{"id":58078,"date":"2026-08-20T17:58:04","date_gmt":"2026-08-20T09:58:04","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/target-di-sputtering-in-perovskite-tipologie-materiali-guida-alla-scelta-e-personalizzazione\/"},"modified":"2026-08-21T17:18:50","modified_gmt":"2026-08-21T09:18:50","slug":"target-di-sputtering-in-perovskite-tipologie-materiali-guida-alla-scelta-e-personalizzazione","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/target-di-sputtering-in-perovskite-tipologie-materiali-guida-alla-scelta-e-personalizzazione\/","title":{"rendered":"Target di sputtering in perovskite: tipologie, materiali, guida alla scelta e personalizzazione"},"content":{"rendered":"\t\t<div data-elementor-type=\"wp-post\" data-elementor-id=\"58078\" class=\"elementor elementor-58078 elementor-57958\" data-elementor-post-type=\"post\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-98f6126 e-flex e-con-boxed e-con e-parent\" data-id=\"98f6126\" data-element_type=\"container\" data-e-type=\"container\">\n\t\t\t\t\t<div class=\"e-con-inner\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e9fb6a8 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"e9fb6a8\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=formula&#038;keyword=Cs\">Target di sputtering in perovskite<\/a><\/span> sono speciali materiali PVD multielemento utilizzati per produrre vari film sottili di perovskite per il fotovoltaico, <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">optoelettronica<\/a><\/span>, <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-per-semiconduttori\/\">semiconduttori<\/a> <\/span>e nella ricerca sui materiali. Sono disponibili in un\u2019ampia gamma di composizioni con formule tipiche rappresentative, ed \u00e8 fondamentale valutare attentamente tutti gli aspetti nella scelta o nella personalizzazione di questi bersagli.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-8d1eaf2 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"8d1eaf2\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Che cos\u2019\u00e8 un bersaglio di sputtering in perovskite?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-ef9b156 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"ef9b156\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>I bersagli di sputtering in perovskite sono materiali solidi a base di perovskite utilizzati nella deposizione fisica da vapore (PVD), in particolare nello sputtering magnetronico, per depositare film sottili funzionali di perovskite. Le perovskiti sono una classe di materiali con una struttura cristallina caratteristica, comunemente rappresentata dalla formula ABX\u2083. Nelle perovskiti alogenate, A pu\u00f2 includere Cs\u207a, metilammonio (MA\u207a) o formamidinio (FA\u207a), B \u00e8 comunemente Pb\u00b2\u207a o Sn\u00b2\u207a, mentre X \u00e8 tipicamente Cl\u207b, Br\u207b o I\u207b.<\/p><p>Durante la polverizzazione, gli ioni del plasma bombardano la superficie del bersaglio ed espellono il materiale verso il substrato, dove forma un film sottile. La composizione del bersaglio, la sua purezza e le condizioni di sputtering possono influenzare la composizione e le propriet\u00e0 del film depositato. I bersagli di sputtering in perovskite coprono quindi una vasta gamma di composizioni e strutture per la ricerca e lo sviluppo di film sottili in applicazioni fotovoltaiche, optoelettroniche e dei semiconduttori.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-d356dab elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"d356dab\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Tipi di bersagli per sputtering in perovskite\n<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-43567c4 elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"43567c4\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Target2.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-57999\" alt=\"Panoramica sui bersagli di sputtering in perovskite: materiali per bersagli in perovskite per la deposizione di film sottili - ULPMAT\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Target2.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Target2-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Target2-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-2d0a998 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"2d0a998\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>I bersagli di sputtering a base di perovskite possono essere classificati in base alla loro composizione chimica e alla struttura cristallina. Le categorie principali comprendono le perovskiti a base di cesio, le perovskiti drogate e a composizione modificata, le perovskiti prive di piombo e le doppie perovskiti.