{"id":58569,"date":"2026-09-03T17:01:38","date_gmt":"2026-09-03T09:01:38","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/qualita-dei-bersagli-di-sputtering-igzo-in-che-modo-la-purezza-la-composizione-e-la-densita-influenzano-le-prestazioni-dei-film-sottili\/"},"modified":"2026-09-03T17:51:21","modified_gmt":"2026-09-03T09:51:21","slug":"qualita-dei-bersagli-di-sputtering-igzo-in-che-modo-la-purezza-la-composizione-e-la-densita-influenzano-le-prestazioni-dei-film-sottili","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/qualita-dei-bersagli-di-sputtering-igzo-in-che-modo-la-purezza-la-composizione-e-la-densita-influenzano-le-prestazioni-dei-film-sottili\/","title":{"rendered":"Qualit\u00e0 dei bersagli di sputtering IGZO: in che modo la purezza, la composizione e la densit\u00e0 influenzano le prestazioni dei film sottili"},"content":{"rendered":"\t\t<div data-elementor-type=\"wp-post\" data-elementor-id=\"58569\" class=\"elementor elementor-58569 elementor-58549\" data-elementor-post-type=\"post\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-dd43b2e e-flex e-con-boxed e-con e-parent\" data-id=\"dd43b2e\" data-element_type=\"container\" data-e-type=\"container\">\n\t\t\t\t\t<div class=\"e-con-inner\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e9efdfc elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"e9efdfc\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-indio-gallio-zinco-igzo\/\">I bersagli di sputtering IGZO <\/a><\/span>sono diventati un importante <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-per-semiconduttori\/\">semiconduttore<\/a> <\/span>per i transistor a film sottile (TFT) e per applicazioni elettroniche avanzate grazie alla sua elevata trasparenza, all\u2019adeguata mobilit\u00e0 dei portatori di carica e alla compatibilit\u00e0 con la deposizione di film sottili su grandi superfici.<\/p><p>In un processo di sputtering IGZO, il materiale del bersaglio costituisce la fonte del film depositato. Pertanto, la qualit\u00e0 del bersaglio di sputtering influisce direttamente sulla composizione, sulle caratteristiche dei difetti e sulla stabilit\u00e0 dello strato di IGZO risultante. A differenza dei bersagli di ossido monocomponente, i bersagli di sputtering IGZO contengono pi\u00f9 componenti di ossido, tra cui <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-indio\/\">In\u2082O\u2083<\/a>, <a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-gallio\/\">Ga\u2082O\u2083<\/a> e <a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-zinco\/\">ZnO<\/a>.<\/span> Piccole variazioni nella composizione, nei livelli di impurit\u00e0 o nella struttura ceramica possono influenzare le propriet\u00e0 elettriche del film sottile e l\u2019uniformit\u00e0 della deposizione. Per questo motivo, i bersagli di sputtering per ossido di indio-gallio-zinco di alta qualit\u00e0 richiedono non solo un\u2019elevata purezza, ma anche una composizione controllata, una struttura uniforme e propriet\u00e0 fisiche stabili.<\/p><p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/informazioni-su-ulpmat\/\">ULPMAT<\/a> <\/span>fornisce bersagli di sputtering in ossido di indio-gallio-zinco (IGZO) con composizione chimica, livelli di impurit\u00e0 e densit\u00e0 controllati, nonch\u00e9 specifiche personalizzate per applicazioni con semiconduttori a base di ossidi.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-5e3b875 elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"5e3b875\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/IGZO-Sputtering-Target.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58570\" alt=\"Target di sputtering IGZO per la deposizione di film sottili di semiconduttori a base di ossido\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/IGZO-Sputtering-Target.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/IGZO-Sputtering-Target-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/IGZO-Sputtering-Target-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-4ef783d elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"4ef783d\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Che cos\u2019\u00e8 un bersaglio di sputtering IGZO?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e3bf379 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"e3bf379\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Il bersaglio di sputtering IGZO \u00e8 un materiale semiconduttore a base di ossido ceramico utilizzato nei sistemi PVD (deposizione fisica da vapore) per depositare film sottili di IGZO.