{"id":58148,"date":"2026-08-24T15:01:47","date_gmt":"2026-08-24T07:01:47","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/target-di-sputtering-cspbbr%e2%82%83-e-cspbi%e2%82%83-come-scegliere-il-materiale-giusto\/"},"modified":"2026-08-24T15:26:43","modified_gmt":"2026-08-24T07:26:43","slug":"target-di-sputtering-cspbbr%e2%82%83-e-cspbi%e2%82%83-come-scegliere-il-materiale-giusto","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/target-di-sputtering-cspbbr%e2%82%83-e-cspbi%e2%82%83-come-scegliere-il-materiale-giusto\/","title":{"rendered":"Target di sputtering CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083: come scegliere il materiale giusto?"},"content":{"rendered":"\t\t<div data-elementor-type=\"wp-post\" data-elementor-id=\"58148\" class=\"elementor elementor-58148 elementor-58111\" data-elementor-post-type=\"post\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-20e0065 e-flex e-con-boxed e-con e-parent\" data-id=\"20e0065\" data-element_type=\"container\" data-e-type=\"container\">\n\t\t\t\t\t<div class=\"e-con-inner\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-97d156c elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"97d156c\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/bromuro-di-cesio-e-piombo\/\">CsPbBr\u2083<\/a><\/span> Vs <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ioduro-di-piombo-e-cesio\/\">CsPbI\u2083<\/a><\/span> sono due importanti perovskiti a base di alogenuri di piombo interamente inorganiche <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/target-di-sputtering-in-perovskite-tipologie-materiali-guida-alla-scelta-e-personalizzazione\/\">perovskiti<\/a> <\/span>per la ricerca nel campo dell\u2019optoelettronica e dei film sottili. Condividono la stessa struttura perovskitica CsPbX\u2083, ma la sostituzione di Br\u207b con I\u207b produce differenze significative nel bandgap e nella stabilit\u00e0 di fase.Il CsPbBr\u2083 presenta generalmente un gap di banda di circa 2,3\u20132,4 eV, mentre le fasi nere fotoattive del CsPbI\u2083 si collocano generalmente nell\u2019intervallo 1,7\u20131,8 eV. Il valore esatto dipende dalla fase cristallina, dalla struttura del film, dalla temperatura e dal metodo di misurazione. Per le applicazioni di sputtering, la banda proibita \u00e8 solo uno dei fattori di selezione. Anche la stabilit\u00e0 di fase, le condizioni del substrato, i parametri di sputtering, lo spessore del film e il trattamento post-deposizione possono influenzare il film sottile finale.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-789c592 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"789c592\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">CsPbBr\u2083 vs CsPbI\u2083: differenze principali<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-faaf315 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"faaf315\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 225px;\"><tbody><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 24px;\"><strong>Propriet\u00e0<\/strong><\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 24px;\"><strong>CsPbBr\u2083<\/strong><\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 24px;\"><strong>CsPbI\u2083<\/strong><\/td><\/tr><tr style=\"height: 35px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 35px;\">Composizione chimica<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 35px;\">Bromuro di cesio e piombo<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 35px;\">Ioduro di cesio e piombo<\/td><\/tr><tr style=\"height: 16px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 16px;\">Alogenuro<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 16px;\">Br\u207b<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 16px;\">I\u207b<\/td><\/tr><tr style=\"height: 29px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 29px;\">Banda proibita rappresentativa<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 29px;\">~2,3\u20132,4 eV<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; text-align: center; height: 29px;\">~1,7\u20131,8 eV<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Tipo di banda proibita<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Pi\u00f9 ampio<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Pi\u00f9 stretto<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Stabilit\u00e0 della fase perovskitica<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Relativamente favorevole<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">La fase nera \u00e8 metastabile<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Principale <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">vantaggio<\/a> <\/span>vantaggio<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Risposta nel visibile ad energia pi\u00f9 elevata<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Assorbimento a energia pi\u00f9 bassa<\/td><\/tr><tr style=\"height: 25px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 25px; text-align: center;\">Principale sfida relativa ai materiali<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 