<\/p><table style=\"border-collapse: collapse; width: 91.663%; height: 504px;\"><tbody><tr style=\"height: 48px;\"><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Tipo di perovskite<\/strong><\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Esempi tipici<\/strong><\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 48px;\"><strong>Caratteristiche principali<\/strong><\/td><\/tr><tr style=\"height: 144px;\"><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 144px;\">Perovskiti a base di cesio<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 144px;\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/bromuro-di-cesio-e-piombo\/\">CsPbBr\u2083,<\/a><\/span> CsPbCl\u2083, <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ioduro-di-piombo-e-cesio\/\">CsPbI\u2083<\/a><\/span><\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 144px;\">Perovskiti alogenate inorganiche con composizione alogenata regolabile<\/td><\/tr><tr style=\"height: 120px;\"><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 120px;\">Perovskiti drogate e con composizione ingegnerizzata<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 120px;\">CsPb\u2081\u208b\u2093Zn\u2093Br\u2083, CsPbBr\u2083 drogato con Mn<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 120px;\">Composizione modificata per propriet\u00e0 del materiale su misura<\/td><\/tr><tr style=\"height: 120px;\"><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 120px;\">Perovskiti senza piombo<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 120px;\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ioduro-di-cesio-e-stagno-2\/\">CsSnBr\u2083,<\/a><\/span> CsSnI\u2083, sistemi a base di Bi e Sb<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 120px;\">Composizione alternativa del sito B senza Pb<\/td><\/tr><tr style=\"height: 72px;\"><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 72px;\">Perovskiti doppie<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 72px;\">Cs\u2082AgBiBr\u2086, Cs\u2082AgBiCl\u2086, Cs\u2082AgInCl\u2086<\/td><td style=\"width: 20%; border-style: solid; border-color: #737272; text-align: center; height: 72px;\">Cs\u2082AgBiBr\u2086, Cs\u2082AgBiCl\u2086, Cs\u2082AgInCl\u2086<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><div>\u00a0<\/div><ul><li><strong>Target di sputtering in perovskite a base di cesio<\/strong><\/li><\/ul><div>\u00a0<\/div><div>Le perovskiti alogenate inorganiche a base di cesio utilizzano Cs\u207a come catione nella posizione A. Tra le composizioni pi\u00f9 comuni figurano CsPbBr\u2083, CsPbCl\u2083, CsPbI\u2083 e perovskiti a base di cesio con alogenuri misti. Modificando la composizione degli alogenuri \u00e8 possibile alterare le caratteristiche ottiche ed elettroniche del materiale risultante. Ad esempio, la sostituzione o la miscelazione di Br e I offre una via per l\u2019ingegnerizzazione della composizione e della banda proibita. Le perovskiti a base di cesio sono di grande interesse per applicazioni di ricerca nei settori optoelettronico, fotovoltaico, della fotorilevazione e dei film sottili.<\/div><ul><li><strong>Obiettivi relativi alle perovskiti drogate e con composizione ingegnerizzata<\/strong><\/li><\/ul><div>Il drogaggio e la sostituzione parziale di elementi costituiscono un altro approccio per modificare i materiali perovskiti. Tra gli esempi figurano il CsPbBr\u2083 drogato con Zn, il CsPbBr\u2083 drogato con Mn e altre composizioni di perovskiti con sostituzione metallica.Un esempio \u00e8 il CsPb\u2080,\u2085Zn\u2080,\u2085Br\u2083, in cui lo Zn viene incorporato nella composizione del sito B. Il drogaggio o la sostituzione elementare possono influenzare la struttura cristallina, il comportamento ottico, le propriet\u00e0 elettroniche, la chimica dei difetti e altre caratteristiche del materiale. L\u2019effetto dipende dalla concentrazione del dopante, dal sito di sostituzione, dalle condizioni di lavorazione e dalla composizione di fase risultante. Per questo motivo, i bersagli di sputtering in perovskite drogata sono spesso specificati in base a una formula chimica esatta o a un rapporto elementare.