<\/p><p>I componenti principali dell&#8217;IGZO sono:<\/p><p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-indio\/\">Ossido di indio (In\u2082O\u2083)<\/a><\/span><br \/><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-gallio\/\">Ossido di gallio (Ga\u2082O\u2083)<\/a><\/span><br \/><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"http:\/\/IGZO sputtering target is a ceramic oxide semiconductor material used in PVD (Physical Vapor Deposition) systems to deposit IGZO thin films. The main components of IGZO are: Indium oxide (In\u2082O\u2083) Gallium oxide (Ga\u2082O\u2083) Zinc oxide (ZnO) A commonly used composition is: In\u2082O\u2083 : Ga\u2082O\u2083 : ZnO = 1 : 1 : 1 mol% During magnetron sputtering, plasma ions bombard the target surface and transfer atoms from the ceramic target to the substrate. The deposited atoms form an IGZO semiconductor layer for applications such as TFT backplanes, display electronics, oxide semiconductor devices and transparent electronic components.Because the deposited film inherits the elemental composition of the target, controlling IGZO target quality is an important step in achieving consistent thin-film performance.\" data-wplink-url-error=\"true\">Ossido di zinco (ZnO)<\/a><\/span><\/p><p>Una composizione comunemente utilizzata \u00e8:<\/p><p>In\u2082O\u2083 : Ga\u2082O\u2083 : ZnO = 1 : 1 : 1 mol%<\/p><p>Durante la deposizione per sputtering magnetronico, gli ioni del plasma bombardano la superficie del bersaglio e trasferiscono gli atomi dal bersaglio ceramico al substrato. Gli atomi depositati formano uno strato semiconduttore IGZO per applicazioni quali <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/product-category\/materiali-di-prima-scelta\/ossidi-conduttivi-trasparenti-tcos\/\">backplane TFT<\/a> <\/span>, l\u2019elettronica per display, i dispositivi a semiconduttori di ossido e i componenti elettronici trasparenti. Poich\u00e9 il film depositato eredita la composizione elementare del bersaglio, il controllo della qualit\u00e0 del bersaglio IGZO rappresenta un passo importante per ottenere prestazioni costanti del film sottile.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e98693b elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"e98693b\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Perch\u00e9 la composizione del bersaglio IGZO influisce sulle prestazioni del film sottile?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-d3145ca elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"d3145ca\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Il controllo della composizione \u00e8 uno dei fattori pi\u00f9 importanti per i bersagli di sputtering IGZO. L\u2019IGZO non \u00e8 semplicemente una miscela di tre ossidi. L\u2019interazione tra indio, gallio e zinco determina le caratteristiche elettriche del film semiconduttore depositato.<\/p><ul><li>L\u2019ossido di indio (In\u2082O\u2083) contribuisce al trasporto di elettroni e alla mobilit\u00e0 dei portatori di carica.<\/li><li>L\u2019ossido di gallio (Ga\u2082O\u2083) aiuta a regolare i difetti legati all\u2019ossigeno e migliora la stabilit\u00e0 del semiconduttore.<\/li><li>L\u2019ossido di zinco (ZnO) influenza le caratteristiche strutturali e il comportamento dei portatori di carica del materiale.<\/li><\/ul><p>Durante la deposizione per sputtering, gli atomi provenienti dal bersaglio vengono trasferiti direttamente nel film sottile. Pertanto, le variazioni del rapporto In\/Ga\/Zn possono modificare la composizione chimica e le propriet\u00e0 elettriche dello strato depositato. La ricerca sui target IGZO ha dimostrato che diverse composizioni e strutture di fase dei target possono influenzare la velocit\u00e0 di deposizione, le propriet\u00e0 ottiche, la morfologia e le prestazioni elettriche dei film IGZO. Per questo motivo, una composizione uniforme in tutto il target ceramico \u00e8 essenziale per ottenere risultati di sputtering stabili.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-1e046aa elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"1e046aa\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">In che modo il controllo della purezza e dell\u2019impurit\u00e0 influisce sui film sottili di IGZO?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-608f978 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"608f978\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Nelle applicazioni con semiconduttori a base di ossido, la purezza del bersaglio \u00e8 un fattore importante per il controllo della contaminazione durante la deposizione di film sottili. Durante la polverizzazione, gli atomi del materiale del bersaglio vengono trasferiti direttamente nello strato di IGZO depositato. Pertanto, tracce di impurit\u00e0 presenti nel bersaglio possono incorporarsi nel film e influenzare gli stati di difetto, la concentrazione dei portatori di carica e la stabilit\u00e0 elettrica. Nei film semiconduttori IGZO, le caratteristiche elettriche sono strettamente correlate alla chimica dei difetti, in particolare a quelli legati all\u2019ossigeno. Le impurit\u00e0 non controllate possono influire sull\u2019uniformit\u00e0 del film e determinare variazioni in:<\/p><ul><li>Concentrazione dei difetti<\/li><li>Propriet\u00e0 elettriche<\/li><li>Ripetibilit\u00e0 del processo<\/li><li>Generazione di particelle durante la deposizione<\/li><\/ul><p>Per questo motivo, il controllo delle impurit\u00e0 in tracce \u00e8 essenziale per mantenere stabili le prestazioni dei film sottili IGZO.