25px; text-align: center;\">Comportamento di fase dipendente dal processo<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 25px; text-align: center;\">Transizione di fase da nero a giallo<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Considerazioni relative allo sputtering<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Adatto alla ricerca sui film sottili di perovskite<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #6b6a6a; height: 24px; text-align: center;\">Richiede un&#8217;attenta strategia di controllo delle fasi<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-f000ed5 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"f000ed5\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Banda proibita e propriet\u00e0 ottiche<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-458254d elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"458254d\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Una delle principali differenze tra CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083 \u00e8 il loro bandgap. Il CsPbBr\u2083 presenta generalmente un gap di banda di circa 2,3\u20132,4 eV, mentre le fasi perovskitiche nere del CsPbI\u2083 si attestano tipicamente intorno a 1,7\u20131,8 eV. Il valore esatto pu\u00f2 variare a seconda della fase cristallina, della struttura del film, della forma del campione e delle condizioni di misurazione.La differenza \u00e8 legata allo ione alogenuro presente nel reticolo perovskitico. Lo ione I\u207b ha un raggio ionico maggiore rispetto a Br\u207b, il che modifica l\u2019ambiente del legame Pb\u2013alogenuro e la struttura elettronica in prossimit\u00e0 dei bordi di banda. La sostituzione di Br\u207b con I\u207b comporta quindi un bandgap pi\u00f9 stretto.<\/p><p>Per le applicazioni a film sottile, questa differenza influisce sulla gamma di lunghezze d\u2019onda della luce che il materiale \u00e8 in grado di assorbire. Il CsPbBr\u2083, con il suo gap di banda pi\u00f9 ampio, \u00e8 comunemente oggetto di studio per applicazioni optoelettroniche nella luce visibile, tra cui fotorilevatori, dispositivi a emissione di luce e film sottili di perovskite. Il CsPbI\u2083, con il suo gap di banda pi\u00f9 stretto, \u00e8 di particolare interesse per la ricerca nel campo del fotovoltaico e dei dispositivi tandem, dove \u00e8 importante l\u2019assorbimento di fotoni a bassa energia. Per la scelta del bersaglio di sputtering, il requisito relativo al gap di banda deve essere considerato insieme all\u2019applicazione prevista e al processo di deposizione. Il CsPbBr\u2083 rappresenta una scelta adeguata quando \u00e8 richiesta una perovskite con un gap energetico pi\u00f9 ampio, mentre il CsPbI\u2083 \u00e8 pi\u00f9 indicato quando \u00e8 necessario un gap energetico pi\u00f9 stretto.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-7023d57 elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"7023d57\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/spbbr3-vs-cspbi3-sputtering-target-ULPMAT.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58149\" alt=\"Guida alla scelta dei target di sputtering CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083 con confronto tra banda proibita e stabilit\u00e0 di fase, a cura di ULPMAT\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/spbbr3-vs-cspbi3-sputtering-target-ULPMAT.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/spbbr3-vs-cspbi3-sputtering-target-ULPMAT-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/spbbr3-vs-cspbi3-sputtering-target-ULPMAT-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-8a0c389 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"8a0c389\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Stabilit\u00e0 di fase e come controllare la fase nera<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-c21030c elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"c21030c\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p class=\"\" data-start=\"438\" data-end=\"700\">La stabilit\u00e0 di fase rappresenta una differenza importante tra <strong data-start=\"489\" data-end=\"511\">CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083<\/strong> nelle applicazioni a film sottile. Il CsPbBr\u2083 presenta generalmente una fase perovskitica pi\u00f9 stabile a temperatura ambiente, mentre il CsPbI\u2083 richiede un controllo pi\u00f9 accurato durante la formazione del film e le successive fasi di lavorazione.<\/p><p data-start=\"702\" data-end=\"1116\">Il CsPbI\u2083 pu\u00f2 formare diverse fasi perovskitiche. <strong data-start=\"755\" data-end=\"779\">Le fasi \u03b1, \u03b2 e \u03b3,<\/strong> di colore nero <strong data-start=\"820\" data-end=\"847\">,<\/strong> presentano, secondo quanto riportato <strong data-start=\"820\" data-end=\"847\">,<\/strong> bande proibite di circa <strong data-start=\"820\" data-end=\"847\">1,73, 1,68 e 1,75 eV<\/strong>, rispettivamente. La <strong data-start=\"874\" data-end=\"885\">fase \u03b4<\/strong> gialla presenta una struttura cristallina diversa e propriet\u00e0 ottiche ed elettroniche differenti. In condizioni sfavorevoli, il CsPbI\u2083 nero pu\u00f2 trasformarsi nella fase \u03b4, e l\u2019umidit\u00e0 \u00e8 uno dei fattori in grado di accelerare questa transizione.