{"id":12216,"date":"2025-07-18T17:14:57","date_gmt":"2025-07-18T09:14:57","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-lantanio-e-titanio\/"},"modified":"2025-07-18T17:14:57","modified_gmt":"2025-07-18T09:14:57","slug":"ossido-di-lantanio-e-titanio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-lantanio-e-titanio\/","title":{"rendered":"Ossido di lantanio e titanio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bersaglio per sputtering all&#8217;ossido di titanio e lantanio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p><strong><span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=element&#038;keyword=La%2CTi%2CO\">L&#8217;ossido di titanio lantanio (LTO)<\/a><\/span><\/strong> \u00e8 un materiale ad alte prestazioni progettato per il processo di deposizione di film sottili. Presenta una stabilit\u00e0 termica estremamente elevata ed eccellenti propriet\u00e0 fisiche e chimiche. \u00c8 ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili nei settori dell&#8217;elettronica, dell&#8217;ottica e delle alte temperature. L&#8217;alta densit\u00e0 e l&#8217;eccellente stabilit\u00e0 di questo materiale assicurano una deposizione uniforme di film sottili e un&#8217;eccellente adesione, ed \u00e8 adatto a vari settori di fascia alta.<\/p>\n<p>Forniamo bersagli sputtering in ossido di titanio lantanio di varie dimensioni e forme, tra cui rotonde, rettangolari, ecc. e possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente. Allo stesso tempo, forniamo un&#8217;assistenza post-vendita completa per garantire che gli utenti non abbiano preoccupazioni durante l&#8217;uso.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>LTO di elevata purezza: 99,99%<br \/>\nAlta densit\u00e0 per garantire una deposizione uniforme del film sottile<br \/>\nDimensioni e forma personalizzabili<br \/>\n\u00c8 possibile fornire il legame con l&#8217;obiettivo<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del target di sputtering in ossido di titanio e lantanio<\/span><\/h2>\n<p>Semiconduttori: Ampiamente utilizzato negli strati dielettrici, negli strati conduttivi e negli strati di interconnessione nel processo di produzione dei semiconduttori. L&#8217;elevata stabilit\u00e0 e adattabilit\u00e0 del La\u2084Ti\u2085O\u2081\u2082 lo rendono molto performante in condizioni di alta temperatura e alta pressione.<br \/>\nRivestimento ottico: utilizzato come strato riflettente ottico, rivestimento ottico e apparecchiature ottiche, con elevata riflettivit\u00e0 e stabilit\u00e0.<br \/>\nFotovoltaico: nella deposizione di film sottili di celle solari, fornisce un&#8217;elevata riflettivit\u00e0 e stabilit\u00e0 a lungo termine, migliorando le prestazioni delle celle fotovoltaiche.<br \/>\nAmbiente ad alta temperatura: il materiale di destinazione \u00e8 in grado di resistere all&#8217;ambiente sotto vuoto ad alta temperatura e viene spesso utilizzato nelle reazioni chimiche ad alta temperatura e nelle reazioni catalitiche.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporto<\/span><\/h2>\n<p>Forniamo un certificato di analisi (COA), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti per ogni lotto di merce. Inoltre, supportiamo anche test di terze parti per migliorare la garanzia di qualit\u00e0.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>I nostri obiettivi di sputtering in ossido di titanio e lantanio hanno un&#8217;eccellente densit\u00e0, una microstruttura uniforme e prestazioni affidabili di deposizione di film sottile. In qualit\u00e0 di fornitore di fiducia, garantiamo un rigoroso controllo della qualit\u00e0, opzioni di personalizzazione, prezzi competitivi e consegne globali sicure per supportare sia la ricerca che le applicazioni industriali.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Bersaglio per sputtering all&#8217;ossido di titanio e lantanio Panoramica L&#8217;ossido di titanio lantanio (LTO) \u00e8 un materiale ad alte prestazioni progettato per il processo di deposizione di film sottili. 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