{"id":12415,"date":"2025-07-18T17:14:52","date_gmt":"2025-07-18T09:14:52","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/nitruro-di-alluminio-6\/"},"modified":"2025-07-18T17:14:52","modified_gmt":"2025-07-18T09:14:52","slug":"nitruro-di-alluminio-6","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/nitruro-di-alluminio-6\/","title":{"rendered":"Nitruro di alluminio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Obiettivi di sputtering al nitruro di alluminio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p><strong><span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=element&#038;keyword=Al%2CN\">I target di nitruro di alluminio<\/a><\/span><\/strong> sono materiali ceramici ad alte prestazioni caratterizzati da un&#8217;eccellente conduttivit\u00e0 termica, un elevato isolamento elettrico e una forte stabilit\u00e0 chimica. Queste propriet\u00e0 li rendono la scelta ideale per la deposizione di film sottili in applicazioni di semiconduttori, optoelettronica e strati dielettrici.<\/p>\n<p>I nostri target di sputtering in nitruro di alluminio sono prodotti con elevata purezza e microstruttura raffinata per garantire un&#8217;eccellente uniformit\u00e0 del film, una forte adesione e tassi di deposizione stabili. Che si tratti di ricerca e sviluppo o di produzione industriale su larga scala, offriamo una qualit\u00e0 affidabile e un supporto tecnico professionale per aiutarvi a soddisfare i vostri requisiti specifici di prestazione.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Obiettivi sputtering in nitruro di alluminio di elevata purezza: \u226599,9%<br \/>\nBasso contenuto di ossigeno e impurit\u00e0 per una qualit\u00e0 superiore del film<br \/>\nDisponibili in varie forme (disco, rettangolare) e dimensioni<br \/>\nStruttura a grana stretta e composizione omogenea per uno sputtering uniforme<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target per sputtering al nitruro di alluminio<\/span><\/h2>\n<p>Dispositivi a semiconduttore: Strati isolanti, strati tampone e film di passivazione<br \/>\nComponenti optoelettronici: Film sottili per LED, diodi laser e fotorivelatori<br \/>\nRivestimenti per la gestione termica: Film sottili su substrati che necessitano di un&#8217;efficiente dissipazione del calore<br \/>\nDispositivi a onde acustiche superficiali (SAW): Strati dielettrici ad alte prestazioni<br \/>\nRivestimenti protettivi: In ambienti chimici o termici difficili, che richiedono film ceramici stabili<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporti<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto di target di sputtering AlN viene consegnato con un certificato di analisi (COA) e una scheda di sicurezza del materiale (MSDS). Le analisi standard comprendono purezza chimica, densit\u00e0, composizione delle fasi (XRD) e ispezione della microstruttura (SEM). Ulteriori test di terze parti e rapporti di conformit\u00e0 RoHS\/REACH sono disponibili su richiesta.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Qualit\u00e0 costante: Stretto controllo del processo per ottenere granulometria e densit\u00e0 uniformi<br \/>\nPersonalizzazione: Dimensioni, forma e servizio di incollaggio su misura per il vostro sistema<br \/>\nCompetenza tecnica: Assistenza per i parametri di sputtering, le propriet\u00e0 del film e la risoluzione dei problemi<br \/>\nConsegna globale: Spedizione internazionale sicura e conforme con documentazione completa<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Obiettivi di sputtering al nitruro di alluminio Panoramica I target di nitruro di alluminio sono materiali ceramici ad alte prestazioni caratterizzati da un&#8217;eccellente conduttivit\u00e0 termica, un elevato isolamento elettrico e una forte stabilit\u00e0 chimica. 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