<\/p><p data-section-id=\"1vrtnqk\" data-start=\"1118\" data-end=\"1160\"><strong><span style=\"font-size: 12pt;\">Come controllare la fase nera del CsPbI\u2083?<\/span><\/strong><\/p><p data-start=\"1162\" data-end=\"1258\">Per i film di CsPbI\u2083 depositati mediante sputtering, diversi fattori di lavorazione possono influenzare la formazione e la stabilit\u00e0 delle fasi:<\/p><ul data-start=\"1260\" data-end=\"2256\"><li data-section-id=\"1ncu06o\" data-start=\"1260\" data-end=\"1566\"><strong data-start=\"1262\" data-end=\"1278\">Temperatura:<\/strong> il riscaldamento influenza la cristallizzazione e la formazione delle fasi. Durante il raffreddamento, le transizioni riportate includono <strong data-start=\"1380\" data-end=\"1405\">\u03b1 \u2192 \u03b2 a circa 281 \u00b0C<\/strong> e <strong data-start=\"1410\" data-end=\"1435\">\u03b2 \u2192 \u03b3 a circa 184 \u00b0C<\/strong>. Queste temperature descrivono il comportamento di transizione di fase del CsPbI\u2083 e non devono essere considerate come un programma di ricottura universale.<\/li><li data-section-id=\"vblm0i\" data-start=\"1567\" data-end=\"1747\"><strong data-start=\"1569\" data-end=\"1582\">Umidit\u00e0:<\/strong> le condizioni umide possono accelerare la trasformazione dalla fase nera alla fase \u03b4 gialla. \u00c8 quindi importante garantire un deposito, uno stoccaggio e una manipolazione controllati.<\/li><li data-section-id=\"1dylih4\" data-start=\"1748\" data-end=\"1976\"><strong data-start=\"1750\" data-end=\"1766\">Composizione:<\/strong> Il rapporto Cs\u2013Pb\u2013I influisce sulla cristallizzazione e sulla stabilit\u00e0 di fase. Le leghe o gli additivi possono migliorare la stabilit\u00e0, ma modificano anche la composizione del materiale e non devono essere considerati equivalenti al CsPbI\u2083 puro.<\/li><li data-section-id=\"1fseh1g\" data-start=\"1977\" data-end=\"2103\"><strong data-start=\"1979\" data-end=\"2007\">Substrato e interfaccia:<\/strong> il substrato e gli strati sottostanti possono influenzare la nucleazione, la struttura del film e la stabilit\u00e0 di fase.<\/li><li data-section-id=\"1e6zt97\" data-start=\"2104\" data-end=\"2256\"><strong data-start=\"2106\" data-end=\"2144\">Spessore del film e post-trattamento:<\/strong> questi parametri possono influenzare la cristallizzazione e dovrebbero essere ottimizzati insieme alle condizioni di deposizione.<\/li><\/ul><p data-section-id=\"hmwzo3\" data-start=\"2258\" data-end=\"2286\"><strong>Come verificare la fase?<\/strong><\/p><p data-start=\"2288\" data-end=\"2623\">Un film scuro o nero non conferma di per s\u00e9 la presenza della fase CsPbI\u2083 desiderata. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/analisi-chimica\/\"><strong data-start=\"2362\" data-end=\"2389\">La diffrazione dei raggi X (XRD)<\/strong><\/a><\/span> pu\u00f2 essere utilizzata per identificare la struttura cristallina e distinguere le fasi perovskitiche dalla fase \u03b4. <strong data-start=\"2488\" data-end=\"2536\">L\u2019assorbimento UV\u2013Vis e la fotoluminescenza (PL)<\/strong> possono fornire ulteriori informazioni sulla <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">propriet\u00e0 ottiche<\/a> <\/span>del film depositato.<\/p><p data-start=\"2625\" data-end=\"2658\">Una sequenza di valutazione tipica \u00e8 la seguente:<\/p><p data-start=\"2660\" data-end=\"2772\"><strong data-start=\"2660\" data-end=\"2772\">Target CsPbI\u2083 \u2192 Deposizione per sputtering \u2192 Cristallizzazione \u2192 XRD \/ Caratterizzazione ottica \u2192 Valutazione della stabilit\u00e0<\/strong><\/p><p data-start=\"2774\" data-end=\"3110\">Il bersaglio di sputtering determina la composizione iniziale di Cs\u2013Pb\u2013I, mentre la fase finale \u00e8 influenzata anche dalle condizioni di deposizione, dal substrato, dal trattamento termico e dall\u2019esposizione ambientale. <strong data-start=\"2966\" data-end=\"3110\">Il CsPbBr\u2083 presenta generalmente minori problemi di stabilit\u00e0 di fase, mentre il CsPbI\u2083 richiede maggiore attenzione alla formazione e al mantenimento della fase nera.<\/strong><\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-3b16d85 elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"3b16d85\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspbi3-black-phase-stability-control-process-ulpmat-2.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58150\" alt=\"Processo di controllo della stabilit\u00e0 della fase nera di CsPbI\u2083 che illustra i fattori relativi alla temperatura, all\u2019umidit\u00e0 e all\u2019ingegneria delle interfacce per i film depositati mediante sputtering con ULPMAT\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspbi3-black-phase-stability-control-process-ulpmat-2.