<\/div><ul><li><strong>Target di sputtering in perovskite senza piombo<\/strong><\/li><\/ul><div>Le perovskiti prive di piombo sono oggetto di studio come alternative ai sistemi a base di perovskite contenenti piombo. Ne sono esempi CsSnBr\u2083, CsSnI\u2083, le perovskiti a base di Bi, quelle a base di Sb e le doppie perovskiti prive di piombo.La sostituzione del Pb con altri elementi pu\u00f2 determinare caratteristiche strutturali, ottiche ed elettroniche diverse. Tuttavia, i sistemi di perovskite senza piombo possono anche comportare difficolt\u00e0 relative alla stabilit\u00e0 di fase, all\u2019ossidazione, alla cristallizzazione e alle prestazioni dei dispositivi. Pertanto, i bersagli di sputtering in perovskite senza piombo dovrebbero essere selezionati in base al sistema di materiale specifico e all\u2019applicazione prevista del film sottile.<\/div><ul><li><strong>Target di sputtering per perovskiti doppie<\/strong><\/li><\/ul><div>Le perovskiti doppie presentano una composizione ordinata che differisce dalla struttura ABX\u2083 convenzionale. Una rappresentazione comune \u00e8 A\u2082BB\u2032X\u2086. Tra i materiali rappresentativi figurano Cs\u2082AgBiBr\u2086, Cs\u2082AgBiCl\u2086 e Cs\u2082AgInCl\u2086. Le perovskiti doppie sono oggetto di studio come sistemi di materiali alternativi e privi di piombo. I loro rapporti elementari pi\u00f9 complessi rendono inoltre particolarmente importanti il controllo della composizione chimica e delle fasi durante la preparazione dei bersagli di sputtering.<\/div>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-658309c elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"658309c\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Materiali bersaglio a perovskite e propriet\u00e0 chiave<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e9e6e7f elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"e9e6e7f\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>Le prestazioni di un bersaglio di sputtering in perovskite dipendono non solo dalla sua formula chimica, ma anche da fattori quali la precisione della composizione, la purezza, la densit\u00e0, la microstruttura, la resistenza meccanica e la compatibilit\u00e0 con il processo di sputtering.<\/p><p>1. Chimica dei cristalli di perovskite<\/p><p>Molte perovskiti alogenate si basano sulla struttura cristallina generale ABX\u2083, dove:<\/p><p>A = catione monovalente, come Cs\u207a, MA\u207a o FA\u207a<br \/>B = catione metallico, come Pb\u00b2\u207a o Sn\u00b2\u207a<br \/>X = anione alogenuro, come Cl\u207b, Br\u207b o I\u207b<\/p><p>La sostituzione dei componenti del sito A, del sito B o del sito X pu\u00f2 modificare le propriet\u00e0 strutturali, ottiche ed elettroniche dei materiali perovskitici. Ad esempio, la sostituzione della composizione dell&#8217;alogenuro da Cl a Br o I pu\u00f2 influenzare le caratteristiche di assorbimento ed emissione ottica, mentre la sostituzione del sito B pu\u00f2 influire sulla stabilit\u00e0 del materiale e sul comportamento elettronico. Questa flessibilit\u00e0 consente di preparare bersagli di sputtering in perovskite con un\u2019ampia gamma di composizioni per diverse applicazioni in film sottili.<\/p><p>2. Composizione chimica<\/p><p>Una composizione chimica accurata \u00e8 essenziale per i bersagli di sputtering in perovskite a pi\u00f9 elementi. I fattori chiave includono il rapporto tra gli elementi, il rapporto tra gli alogenuri, la concentrazione del dopante, la composizione di fase e il controllo stechiometrico. Per materiali come il CsPb\u2080,\u2085Zn\u2080,\u2085Br\u2083, le proporzioni relative di Cs, Pb, Zn e Br devono essere controllate con precisione per ottenere la composizione richiesta del bersaglio.<\/p><p>3. Purezza<\/p><p>La purezza del bersaglio \u00e8 un fattore importante da considerare per le applicazioni nel settore fotovoltaico, optoelettronico e dei semiconduttori. Le impurit\u00e0 possono influenzare la composizione del film, la concentrazione dei difetti, le propriet\u00e0 ottiche, le prestazioni elettriche e la riproducibilit\u00e0 del processo. Il livello di purezza richiesto dipende dall\u2019applicazione specifica e dai requisiti di deposizione.<\/p><p>4. Densit\u00e0 e microstruttura<\/p><p>La densit\u00e0 e la microstruttura del bersaglio possono influire sulla stabilit\u00e0 dello sputtering e sull\u2019utilizzo del bersaglio. Tra le caratteristiche importanti figurano la densit\u00e0 apparente, la porosit\u00e0, la struttura granulare, la resistenza meccanica e le condizioni superficiali. Un bersaglio ben preparato, con densit\u00e0 adeguata e integrit\u00e0 meccanica, pu\u00f2 garantire prestazioni di sputtering stabili e ridurre i problemi legati alle particelle durante la deposizione.