{"id":59742,"date":"2026-10-16T14:12:18","date_gmt":"2026-10-16T06:12:18","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/film-sottili-di-fto-proprieta-fattori-di-sputtering-e-applicazioni\/"},"modified":"2026-10-23T09:55:23","modified_gmt":"2026-10-23T01:55:23","slug":"film-sottili-di-fto-proprieta-fattori-di-sputtering-e-applicazioni","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/film-sottili-di-fto-proprieta-fattori-di-sputtering-e-applicazioni\/","title":{"rendered":"Film sottili di FTO: propriet\u00e0, fattori di sputtering e applicazioni"},"content":{"rendered":"\t\t
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Che cos\u2019\u00e8 un film sottile FTO?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Un film sottile di ossido di stagno drogato con fluoro (FTO<\/a><\/span>) \u00e8 un rivestimento a base di ossido conduttivo trasparente (TCO<\/a><\/span>) a base di biossido di stagno (SnO\u2082),<\/a><\/span> con l\u2019aggiunta di fluoro per modificarne le propriet\u00e0 elettriche. L\u2019FTO combina la trasmissione della luce visibile con la conduttivit\u00e0 elettrica, rendendolo utile nei dispositivi fotovoltaici, nel vetro conduttivo e in altre applicazioni optoelettroniche.<\/p>

Sebbene l\u2019FTO e lo SnO\u2082 non drogato condividano la stessa struttura di base dell\u2019ossido di stagno, non sono materiali equivalenti. Il fluoro pu\u00f2 occupare i siti legati all\u2019ossigeno nel reticolo dello SnO\u2082 e apportare elettroni aggiuntivi, migliorando potenzialmente la conduttivit\u00e0. Il risultato effettivo dipende dall\u2019incorporazione del dopante, dai difetti, dalla cristallinit\u00e0, dallo spessore del film e dalle condizioni di deposizione. Di conseguenza, il contenuto di fluoro da solo non pu\u00f2 prevedere le prestazioni finali del film.\u00a0<\/p>

L\u2019FTO pu\u00f2 essere prodotto attraverso diversi metodi, tra cui la deposizione chimica da vapore, la pirolisi a spruzzo e lo sputtering. Nello sputtering, la composizione del bersaglio e le condizioni di deposizione devono essere considerate congiuntamente. Ad esempio, un bersaglio di ossido contenente fluoro pu\u00f2 fornire il materiale per la crescita del film, mentre gli approcci di sputtering reattivo possono utilizzare diverse combinazioni di bersagli e gas.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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FTO vs SnO\u2082: qual \u00e8 la differenza?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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La differenza principale consiste nell’incorporazione intenzionale di fluoro nel materiale a base di ossido di stagno.<\/p>
Propriet\u00e0<\/strong><\/td>\u00a0SnO\u2082<\/strong><\/td>FTO<\/strong><\/td><\/tr>
Composizione<\/td>Biossido di stagno<\/td>Biossido di stagno drogato con fluoro<\/td><\/tr>
Comportamento elettrico<\/td>Dipende dai difetti intrinseci e dalla lavorazione<\/td>Il drogaggio con fluoro pu\u00f2 aumentare la concentrazione di elettroni<\/td><\/tr>
Comportamento ottico<\/td>Pu\u00f2 trasmettere la luce visibile<\/td>\u00c8 in grado di mantenere un’elevata trasmissione della luce visibile pur garantendo la conduttivit\u00e0<\/td><\/tr>
Controlli delle prestazioni<\/td>Difetti, cristallinit\u00e0, spessore e processo<\/td>Incorporazione di dopanti, difetti, cristallinit\u00e0, spessore e processo<\/td><\/tr>
Ruolo tipico<\/td>Semiconduttori, materiali per il rilevamento di gas, ossidi funzionali o strati di dispositivi<\/td>Rivestimento conduttivo trasparente o elettrodo<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>

Lo SnO\u2082 non drogato \u00e8 un semiconduttore a banda larga semiconduttore<\/a> <\/span>con una buona stabilit\u00e0 chimica e termica. Tuttavia, la sua conduttivit\u00e0 elettrica potrebbe risultare insufficiente per alcune applicazioni con elettrodi trasparenti senza un\u2019adeguata ingegneria dei difetti o un\u2019adeguata drogatura. L\u2019FTO rappresenta un approccio per modificare queste propriet\u00e0 elettriche mantenendo al contempo le caratteristiche ottiche necessarie per i rivestimenti trasparenti.\u00a0<\/p>