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspbi3-black-phase-stability-control-process-ulpmat-2-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspbi3-black-phase-stability-control-process-ulpmat-2-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-fb6712f elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"fb6712f\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Considerazioni sullo sputtering<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-702e405 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"702e405\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Il CsPbBr\u2083 \u00e8 stato depositato con successo mediante sputtering a magnetron RF. Uno studio pubblicato ha riportato la preparazione di film di CsPbBr\u2083 di circa 70 nm su substrati di vetro, ne ha valutato la struttura e la morfologia. Anche altri studi sullo sputtering hanno evidenziato che il tipo di substrato e lo spessore del film possono influenzarne la struttura e la morfologia.Per i target di sputtering di CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083, la purezza e la stechiometria del target sono importanti, ma il film depositato dipende anche dalla potenza RF, dalla pressione di lavoro, dalla temperatura del substrato, dallo spessore del film, dal substrato stesso e dal trattamento post-deposizione. Questi parametri influenzano la velocit\u00e0 di deposizione, la cristallizzazione, la morfologia e la formazione delle fasi. Pertanto, la scelta del bersaglio dovrebbe essere valutata tenendo conto del substrato previsto, dello spessore del film, del sistema di sputtering e delle condizioni di lavorazione, piuttosto che della sola composizione del bersaglio.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-f6ff8c2 elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"f6ff8c2\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspb-sputtering-film-characterization-workflow-ulpmat-2.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58151\" alt=\"Flusso di lavoro per la valutazione dei film ottenuti mediante sputtering di CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083, comprendente la deposizione, la cristallizzazione, l\u2019analisi XRD, la caratterizzazione ottica e i test di stabilit\u00e0 effettuati con ULPMAT\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspb-sputtering-film-characterization-workflow-ulpmat-2.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspb-sputtering-film-characterization-workflow-ulpmat-2-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/cspb-sputtering-film-characterization-workflow-ulpmat-2-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-fa1debe elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"fa1debe\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">CsPbBr\u2083 vs CsPbI\u2083: quale bersaglio di sputtering scegliere?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-abb86b2 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"abb86b2\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>La scelta tra <strong data-start=\"282\" data-end=\"323\">i target di sputtering CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083<\/strong> dipende principalmente dal bandgap richiesto, dalla stabilit\u00e0 di fase e dal processo di deposizione dei film sottili.<\/p><table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 336px;\"><tbody><tr style=\"height: 48px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Requisiti<\/strong><\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Target consigliato<\/strong><\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Motivo<\/strong><\/td><\/tr><tr style=\"height: 72px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; text-align: center; height: 72px;\">Banda proibita intorno a <strong data-start=\"482\" data-end=\"496\">2,3\u20132,4 eV<\/strong><\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; text-align: center; height: 72px;\">CsPbBr\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; text-align: center; height: 72px;\">Perovskite con banda proibita pi\u00f9 ampia<\/td><\/tr><tr style=\"height: 72px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 72px; text-align: center;\">Banda proibita intorno a <strong data-start=\"557\" data-end=\"571\">1,7\u20131,8 eV<\/strong><\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 72px; text-align: center;\">CsPbI\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 72px; text-align: center;\">Perovskite con banda proibita pi\u00f9 stretta<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Maggiore stabilit\u00e0 di fase a temperatura ambiente<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">CsPbBr\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Fase perovskitica relativamente pi\u00f9 stabile<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Assorbimento di fotoni a energia inferiore<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">CsPbI\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Banda proibita pi\u00f9 stretta<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Ricerca optoelettronica nella luce visibile<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">CsPbBr\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Adatto