<\/p><p>5. Stabilit\u00e0 termica e chimica<\/p><p>La stabilit\u00e0 termica e chimica dei target di perovskite varia a seconda della loro composizione e struttura. Fattori quali la composizione chimica, la struttura cristallina, il tipo di dopante, il processo di fabbricazione, le condizioni di stoccaggio e i parametri di sputtering possono influenzare la stabilit\u00e0 del materiale. Per alcuni sistemi a base di perovskite, l\u2019esposizione termica e le condizioni del plasma possono influire sulla composizione o sulla struttura di fase. Pertanto, la scelta del bersaglio dovrebbe tenere conto sia delle caratteristiche del materiale che delle condizioni di deposizione.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-ab1014c elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"ab1014c\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Target di perovskite per sputtering e processo di deposizione di film sottili<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-0e08ede elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"0e08ede\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>La deposizione di film sottili di perovskite mediante sputtering prevede una serie di fasi, che vanno dalla selezione del bersaglio all\u2019ottimizzazione del film. La composizione del bersaglio costituisce la fonte del materiale, mentre le condizioni di sputtering e i processi post-deposizione influenzano la struttura e le propriet\u00e0 finali del film.<\/p><p><strong>Target di sputtering in perovskite \u2192 Preparazione della camera a vuoto \u2192 Generazione del plasma e bombardamento ionico \u2192 Trasferimento del materiale sputterizzato \u2192 Deposizione del film sottile sul substrato \u2192 Trattamento post-deposizione e ottimizzazione del film<\/strong><\/p><p>Il processo inizia con la selezione di un bersaglio di sputtering di perovskite adeguato in base alla composizione, alla purezza, alle dimensioni e ai requisiti applicativi richiesti. Nel caso delle perovskiti multielementari, i rapporti tra i siti A, i siti B e i componenti alogenuri devono essere controllati con attenzione per ottenere la composizione desiderata del film. Ad esempio, CsPbBr\u2083 e CsPb\u2080,\u2085Zn\u2080,\u2085Br\u2083 contengono composizioni elementari diverse e possono determinare caratteristiche diverse del film sottile.<\/p><p>Durante la polverizzazione magnetronica, il bersaglio viene collocato all\u2019interno di una camera a vuoto in atmosfera controllata. Gli ioni generati dal plasma bombardano la superficie del bersaglio e ne liberano il materiale. Queste particelle polverizzate attraversano il plasma e si depositano sul substrato, formando un film sottile di perovskite.<\/p><p>La qualit\u00e0 del film depositato dipende sia dalle propriet\u00e0 del bersaglio che dalle condizioni di processo, tra cui la potenza di sputtering, la pressione di esercizio, la temperatura del substrato, la velocit\u00e0 di deposizione, lo spessore del film e il trattamento post-deposizione. Il trattamento termico o la cristallizzazione controllata possono influenzare ulteriormente la formazione delle fasi, la morfologia superficiale e le prestazioni del film. Poich\u00e9 composizioni diverse di perovskite presentano caratteristiche strutturali e chimiche diverse, le condizioni di deposizione devono essere adattate in base al materiale del bersaglio selezionato e all\u2019applicazione prevista.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-f459b4b elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"f459b4b\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Deposition-Process.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58001\" alt=\"Processo di deposizione per sputtering della perovskite: dal materiale bersaglio alla formazione del film sottile - ULPMAT\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Deposition-Process.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Deposition-Process-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-Sputtering-Deposition-Process-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-ae7f8ff elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"ae7f8ff\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Applicazioni dei bersagli di sputtering in perovskite<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-7aa563b elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"7aa563b\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\" data-start=\"150\" data-end=\"410\">I bersagli di sputtering in perovskite vengono utilizzati principalmente per lo sviluppo di film sottili funzionali nella ricerca in ambito fotovoltaico, optoelettronico e dei semiconduttori. I campi di applicazione dipendono dalla composizione e dalle propriet\u00e0 del materiale in perovskite selezionato.