Questa distinzione \u00e8 importante anche nella scelta di un bersaglio di sputtering. Un bersaglio in SnO\u2082 e uno in FTO non devono essere considerati intercambiabili semplicemente perch\u00e9 entrambi sono ceramiche a base di ossido di stagno. La composizione del film desiderata e il metodo di deposizione devono corrispondere ai requisiti dell\u2019applicazione.<\/p>

Per le opzioni relative ai materiali, consultare la sezione di ULPMAT Target di sputtering in ossido di stagno (IV)<\/a> <\/span>e FTO<\/span> per sputtering<\/span><\/a> di ULPMAT.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Cosa determina le prestazioni dei film sottili FTO?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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1. Incorporazione di fluoro e conduttivit\u00e0 elettrica<\/strong><\/p>

Il drogaggio con fluoro pu\u00f2 aumentare la concentrazione di elettroni liberi nello SnO\u2082, migliorando potenzialmente la conduttivit\u00e0 elettrica. Tuttavia, la relazione tra il contenuto di fluoro e le prestazioni del film non \u00e8 necessariamente lineare. La distribuzione del drogante, i difetti cristallini, la mobilit\u00e0 dei portatori e le condizioni di deposizione possono tutti influenzare le propriet\u00e0 elettriche finali.<\/p>

Per questo motivo, le prestazioni dei film sottili di FTO dovrebbero essere valutate sulla base delle propriet\u00e0 elettriche e ottiche misurate, piuttosto che solo in base alla composizione nominale. Nel confrontare i risultati della deposizione, occorre considerare congiuntamente la resistenza di foglio, lo spessore del film e la trasmittanza alla luce visibile.<\/p>

2. Risultati sperimentali per i film sottili di FTO<\/strong><\/p>

Le misurazioni elettriche e ottiche forniscono indicatori utili delle prestazioni dei film sottili di FTO. I seguenti risultati sperimentali illustrano la relazione tra conduttivit\u00e0, trasporto dei portatori e trasmissione della luce visibile.<\/p>
Parametro misurato<\/td>Risultato riportato<\/td><\/tr>
Trasmittanza media nella luce visibile<\/td>83%<\/td><\/tr>
Banda proibita ottica<\/td>3,80 eV<\/td><\/tr>
Resistivit\u00e0 elettrica<\/td>6,71 \u00d7 10\u207b\u00b3 \u03a9\u00b7cm<\/td><\/tr>
Concentrazione di portatori<\/td>1,46 \u00d7 10\u00b2\u2070 cm\u207b\u00b3<\/td><\/tr>
Mobilit\u00e0 dei portatori<\/td>15 cm\u00b2\/(V\u00b7s)<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>

Questi risultati forniscono un riferimento per la valutazione delle propriet\u00e0 dei film sottili di FTO. I valori effettivi possono variare in base allo spessore del film, alle condizioni di deposizione, alle caratteristiche del substrato e al trattamento post-deposizione.<\/p>

Quando si confrontano i film di FTO, la resistivit\u00e0 elettrica, la resistenza di foglio e la trasmittanza ottica devono essere valutate congiuntamente in condizioni di misurazione e lavorazione coerenti. Un film con una resistivit\u00e0 inferiore non garantisce necessariamente le migliori prestazioni complessive se la sua trasmittanza ottica o la qualit\u00e0 della superficie non sono adatte all\u2019applicazione prevista.<\/p>

3. Spessore del film e resistenza di foglio<\/strong><\/p>

Lo spessore del film \u00e8 un fattore importante nel determinare il comportamento elettrico dei rivestimenti conduttivi trasparenti. Per un film uniforme, la resistenza di foglio pu\u00f2 essere approssimata con la formula:<\/p>

[R_s=\\frac{\\rho}{t}]<\/p>

dove (R_s) \u00e8 la resistenza di foglio, (\\rho) \u00e8 la resistivit\u00e0 elettrica e (t) \u00e8 lo spessore del film.<\/p>

A parit\u00e0 di resistivit\u00e0, aumentando lo spessore del film si riduce generalmente la resistenza di foglio. Tuttavia, un film pi\u00f9 spesso pu\u00f2 influire anche sulla trasmissione ottica, sul consumo di materiale e sul tempo di deposizione. Lo spessore ottimale dipende quindi dai requisiti dell\u2019applicazione piuttosto che dalla sola conduttivit\u00e0 elettrica.<\/p>