ad applicazioni con banda proibita pi\u00f9 ampia<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Ricerca nel campo del fotovoltaico o dei dispositivi tandem<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">CsPbI\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Adatto alla ricerca su dispositivi a banda proibita stretta<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Film di CsPbBr\u2083 depositati mediante sputtering magnetronico<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">CsPbBr\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Dimostrato mediante sputtering magnetronico RF<\/td><\/tr><tr style=\"height: 24px;\"><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Applicazioni che richiedono CsPbI\u2083 nero<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">CsPbI\u2083<\/td><td style=\"width: 33.3333%; border-style: solid; border-color: #5e5c5c; height: 24px; text-align: center;\">Richiede un&#8217;adeguata strategia di controllo di fase<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><p>Il CsPbBr\u2083 rappresenta una scelta pratica quando sono richiesti un gap di banda pi\u00f9 ampio e una stabilit\u00e0 di fase relativamente favorevole. Il CsPbI\u2083 \u00e8 pi\u00f9 indicato quando \u00e8 importante un gap di banda pi\u00f9 stretto e il processo di deposizione \u00e8 in grado di garantire un controllo adeguato della fase perovskitica nera.La scelta del bersaglio dovrebbe essere effettuata tenendo conto anche del substrato, dello spessore del film, del sistema di sputtering e del trattamento post-deposizione. Nessuna delle due composizioni deve essere considerata universalmente superiore; la scelta appropriata dipende dai requisiti del film sottile che si intende ottenere.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-3b9822c elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"3b9822c\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Conclusione<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-738f90e elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"738f90e\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>I bersagli di sputtering CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083 sono adatti a diverse esigenze relative ai film sottili. Il CsPbBr\u2083 presenta un gap di banda pi\u00f9 ampio, pari a circa 2,3\u20132,4 eV, e in genere mostra una migliore stabilit\u00e0 di fase a temperatura ambiente. Le fasi nere del CsPbI\u2083 presentano bande proibite inferiori, tipicamente intorno a 1,7\u20131,8 eV, ma richiedono un controllo pi\u00f9 accurato durante la lavorazione. Per lo sputtering, la composizione del bersaglio \u00e8 solo una parte del processo. La purezza del bersaglio, il substrato, lo spessore del film, le condizioni di sputtering, il trattamento termico e l\u2019esposizione ambientale possono tutti influire sul film depositato. In generale, il CsPbBr\u2083 rappresenta una scelta pratica per applicazioni che richiedono un bandgap pi\u00f9 ampio, mentre il CsPbI\u2083 \u00e8 pi\u00f9 adatto ad applicazioni che richiedono un bandgap pi\u00f9 stretto e una formazione controllata della fase nera.<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/exportpages.cn\/my-account\/companies\/154087\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">ULPMAT<\/a> <\/span>fornisce target di sputtering in CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083 per la ricerca sui film sottili e sulle perovskiti. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contatta ULPMAT.<\/a><\/span><\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-7e3cc35 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"7e3cc35\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Domande frequenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-d21533a elementor-widget elementor-widget-eael-adv-accordion\" data-id=\"d21533a\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"eael-adv-accordion.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t            <div class=\"eael-adv-accordion\" id=\"eael-adv-accordion-d21533a\" data-scroll-on-click=\"no\" data-scroll-speed=\"300\" data-accordion-id=\"d21533a\" data-accordion-type=\"accordion\" data-toogle-speed=\"300\">\n            <div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"1-qual-la-differenza-principale-tra-cspbbr-e-cspbi\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"1\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2201\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">1. Qual \u00e8 la differenza principale tra CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2201\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"1\" aria-labelledby=\"1-qual-la-differenza-principale-tra-cspbbr-e-cspbi\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">Le differenze principali riguardano <strong>il bandgap e la stabilit\u00e0 di fase<\/strong>. Il CsPbBr\u2083 presenta generalmente un gap di banda di circa <strong>2,3\u20132,4 eV<\/strong>, mentre le fasi nere del CsPbI\u2083 si attestano tipicamente intorno a <strong>1,7\u20131,8 eV<\/strong>. Il CsPbI\u2083 richiede inoltre un controllo pi\u00f9 accurato della fase per mantenere la struttura desiderata della perovskite nera.