<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/exportpages.cn\/my-account\/companies\/154087\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">ULPMAT<\/a> <\/span>I target di sputtering IGZO sono forniti con una purezza del 99,99%. I livelli di impurit\u00e0 in tracce sono controllati in base alla <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/ricerca-e-sviluppo\/\">requisiti di qualit\u00e0 del materiale<\/a><\/span> . Sulla base dei dati delle ispezioni di qualit\u00e0 di ULPMAT, un campione rappresentativo di bersaglio di sputtering IGZO ha mostrato un contenuto totale di impurit\u00e0 pari a 37 ppm, mentre il requisito specificato per le impurit\u00e0 \u00e8 fissato a \u2264100 ppm.<\/p><p>I livelli effettivi di impurit\u00e0 possono variare leggermente da un lotto di produzione all\u2019altro. \u00c8 possibile fornire la composizione chimica dettagliata e i dati di controllo in base alle esigenze del cliente.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-673d2de elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"673d2de\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Perch\u00e9 la densit\u00e0 e la microstruttura sono importanti per i bersagli di sputtering IGZO?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-8f1257a elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"8f1257a\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Oltre alla composizione chimica, anche la struttura fisica dei bersagli ceramici per sputtering IGZO influisce sulla stabilit\u00e0 dello sputtering e sull\u2019uniformit\u00e0 della deposizione. Durante lo sputtering, gli ioni del plasma bombardano continuamente la superficie del bersaglio. La densit\u00e0, la porosit\u00e0 e la microstruttura del bersaglio ceramico influenzano l\u2019uniformit\u00e0 dell\u2019erosione del bersaglio durante la deposizione.<\/p><p>Un bersaglio con densit\u00e0 controllata e microstruttura uniforme pu\u00f2 contribuire a ridurre l\u2019erosione anomala, minimizzare la generazione di particelle e mantenere condizioni di sputtering stabili durante i processi di deposizione di lunga durata. Per la <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/product-category\/materiali-per-deposizione-di-film-sottili\/target-di-sputtering-in-ceramica\/\">bersagli in ceramica<\/a> <\/span>, la densit\u00e0 viene solitamente valutata insieme all\u2019uniformit\u00e0 della composizione e all\u2019integrit\u00e0 strutturale. Un\u2019eccessiva porosit\u00e0 o la presenza di difetti interni possono portare a un comportamento di sputtering instabile e compromettere la ripetibilit\u00e0 della deposizione.<\/p><p>Pertanto, la densit\u00e0 e la microstruttura del bersaglio sono importanti <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/ricerca-e-sviluppo\/\">fattori di qualit\u00e0<\/a><\/span> nella valutazione dei bersagli di sputtering IGZO, sebbene le prestazioni finali del film sottile dipendano anche da parametri di sputtering quali potenza, atmosfera gassosa, pressione parziale dell\u2019ossigeno e condizioni del substrato.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-d74a500 elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"d74a500\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/Quality-inspection-of-IGZO-sputtering-target.jpg\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58571\" alt=\"Controllo di qualit\u00e0 della composizione e della purezza dei bersagli di sputtering IGZO\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/Quality-inspection-of-IGZO-sputtering-target.jpg 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/Quality-inspection-of-IGZO-sputtering-target-300x225.jpg 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/09\/Quality-inspection-of-IGZO-sputtering-target-600x450.jpg 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-39c13f2 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"39c13f2\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">In che modo ULPMAT controlla la qualit\u00e0 dei target per sputtering IGZO?