\u00c8 inoltre importante distinguere tra resistivit\u00e0 e resistenza di foglio. La resistivit\u00e0 descrive una propriet\u00e0 del materiale, mentre la resistenza di foglio \u00e8 comunemente utilizzata per caratterizzare le prestazioni elettriche dei film sottili ed \u00e8 espressa in \u03a9\/sq.<\/p>

4. Cristallinit\u00e0, difetti e morfologia superficiale<\/strong><\/p>

La microstruttura di un film di FTO influenza il trasporto dei portatori di carica e il comportamento ottico. La cristallinit\u00e0, i bordi di grano, i difetti e la rugosit\u00e0 superficiale possono influire sulla mobilit\u00e0 dei portatori di carica, sulla dispersione e sull\u2019uniformit\u00e0 del rivestimento depositato.<\/p>

La temperatura di deposizione e il successivo trattamento termico possono alterare lo sviluppo dei grani e la distribuzione dei difetti. A seconda del processo, questi cambiamenti possono migliorare alcune propriet\u00e0, pur avendo effetti limitati o negativi su altre.<\/p>

Per le applicazioni che prevedono strati funzionali aggiuntivi, come i dispositivi fotovoltaici, anche la morfologia superficiale pu\u00f2 influenzare il contatto interfacciale e le prestazioni del dispositivo. Pertanto, potrebbe essere necessario integrare le misurazioni elettriche e ottiche con una caratterizzazione strutturale o superficiale.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Metodi di deposizione di film sottili FTO<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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I film sottili FTO possono essere preparati utilizzando diverse tecniche di deposizione. Ciascun metodo offre vantaggi diversi in termini di controllo del processo, compatibilit\u00e0 con i substrati, requisiti delle apparecchiature e scala di produzione.<\/p>

Sputtering: <\/strong>lo sputteringmagnetronico <\/strong>\u00e8 una tecnica di deposizione fisica da vapore utilizzata per formare film sottili a partire da un bersaglio solido. Il processo di deposizione consente di controllare lo spessore del film, la velocit\u00e0 di deposizione e l\u2019atmosfera di processo. \u00c8 inoltre possibile ricorrere allo sputtering reattivo utilizzando materiali bersaglio adeguati e una chimica di processo contenente fluoro.<\/p>

Le propriet\u00e0 del film risultante dipendono dalla composizione del bersaglio, dalla potenza di sputtering, dalla pressione di lavoro, dalla portata del gas, dalla temperatura del substrato e da altri parametri di processo. Lo sputtering \u00e8 particolarmente indicato quando sono richieste una deposizione controllata del film sottile e la compatibilit\u00e0 con le apparecchiature di rivestimento sotto vuoto.<\/p>

Pirolisi a spruzzo: <\/strong>la pirolisia spruzzo <\/strong>consiste nel spruzzare una soluzione di precursori su un substrato riscaldato, dove la decomposizione termica e le reazioni chimiche producono il rivestimento di ossido. \u00c8 possibile incorporare nella soluzione precursori contenenti fluoro per formare film di FTO.<\/p>

Il metodo pu\u00f2 essere adatto al rivestimento di superfici relativamente ampie, compreso il vetro conduttivo. La qualit\u00e0 del film dipende dalla composizione chimica dei precursori, dalla temperatura del substrato, dalle condizioni di spruzzatura e dall\u2019uniformit\u00e0 del materiale depositato.<\/p>

Deposizione chimica da vapore: <\/strong>la deposizionechimica <\/strong>da vapore (CVD) forma un rivestimento attraverso reazioni chimiche che coinvolgono precursori gassosi sulla superficie del substrato o in prossimit\u00e0 di essa. \u00c8 possibile utilizzare sistemi di precursori adeguati per depositare rivestimenti di ossido di stagno drogato con fluoro.<\/p>

La CVD viene impiegata in processi in cui l\u2019uniformit\u00e0 del rivestimento, la copertura del substrato e i requisiti di produzione giustificano l\u2019utilizzo delle attrezzature e dei controlli di processo associati. Le propriet\u00e0 ottenibili del film dipendono dalla scelta dei precursori, dalle condizioni di reazione, dalla temperatura del substrato e dalla velocit\u00e0 di deposizione.<\/p>