<\/p><p data-section-id=\"7tlrnx\" data-start=\"412\" data-end=\"437\"><strong>Celle solari a perovskite:<\/strong>i materiali a perovskite sono ampiamente studiati nella ricerca fotovoltaica grazie alle loro propriet\u00e0 ottiche regolabili e alle elevate capacit\u00e0 di assorbimento della luce. I bersagli di sputtering offrono un metodo di deposizione sotto vuoto per la preparazione di film sottili a base di perovskite e per lo studio della composizione dei film, delle interfacce e delle strutture dei dispositivi.<\/p><p data-section-id=\"1o8amth\" data-start=\"759\" data-end=\"777\"><strong>LED a perovskite:<\/strong>le perovskiti alogenurate hanno suscitato interesse per le applicazioni di emissione luminosa poich\u00e9 la loro composizione pu\u00f2 influenzare le propriet\u00e0 di emissione ottica. I bersagli di sputtering in perovskite possono essere utilizzati nella ricerca sui film sottili per lo studio degli strati luminescenti e delle strutture dei dispositivi optoelettronici.<\/p><p data-section-id=\"c7qzk0\" data-start=\"1059\" data-end=\"1076\"><strong>Fotorilevatori:<\/strong>i materiali a base di perovskite sono oggetto di studio per applicazioni di fotorilevamento grazie alla loro interazione con la luce e alle propriet\u00e0 elettroniche modulabili. I film di perovskite ottenuti mediante sputtering possono essere valutati per applicazioni quali il rilevamento della luce visibile, il rilevamento ottico e i relativi dispositivi optoelettronici.<\/p><p data-section-id=\"15l091i\" data-start=\"1367\" data-end=\"1403\"><strong>Film sottili ottici ed elettronici:<\/strong>diverse composizioni di perovskite possono fornire caratteristiche ottiche ed elettroniche diverse, rendendole adatte a studi sui film sottili che riguardano l\u2019assorbimento della luce, il trasporto di carica e l\u2019ingegneria delle interfacce.<\/p><p data-section-id=\"18jdfc4\" data-start=\"1618\" data-end=\"1657\"><strong>Ricerca sui semiconduttori e sui materiali:<\/strong>i bersagli di sputtering in perovskite vengono utilizzati anche nella ricerca di laboratorio incentrata sulla crescita di film sottili, sull\u2019ottimizzazione della composizione e sullo sviluppo dei processi di deposizione. Le composizioni personalizzate dei bersagli consentono ai ricercatori di esplorare specifici sistemi di perovskite e le propriet\u00e0 dei materiali.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-2591b3f elementor-widget elementor-widget-image\" data-id=\"2591b3f\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"image.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<img decoding=\"async\" width=\"667\" height=\"500\" src=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-sputtering-deposition-process-from-target-material-to-thin-film-formation-ULPMAT.png\" class=\"attachment-large size-large wp-image-58000\" alt=\"Processo di deposizione per sputtering della perovskite: dal materiale bersaglio alla formazione del film sottile - ULPMAT\" srcset=\"https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-sputtering-deposition-process-from-target-material-to-thin-film-formation-ULPMAT.png 667w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-sputtering-deposition-process-from-target-material-to-thin-film-formation-ULPMAT-300x225.png 300w, https:\/\/ulpmat.com\/wp-content\/uploads\/2026\/08\/Perovskite-sputtering-deposition-process-from-target-material-to-thin-film-formation-ULPMAT-600x450.png 600w\" sizes=\"(max-width: 667px) 100vw, 667px\" \/>\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-aadb532 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"aadb532\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Come scegliere un bersaglio di sputtering in perovskite?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-721b073 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"721b073\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p>La selezione di un bersaglio di sputtering in perovskite prevede diverse fasi, dalla definizione della composizione del materiale richiesta alla verifica delle specifiche del bersaglio e della compatibilit\u00e0 con lo sputtering. Per i materiali in perovskite multielemento, un processo di selezione ben definito contribuisce a garantire che il bersaglio soddisfi i requisiti dell\u2019applicazione prevista per il film sottile.