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-37a67d0 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"37a67d0\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Per i bersagli di sputtering IGZO, il raggiungimento di prestazioni costanti del film sottile richiede il controllo di molteplici fattori relativi al materiale, anzich\u00e9 basarsi esclusivamente sulla purezza. ULPMAT valuta i bersagli di sputtering IGZO attraverso procedure complete di controllo qualit\u00e0, tra cui:<\/p><table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 144px;\"><tbody><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 43.133%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\"><strong>Valutazione della qualit\u00e0<\/strong><\/td><td style=\"width: 56.867%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\"><strong>Scopo<\/strong><\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 43.133%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Analisi della composizione chimica<\/td><td style=\"width: 56.867%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Verifica della costanza del rapporto In\/Ga\/Zn<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 43.133%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Test di purezza<\/td><td style=\"width: 56.867%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Confermare la qualit\u00e0 del materiale<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 43.133%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Analisi delle impurit\u00e0 in tracce<\/td><td style=\"width: 56.867%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Controllo dei rischi di contaminazione<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 43.133%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Valutazione della densit\u00e0 e della struttura<\/td><td style=\"width: 56.867%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Valutazione dell&#8217;integrit\u00e0 del bersaglio ceramico<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 43.133%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Ispezione dimensionale<\/td><td style=\"width: 56.867%; border-style: solid; border-color: #2e2c2c; height: 24px; text-align: center;\">Garantire la compatibilit\u00e0 con le apparecchiature di sputtering<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><p>Per i bersagli a semiconduttore in ossido multicomponente come l\u2019IGZO, \u00e8 essenziale mantenere l\u2019uniformit\u00e0 della composizione e la consistenza del materiale, poich\u00e9 le variazioni nel bersaglio possono influenzare la stabilit\u00e0 dello sputtering e le propriet\u00e0 del film depositato.<\/p><p>Le specifiche tecniche dettagliate, le caratteristiche dei materiali e le informazioni sulla qualit\u00e0 sono riportate nella <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2025\/11\/IGZO-Sputtering-Target_TDS.pdf\">scheda tecnica (TDS) del target di sputtering IGZO<\/a> <\/span>a disposizione dei clienti per la valutazione.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-045f0db elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"045f0db\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Target di sputtering IGZO e prestazioni dei film sottili<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-5f4bab9 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"5f4bab9\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\" data-start=\"6853\" data-end=\"6945\">La relazione tra la qualit\u00e0 del bersaglio e le prestazioni del film sottile IGZO pu\u00f2 essere riassunta come segue:<\/p><div class=\"group TyagGW_tableContainer TyagGW_tableContainerWithTableOfContents\"><div class=\"TyagGW_tableWrapper flex flex-col-reverse w-fit\" tabindex=\"-1\"><table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 171px;\"><tbody><tr style=\"height: 48px;\"><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Fattore del bersaglio<\/strong><\/td><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Influenza sul film<\/strong><\/td><\/tr><tr style=\"height: 19px;\"><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; text-align: center; height: 19px;\">Uniformit\u00e0 della composizione<\/td><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; text-align: center; height: 19px;\">Controlla la coerenza degli elementi<\/td><\/tr><tr style=\"height: 32px;\"><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; text-align: center; height: 32px;\">Elevata purezza<\/td><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 32px; text-align: center;\">Riduce il rischio di contaminazione<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 24px; text-align: center;\">Basso livello di impurit\u00e0<\/td><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 24px; text-align: center;\">Migliora la stabilit\u00e0 elettrica<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 24px; text-align: center;\">Alta densit\u00e0<\/td><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 24px; text-align: center;\">Favorisce uno sputtering stabile<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 24px; text-align: center;\">Microstruttura uniforme<\/td><td style=\"width: 50%; border-style: solid; border-color: #bec7e8; height: 24px; text-align: center;\">Riduce la variazione di deposizione<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><p>Tuttavia, le prestazioni del film sottile dipendono dalle propriet\u00e0 del bersaglio e dai parametri di deposizione, tra cui la potenza di sputtering, l\u2019atmosfera gassosa, la pressione parziale dell\u2019ossigeno e le condizioni del substrato. Bersagli di sputtering IGZO affidabili forniscono una fonte stabile di materiale, evitando cos\u00ec variazioni legate al materiale durante lo sviluppo e la produzione del film sottile.