Confronto tra i metodi di deposizione<\/strong><\/p>
Fattore<\/strong><\/td>Sputtering<\/strong><\/td>Pirolisi a spruzzo<\/strong><\/td>CVD<\/strong><\/td><\/tr>
Meccanismo di deposizione<\/td>Deposizione fisica da vapore<\/td>Spruzzatura del precursore e reazione termica<\/td>Reazione chimica in fase gassosa<\/td><\/tr>
Ambiente di processo<\/td>Sottovuoto<\/td>Substrato riscaldato e spruzzatura controllata<\/td>Ambiente di reazione controllato<\/td><\/tr>
Variabili chiave del processo<\/td>Potenza, pressione, flusso di gas, temperatura del substrato<\/td>Composizione della soluzione, portata di nebulizzazione, temperatura del substrato<\/td>Composizione chimica dei precursori, temperatura, portata del gas<\/td><\/tr>
Considerazioni tipiche<\/td>Controllo del film e compatibilit\u00e0 delle apparecchiature<\/td>

Area di rivestimento e controllo dei precursori<\/p><\/td>

Copertura, uniformit\u00e0 e chimica di processo<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>

Il metodo di deposizione pi\u00f9 appropriato dipende dal substrato, dalle propriet\u00e0 richieste del film, dalla scala di produzione e dalle attrezzature disponibili. I risultati ottenuti con metodi diversi non dovrebbero essere confrontati senza considerare le rispettive condizioni di lavorazione.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"Metodi\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Applicazioni dei film sottili di FTO<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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L’FTO viene utilizzato in applicazioni in cui sono richieste sia la conduttivit\u00e0 elettrica che la trasparenza ottica.<\/p>

1. Dispositivi fotovoltaici: <\/strong>i film sottilidi FTO <\/strong>sono comunemente utilizzati come elettrodi conduttivi trasparenti nelle celle solari sensibilizzate con colorante e in alcune architetture di celle solari a perovskite. Consentono alla luce di passare nello strato assorbente fornendo al contempo un percorso conduttivo per la raccolta delle cariche. La resistenza di foglio, la trasmittanza ottica e la morfologia superficiale sono fattori importanti che influenzano le prestazioni del dispositivo.<\/p>

2. Vetro conduttivo: <\/strong>il vetrorivestito con FTO <\/strong>offre una superficie trasparente ed elettricamente conduttiva per vetrate architettoniche e altre applicazioni funzionali del vetro. La combinazione di trasparenza ottica e conduttivit\u00e0 elettrica lo rende adatto ad applicazioni quali il vetro elettricamente conduttivo e le vetrate riscaldate. L\u2019uniformit\u00e0 del rivestimento, l\u2019adesione e la stabilit\u00e0 elettrica sono fattori importanti da considerare per un utilizzo a lungo termine.<\/p>

3. Dispositivi optoelettronici: l\u2019FTO <\/strong>pu\u00f2 fungere da elettrodo trasparente in determinati dispositivi optoelettronici che richiedono trasmissione della luce e contatto elettrico. La sua idoneit\u00e0 dipende dalla struttura del dispositivo, dalla lunghezza d\u2019onda operativa, dalla conduttivit\u00e0 richiesta e dalla compatibilit\u00e0 con gli strati funzionali adiacenti.<\/p>

4. Rivestimenti funzionali: <\/strong>i rivestimentiin FTO <\/strong>possono essere utilizzati su vetro e altri substrati idonei quando \u00e8 necessaria una superficie conduttiva trasparente. A seconda dell\u2019applicazione, il rivestimento pu\u00f2 fornire funzionalit\u00e0 elettrica senza ostacolare in modo sostanziale la luce visibile. Durante la selezione del materiale \u00e8 necessario considerare la compatibilit\u00e0 del substrato, le condizioni di deposizione, l\u2019uniformit\u00e0 del rivestimento e la stabilit\u00e0 ambientale.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"Film\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Domande frequenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>1. Che cos\u2019\u00e8 un film sottile FTO?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Un film sottile FTO \u00e8 un rivestimento conduttivo trasparente costituito da biossido di stagno (SnO\u2082) drogato con fluoro. Combina la conduttivit\u00e0 elettrica con la trasmissione della luce visibile e viene utilizzato nei dispositivi fotovoltaici, nel vetro conduttivo e in alcune applicazioni optoelettroniche.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>2. Qual \u00e8 la differenza tra l'FTO e l'SnO\u2082?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Lo SnO\u2082 \u00e8 il biossido di stagno, mentre l\u2019FTO \u00e8 il biossido di stagno drogato con fluoro. L\u2019incorporazione del fluoro pu\u00f2 aumentare la concentrazione di elettroni liberi e modificare la conduttivit\u00e0 elettrica. Tuttavia, le propriet\u00e0 finali del film dipendono anche dalla cristallinit\u00e0, dai difetti, dallo spessore e dalle condizioni di deposizione.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>3. Da cosa dipende la conduttivit\u00e0 elettrica dei film di FTO?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

