&#8217;accumulo di energia: utilizzati nelle batterie agli ioni di litio\/sodio e nei supercondensatori per la ricerca sui materiali elettrodici.<br \/>\nRicerca sui materiali topologici: grazie alla sua struttura a bande unica, \u00e8 un materiale importante per lo studio dell&#8217;elettronica di spin e degli isolanti topologici.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporti<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto di target di tellururo di tantalio viene fornito con un <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/analisi-chimica\/\">certificato di analisi (COA)<\/a><\/span>, scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i necessari rapporti di prova. In base alle esigenze del cliente, pu\u00f2 essere fornito anche un supporto di test di terze parti per garantire che la composizione, la purezza e la stabilit\u00e0 dei target di sputtering soddisfino le esigenze del progetto.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Bersaglio per sputtering al tellururo di tantalio Panoramica Il target di tellururo di tantalio \u00e8 un materiale bidimensionale ad alte prestazioni adatto ad applicazioni elettroniche e optoelettroniche all&#8217;avanguardia. 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