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"2-perch-il-cspbi-ha-un-gap-di-banda-inferiore-rispetto-al-cspbbr\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"2\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2202\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">2. Perch\u00e9 il CsPbI\u2083 ha un gap di banda inferiore rispetto al CsPbBr\u2083?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2202\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"2\" aria-labelledby=\"2-perch-il-cspbi-ha-un-gap-di-banda-inferiore-rispetto-al-cspbbr\"><p>La differenza \u00e8 dovuta principalmente alla sostituzione <strong>dello ione Br\u207b con lo ione I\u207b, di dimensioni maggiori<\/strong>, nel reticolo del CsPbX\u2083. Ci\u00f2 modifica l&#8217;ambiente di legame Pb\u2013alogenuro e la struttura elettronica, determinando un gap di banda pi\u00f9 stretto per il CsPbI\u2083.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"3-quale-dei-due-materiali-presenta-una-maggiore-stabilit-di-fase-il-cspbbr-o-il-cspbi\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"3\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2203\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">3. Quale dei due materiali presenta una maggiore stabilit\u00e0 di fase, il CsPbBr\u2083 o il CsPbI\u2083?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2203\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"3\" aria-labelledby=\"3-quale-dei-due-materiali-presenta-una-maggiore-stabilit-di-fase-il-cspbbr-o-il-cspbi\"><p>Il CsPbBr\u2083 presenta in genere una stabilit\u00e0 di fase pi\u00f9 favorevole a temperatura ambiente. Le fasi di perovskite nera del CsPbI\u2083 sono pi\u00f9 sensibili alla temperatura, all\u2019umidit\u00e0 e alle condizioni di lavorazione e possono trasformarsi nella fase \u03b4 gialla, non perovskitica.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"4-come-si-pu-stabilizzare-la-fase-nera-del-cspbi\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"4\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2204\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">4. Come si pu\u00f2 stabilizzare la fase nera del CsPbI\u2083?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2204\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"4\" aria-labelledby=\"4-come-si-pu-stabilizzare-la-fase-nera-del-cspbi\"><p>La stabilit\u00e0 del CsPbI\u2083 nero dipende da diversi fattori, tra cui <strong>la temperatura, il controllo dell\u2019umidit\u00e0, la composizione, la struttura del substrato e dell\u2019interfaccia, lo spessore del film e il trattamento post-deposizione<\/strong>. Le condizioni ottimali di processo dipendono dal sistema di deposizione specifico e dai requisiti del film.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"5-come-possibile-determinare-la-fase-di-un-film-depositato-mediante-sputtering-di-cspbi\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"5\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2205\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">5. Come \u00e8 possibile determinare la fase di un film depositato mediante sputtering di CsPbI\u2083?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2205\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"5\" aria-labelledby=\"5-come-possibile-determinare-la-fase-di-un-film-depositato-mediante-sputtering-di-cspbi\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">La fase CsPbI\u2083 viene comunemente analizzata mediante <strong>diffrazione dei raggi X (XRD)<\/strong> per identificarne le strutture cristalline. Ulteriori metodi di caratterizzazione ottica, quali <strong>l\u2019assorbimento UV-Vis e la fotoluminescenza (PL)<\/strong>, possono fornire informazioni sulle propriet\u00e0 ottiche e sull\u2019evoluzione della fase.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"6-possibile-depositare-il-cspbbr-mediante-sputtering-magnetronico\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"6\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2206\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">6. \u00c8 possibile depositare il CsPbBr\u2083 mediante sputtering magnetronico?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2206\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"6\" aria-labelledby=\"6-possibile-depositare-il-cspbbr-mediante-sputtering-magnetronico\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">S\u00ec. <strong>La tecnica di sputtering a magnetrone RF \u00e8 stata applicata con successo alla realizzazione di film sottili di CsPbBr\u2083<\/strong>, compresi quelli riportati in letteratura con uno spessore di circa <strong>70 nm su substrati di vetro<\/strong>.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"7-la-composizione-del-bersaglio-di-sputtering-da-sola-a-determinare-le-propriet-finali-del-film\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"7\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2207\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">7. \u00c8 la composizione del bersaglio di sputtering da sola a determinare le propriet\u00e0 finali del film?