{"id":16377,"date":"2025-10-21T14:25:49","date_gmt":"2025-10-21T06:25:49","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossicloruro-di-afnio-idrato\/"},"modified":"2025-10-21T14:25:49","modified_gmt":"2025-10-21T06:25:49","slug":"ossicloruro-di-afnio-idrato","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossicloruro-di-afnio-idrato\/","title":{"rendered":"Ossicloruro di afnio idrato"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Ossicloruro di afnio idrato in polvere Panoramica<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Hafnium+oxychloride+hydrate\">L&#8217;ossicloruro di afnio idrato<\/a><\/span> \u00e8 un importante composto inorganico dell&#8217;afnio, ampiamente utilizzato nella preparazione di ceramiche ad alte prestazioni, materiali optoelettronici, supporti per catalizzatori e film sottili dielettrici ad alto coefficiente k. L&#8217;eccellente disperdibilit\u00e0 e la purezza del composto garantiscono una materia prima stabile e affidabile per i processi a valle.<\/p>\n<p>Offriamo polvere di ossicloruro di afnio idrato in varie dimensioni di particelle e specifiche di imballaggio. La purezza e i parametri possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente. Forniamo anche servizi analitici di supporto per garantire prestazioni stabili del materiale e un&#8217;elevata coerenza dei lotti.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Purezza: 99,9%<br \/>\nIl livello di idratazione e la distribuzione delle dimensioni delle particelle possono essere personalizzati su richiesta<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/personalizzazione\/\">Imballaggio personalizzato<\/a> <\/span>imballaggio disponibile<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dell&#8217;ossicloruro di afnio idrato in polvere<\/span><\/h2>\n<p>Materiali dielettrici ad alto coefficiente k: Utilizzato come precursore per la preparazione di film sottili di HfO\u2082, adatti per i materiali dielettrici di gate ad alta k di prossima generazione.<br \/>\nMateriali ceramici: Utilizzati nella produzione di ceramiche a base di afnio ad alta resistenza e ad alto punto di fusione, adatte all&#8217;uso in ambienti estremi.<br \/>\nSupporti per catalizzatori: Grazie alla sua eccellente stabilit\u00e0 chimica, pu\u00f2 essere utilizzato come precursore di catalizzatori o supporto attivo.<br \/>\nMateriali optoelettronici: Utilizzato nella preparazione di film sottili di ossido di afnio o di altri rivestimenti ottici.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporti<\/span><\/h2>\n<p>Forniamo un <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/analisi-chimica\/\">Rapporto di analisi chimica (COA),<\/a><\/span> Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e un rapporto sul contenuto di acqua di cristallizzazione per ogni lotto di prodotti. Supportiamo anche test di terze parti per assistere i clienti nei processi di verifica e certificazione della qualit\u00e0.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Ossicloruro di afnio idrato in polvere Panoramica L&#8217;ossicloruro di afnio idrato \u00e8 un importante composto inorganico dell&#8217;afnio, ampiamente utilizzato nella preparazione di ceramiche ad alte prestazioni, materiali optoelettronici, supporti per catalizzatori e film sottili dielettrici ad alto coefficiente k. 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