{"id":17018,"date":"2025-10-20T17:40:00","date_gmt":"2025-10-20T09:40:00","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/lega-di-tantalio-e-tungsteno\/"},"modified":"2025-10-20T17:40:00","modified_gmt":"2025-10-20T09:40:00","slug":"lega-di-tantalio-e-tungsteno","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/lega-di-tantalio-e-tungsteno\/","title":{"rendered":"Lega di tantalio e tungsteno"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Obiettivo di sputtering in lega di tantalio e tungsteno Panoramica<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Tantalum+Tungsten\">Tantalio tungsteno<\/a> <\/span>Il target sputtering in lega \u00e8 un materiale sputtering ad alto punto di fusione e ad alta resistenza in lega di tantalio (Ta) e tungsteno (W), sviluppato appositamente per i processi di deposizione di film sottili in condizioni difficili. L&#8217;eccellente stabilit\u00e0 termica, la resistenza alla corrosione e la forza meccanica ne fanno la scelta ideale per gli ambienti al plasma e i processi ad alta temperatura.<\/p>\n<p>Possiamo fornire bersagli sputtering in lega di tantalio e tungsteno in una variet\u00e0 di forme e dimensioni, tra cui rotondi, rettangolari o personalizzati, per soddisfare le diverse esigenze di applicazione nella ricerca scientifica e nell&#8217;industria. Forniamo anche un&#8217;assistenza tecnica completa<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/assistenza-tecnica\/\"> assistenza tecnica<\/a> <\/span>per aiutarvi a completare in modo efficiente l&#8217;implementazione del materiale.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche dei prodotti<\/span><\/h2>\n<p>Composizione: Personalizzabile<br \/>\nPurezza: 99,95%<br \/>\nPunto di fusione fino a &gt; 3000\u00b0C, adatto al processo di deposizione ad alta temperatura<br \/>\nEccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza meccanica<br \/>\nForte resistenza alla corrosione da plasma, adatta per ambienti di deposizione difficili<br \/>\nDimensioni, rapporto di lega e struttura del back target possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazione del target di sputtering in lega di tantalio e tungsteno<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-per-semiconduttori\/\">Semiconduttore<\/a> <\/span>produzione di dispositivi: Come strato barriera di diffusione o elettrodo metallico ad alta temperatura, ha sia conduttivit\u00e0 che stabilit\u00e0<br \/>\nProcesso dei circuiti integrati: Utilizzato come strato di rivestimento e substrato nell&#8217;interconnessione ad alta densit\u00e0 (HDI) o nella struttura di interconnessione in rame<br \/>\nPreparazione del rivestimento duro: Fornisce un&#8217;elevata durezza e resistenza alla corrosione nel rivestimento degli utensili e nello strato di film resistente all&#8217;usura<br \/>\nOptoelettronica e nuovi materiali energetici: Controllo delle prestazioni in film sottili funzionali speciali e sistemi compositi di destinazione<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporto<\/span><\/h2>\n<p>Forniamo un certificato di analisi (COA) completo <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/analisi-chimica\/\">certificato di analisi (COA)<\/a><\/span>, la scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e il rapporto di prova dei componenti pertinenti per ogni lotto di obiettivi in lega di tantalio e tungsteno. Supportiamo anche i rapporti di prova di agenzie terze per garantire la trasparenza dei dati e il controllo della qualit\u00e0.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Obiettivo di sputtering in lega di tantalio e tungsteno Panoramica Tantalio tungsteno Il target sputtering in lega \u00e8 un materiale sputtering ad alto punto di fusione e ad alta resistenza in lega di tantalio (Ta) e tungsteno (W), sviluppato appositamente per i processi di deposizione di film sottili in condizioni difficili. L&#8217;eccellente stabilit\u00e0 termica, la [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":17019,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[564],"product_tag":[],"class_list":["post-17018","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-lega","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/17018","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/17019"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=17018"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=17018"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=17018"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=17018"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}