<\/p><\/div><\/div>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-f89a6af elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"f89a6af\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Conclusione<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-7aa843d elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"7aa843d\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<div class=\"QFw9Te BLojaf\"><div class=\"QFw9Te BLojaf\">La qualit\u00e0 dei bersagli di sputtering IGZO riveste un ruolo fondamentale nelle prestazioni dei film sottili, poich\u00e9 il bersaglio determina direttamente la composizione chimica e l\u2019uniformit\u00e0 del materiale del film depositato. Per le applicazioni con semiconduttori a base di ossidi, l\u2019elevata purezza da sola non \u00e8 sufficiente. Una composizione stabile di In\/Ga\/Zn, livelli controllati di impurit\u00e0, una densit\u00e0 adeguata e una struttura ceramica uniforme sono tutti requisiti indispensabili per garantire prestazioni di sputtering affidabili. Controllando questi parametri del materiale, ULPMAT fornisce target di sputtering IGZO progettati per processi di deposizione stabili e applicazioni nei semiconduttori a ossido.<\/div><\/div>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-3baf786 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"3baf786\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Domande frequenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-1152677 elementor-widget elementor-widget-eael-adv-accordion\" data-id=\"1152677\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"eael-adv-accordion.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t            <div class=\"eael-adv-accordion\" id=\"eael-adv-accordion-1152677\" data-scroll-on-click=\"no\" data-scroll-speed=\"300\" data-accordion-id=\"1152677\" data-accordion-type=\"accordion\" data-toogle-speed=\"300\">\n            <div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"quali-fattori-determinano-la-qualit-di-un-bersaglio-di-sputtering-igzo\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"1\" aria-controls=\"elementor-tab-content-1811\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Quali fattori determinano la qualit\u00e0 di un bersaglio di sputtering IGZO?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-1811\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"1\" aria-labelledby=\"quali-fattori-determinano-la-qualit-di-un-bersaglio-di-sputtering-igzo\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">La qualit\u00e0 di un bersaglio di sputtering IGZO dipende dall&#8217;uniformit\u00e0 della composizione, dalla purezza, dal controllo delle impurit\u00e0, dalla densit\u00e0, dalla microstruttura e dalla precisione dimensionale. Un bersaglio IGZO di alta qualit\u00e0 mantiene un rapporto In\/Ga\/Zn stabile e una struttura ceramica omogenea, il che contribuisce a garantire prestazioni di sputtering stabili e propriet\u00e0 affidabili del film sottile IGZO.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"perch-la-purezza-importante-per-i-bersagli-di-sputtering-igzo\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"2\" aria-controls=\"elementor-tab-content-1812\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Perch\u00e9 la purezza \u00e8 importante per i bersagli di sputtering IGZO?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-1812\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"2\" aria-labelledby=\"perch-la-purezza-importante-per-i-bersagli-di-sputtering-igzo\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">La purezza \u00e8 importante perch\u00e9, durante il processo di sputtering, le impurit\u00e0 presenti nel bersaglio possono essere trasferite nel film sottile di IGZO depositato. Livelli controllati di impurit\u00e0 contribuiscono a ridurre i rischi di contaminazione, a minimizzare le variazioni legate ai difetti e a migliorare la stabilit\u00e0 elettrica e la ripetibilit\u00e0 del processo nelle applicazioni con semiconduttori a base di ossidi.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"in-che-modo-la-composizione-del-bersaglio-igzo-influisce-sulle-propriet-del-film-sottile\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"3\" aria-controls=\"elementor-tab-content-1813\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">In che modo la composizione del bersaglio IGZO influisce sulle propriet\u00e0 del film sottile?