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2207\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"7\" aria-labelledby=\"7-la-composizione-del-bersaglio-di-sputtering-da-sola-a-determinare-le-propriet-finali-del-film\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">No. La purezza e la composizione desiderate costituiscono il materiale di partenza, ma le propriet\u00e0 finali del film dipendono anche dai parametri di sputtering, dalle condizioni del substrato, dallo spessore del film, dall\u2019atmosfera e dal trattamento post-deposizione.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"8-quale-target-di-sputtering-cspb-dovrei-scegliere\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"8\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2208\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">8. Quale target di sputtering CsPb dovrei scegliere?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2208\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"8\" aria-labelledby=\"8-quale-target-di-sputtering-cspb-dovrei-scegliere\"><p>Il CsPbBr\u2083 \u00e8 generalmente indicato quando sono richiesti un <strong>gap energetico pi\u00f9 ampio e una stabilit\u00e0 di fase relativamente favorevole<\/strong>. Il CsPbI\u2083 \u00e8 pi\u00f9 indicato per applicazioni che richiedono un <strong>gap energetico pi\u00f9 stretto e una formazione controllata della fase nera<\/strong>. La scelta finale deve tenere conto dell\u2019obiettivo, del substrato previsto e del processo di deposizione.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-5f5035c elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"5f5035c\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Riferimenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-1bfa426 elementor-icon-list--layout-inline elementor-list-item-link-full_width elementor-widget elementor-widget-icon-list\" data-id=\"1bfa426\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"icon-list.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t<ul class=\"elementor-icon-list-items elementor-inline-items\">\n\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item elementor-inline-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">1. Stabilit\u00e0 di fase e transizioni di fase del CsPbI\u2083: recenti ricerche sulla stabilit\u00e0 di fase del CsPbI\u2083, sulle fasi \u03b1\/\u03b2\/\u03b3 nere, sulla transizione alla fase \u03b4 e sugli effetti ambientali.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item elementor-inline-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">2. Ricerca sull\u2019ingegneria delle fasi e sulla stabilizzazione del CsPbI\u2083, che comprende il trattamento termico, la modifica della composizione, l\u2019ingegneria delle interfacce e le strategie per stabilizzare la fase nera del CsPbI\u2083.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item elementor-inline-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">3. Film sottili di CsPbBr\u2083 ottenuti mediante sputtering magnetronico: studi sperimentali che dimostrano la possibilit\u00e0 di ottenere film sottili di CsPbBr\u2083 mediante sputtering magnetronico a radiofrequenza e che analizzano gli effetti del substrato e dello spessore del film.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item elementor-inline-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">4. Ricerca sulle propriet\u00e0 ottiche di CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083: studio delle bande proibite e delle propriet\u00e0 dipendenti dalla fase delle perovskiti inorganiche a base di alogenuri di cesio e piombo.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Questo articolo mette a confronto i target di sputtering CsPbBr\u2083 e CsPbI\u2083, illustrandone le differenze in termini di banda proibita, stabilit\u00e0 di fase, controllo della fase nera e aspetti relativi allo sputtering, al fine di facilitare la scelta del materiale perovskitico pi\u00f9 adatto alle applicazioni a film sottile.<\/p>\n","protected":false},"author":4,"featured_media":58149,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[1214],"tags":[],"class_list":["post-58148","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-blog"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/58148","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/users\/4"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=58148"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/58148\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":58153,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/58148\/revisions\/58153"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/58149"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=58148"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=58148"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=58148"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}