La conduttivit\u00e0 elettrica dei film di FTO dipende principalmente dalla concentrazione dei portatori di carica e dalla loro mobilit\u00e0. L’incorporazione di fluoro pu\u00f2 influire sulla concentrazione dei portatori di carica, mentre i difetti, i confini di grano e la cristallinit\u00e0 influenzano il trasporto dei portatori di carica. Anche le condizioni di deposizione svolgono un ruolo importante nel determinare le prestazioni elettriche finali.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>4. Perch\u00e9 lo spessore del film FTO \u00e8 importante?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Lo spessore del film FTO influisce sia sulla resistenza di foglio che sulla trasmissione ottica. A parit\u00e0 di resistivit\u00e0, aumentando lo spessore di un film uniforme si riduce generalmente la resistenza di foglio. Tuttavia, uno spessore eccessivo pu\u00f2 influire sulla trasmissione della luce, pertanto lo spessore appropriato dipende dai requisiti dell’applicazione.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>5. Quali metodi di deposizione possono essere utilizzati per produrre film di FTO?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

I film sottili di FTO possono essere prodotti mediante sputtering, pirolisi a spruzzo e deposizione chimica da vapore (CVD). La scelta del metodo pi\u00f9 appropriato dipende dalla compatibilit\u00e0 del substrato, dalle propriet\u00e0 richieste del film, dalla scala di produzione e dalle condizioni di processo.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>6. Quali propriet\u00e0 occorre misurare nella valutazione dei film FTO?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Le misurazioni principali comprendono la resistivit\u00e0 elettrica o la resistenza di strato, la trasmittanza ottica e lo spessore del film. A seconda dell’applicazione, ulteriori analisi di caratterizzazione possono includere la morfologia superficiale, la cristallinit\u00e0, l’adesione e la stabilit\u00e0 ambientale.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Conclusione<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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I film sottili FTO combinano la conduttivit\u00e0 elettrica con la trasmissione della luce visibile, rendendoli utili nei dispositivi fotovoltaici, nel vetro conduttivo e in alcune applicazioni optoelettroniche. Le loro prestazioni dipendono dall\u2019incorporazione di fluoro, dal trasporto dei portatori di carica, dallo spessore del film, dalla microstruttura e dalle condizioni di deposizione.<\/p>

Nessun singolo parametro descrive appieno la qualit\u00e0 di un film di FTO. Le propriet\u00e0 elettriche e ottiche devono essere valutate congiuntamente in condizioni di lavorazione e misurazione ben definite. Comprendere la relazione tra i metodi di deposizione e le caratteristiche del film aiuta a identificare le condizioni di processo adeguate per l\u2019applicazione prevista.<\/p>

Per le specifiche relative ai materiali, consultare ULPMAT<\/a><\/span>\u2019s FTO Sputtering Target<\/a> <\/span>e pagine dedicate ai materiali a base di ossidi conduttivi trasparenti<\/a> <\/span>.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Bibliografia<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t1. Dalapati, G. K. et al. \u201cL\u2019ossido di stagno nei dispositivi optoelettronici, fotovoltaici e di accumulo di energia: una rassegna.\u201d Journal of Materials Chemistry A, 2021, 9, 16621\u201316684.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t2. Banyamin, Z. Y. et al. \u201cPropriet\u00e0 elettriche e ottiche di film sottili di ossido di stagno drogato con fluoro preparati mediante sputtering magnetronico.\u201d Coatings, 2014, 4(4), 732\u2013746.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

    Il team tecnico di ULPMAT \u00e8 specializzato in materiali inorganici ad alta purezza e bersagli per sputtering, con particolare attenzione agli ossidi conduttivi trasparenti (TCO), alla deposizione di film sottili e alla valutazione delle prestazioni dei materiali.<\/p>\n","protected":false},"author":4,"featured_media":59744,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[1214],"tags":[],"class_list":["post-59742","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-blog"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/59742","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/users\/4"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=59742"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/59742\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":59747,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/59742\/revisions\/59747"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/59744"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=59742"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=59742"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=59742"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}