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-1813\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"3\" aria-labelledby=\"in-che-modo-la-composizione-del-bersaglio-igzo-influisce-sulle-propriet-del-film-sottile\"><p>Il rapporto composizionale In\/Ga\/Zn influenza direttamente le propriet\u00e0 elettriche e strutturali dei film sottili di IGZO. L\u2019In\u2082O\u2083 contribuisce al trasporto degli elettroni, il Ga\u2082O\u2083 aiuta a controllare i difetti legati all\u2019ossigeno e lo ZnO incide sulle caratteristiche strutturali. Pertanto, un controllo accurato della composizione \u00e8 essenziale per garantire prestazioni costanti del semiconduttore.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"perch-la-densit-importante-per-i-bersagli-di-sputtering-in-ceramica-igzo\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"4\" aria-controls=\"elementor-tab-content-1814\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Perch\u00e9 la densit\u00e0 \u00e8 importante per i bersagli di sputtering in ceramica IGZO?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-1814\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"4\" aria-labelledby=\"perch-la-densit-importante-per-i-bersagli-di-sputtering-in-ceramica-igzo\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">La densit\u00e0 influisce sulla stabilit\u00e0 dello sputtering, sul comportamento di erosione del bersaglio e sull&#8217;uniformit\u00e0 della deposizione. I bersagli di sputtering in IGZO ad alta densit\u00e0 con microstruttura uniforme possono ridurre la generazione di particelle, migliorare l&#8217;utilizzo del bersaglio e garantire una deposizione stabile del film sottile durante i processi di sputtering di lunga durata.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"quali-caratteristiche-tecniche-dovrei-verificare-prima-di-acquistare-un-bersaglio-di-sputtering-igzo\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"5\" aria-controls=\"elementor-tab-content-1815\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Quali caratteristiche tecniche dovrei verificare prima di acquistare un bersaglio di sputtering IGZO?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-1815\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"5\" aria-labelledby=\"quali-caratteristiche-tecniche-dovrei-verificare-prima-di-acquistare-un-bersaglio-di-sputtering-igzo\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">Prima di acquistare un bersaglio di sputtering IGZO, \u00e8 importante considerare alcune specifiche fondamentali, tra cui la purezza, il rapporto composizionale In\/Ga\/Zn, i livelli di impurit\u00e0, la densit\u00e0, le dimensioni, i requisiti di incollaggio e la documentazione tecnica disponibile, come le schede tecniche (TDS) e i rapporti di controllo qualit\u00e0. Questi parametri contribuiscono a garantire la compatibilit\u00e0 con le apparecchiature di sputtering e i requisiti applicativi.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"una-maggiore-purezza-garantisce-sempre-film-sottili-igzo-di-qualit-superiore\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"6\" aria-controls=\"elementor-tab-content-1816\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Una maggiore purezza garantisce sempre film sottili IGZO di qualit\u00e0 superiore?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-1816\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"6\" aria-labelledby=\"una-maggiore-purezza-garantisce-sempre-film-sottili-igzo-di-qualit-superiore\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">No. Una maggiore purezza riduce i rischi di contaminazione, ma le prestazioni del film sottile IGZO dipendono anche dalla precisione della composizione, dalla densit\u00e0 del bersaglio, dalla microstruttura, dai parametri di sputtering, dalla pressione parziale dell&#8217;ossigeno e dalle condizioni del substrato. Un bersaglio IGZO ad alte prestazioni richiede un controllo equilibrato sia delle propriet\u00e0 chimiche che di quelle fisiche.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-5a286c0 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"5a286c0\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Riferimenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e3861fd elementor-icon-list--layout-traditional elementor-list-item-link-full_width elementor-widget elementor-widget-icon-list\" data-id=\"e3861fd\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"icon-list.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t<ul class=\"elementor-icon-list-items\">\n\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">1. Kamiya T., Nomura K., Hosono H. Stato attuale dei transistor a film sottile amorfi in In\u2013Ga\u2013Zn\u2013O. Science and Technology of Advanced Materials, 2010.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">2. Nomura K. et al. Realizzazione a temperatura ambiente di transistor a film sottile trasparenti e flessibili utilizzando semiconduttori a base di ossidi amorfi. Nature, 2004.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>La scelta di un bersaglio di sputtering IGZO affidabile non si limita alla sola elevata purezza. 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