<\/p><p><strong>Fase 1: Definizione della composizione richiesta della perovskite<\/strong><\/p><p>Il primo passo consiste nel determinare l\u2019esatto sistema di materiali perovskitici richiesto per l\u2019applicazione. Le composizioni pi\u00f9 comuni includono CsPbBr\u2083, CsPbCl\u2083, CsPbI\u2083, CsPb\u2081\u208b\u2093Zn\u2093Br\u2083 e Cs\u2082AgBiBr\u2086.Per i bersagli di sputtering in perovskite personalizzati, \u00e8 necessario specificare chiaramente la formula chimica, il rapporto tra gli elementi e la concentrazione del dopante. Ci\u00f2 \u00e8 particolarmente importante per i materiali drogati o con composizione ingegnerizzata, in cui le variazioni nel rapporto tra gli elementi possono influenzare la struttura e le propriet\u00e0 del film depositato.<\/p><p><strong>Fase 2: Conferma delle specifiche del bersaglio<\/strong><\/p><p>Dopo aver definito la composizione del materiale, le specifiche del bersaglio devono essere adattate all\u2019apparecchiatura di sputtering. Le informazioni richieste includono la forma del bersaglio, le dimensioni, lo spessore, la configurazione di montaggio e se \u00e8 necessario un bersaglio incollato o non incollato. Per i sistemi di sputtering da laboratorio e industriali, la geometria del bersaglio deve essere compatibile con il design del catodo per garantire una corretta installazione e un funzionamento stabile.<\/p><p><strong>Fase 3: Verifica della compatibilit\u00e0 del sistema di sputtering<\/strong><\/p><p>Il metodo di sputtering e la configurazione dell\u2019apparecchiatura sono fattori importanti nella scelta del bersaglio. Gli utenti devono verificare se il sistema utilizza lo sputtering a RF o a magnetrone, nonch\u00e9 il tipo di supporto del bersaglio e i requisiti operativi. Per i materiali perovskiti complessi, la compatibilit\u00e0 tra il bersaglio e il sistema di deposizione contribuisce a mantenere prestazioni di sputtering stabili e una preparazione uniforme del film.<\/p><p><strong>Fase 4: Adattare il bersaglio all\u2019applicazione del film sottile<\/strong><\/p><p>La scelta finale dovrebbe basarsi sull\u2019applicazione prevista del film sottile. Diversi ambiti di ricerca, tra cui i dispositivi fotovoltaici, i componenti optoelettronici e lo sviluppo dei materiali, possono richiedere composizioni di perovskite e design dei target diversi. Fornire informazioni sulla composizione prevista del film, sullo scopo della deposizione e sui requisiti applicativi consente di allineare meglio le specifiche del target all\u2019obiettivo finale.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-6c8a9e5 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"6c8a9e5\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Target di sputtering in perovskite su misura\n<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-d7ce1ee elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"d7ce1ee\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p><strong>Target di sputtering in perovskite su misura<\/strong><\/p><p>I materiali a base di perovskite offrono un&#8217;ampia gamma di possibilit\u00e0 compositive, rendendo i bersagli di sputtering personalizzati preziosi per la ricerca sui film sottili e lo sviluppo di materiali avanzati. Un bersaglio di sputtering personalizzato a base di perovskite pu\u00f2 essere preparato in base alla composizione, alla purezza, alle dimensioni e ai requisiti del sistema di sputtering richiesti.<\/p><p><strong>Composizione del materiale personalizzata<\/strong><\/p><p>La composizione chimica \u00e8 l\u2019aspetto pi\u00f9 importante di un bersaglio di sputtering in perovskite personalizzato. Le soluzioni personalizzate possono includere perovskiti a base di cesio, perovskiti drogate, sistemi privi di piombo, composizioni a alogenuri misti e doppie perovskiti.Per i materiali con composizione ingegnerizzata, i clienti possono fornire sia la formula chimica completa sia il rapporto elementare richiesto. Ad esempio, CsPb\u2081\u208b\u2093Zn\u2093Br\u2083 pu\u00f2 essere personalizzato in base al rapporto di sostituzione Zn\/Pb richiesto.<\/p><p><strong>Specifiche personalizzate dei bersagli<\/strong><\/p><p>I bersagli di sputtering in perovskite possono essere realizzati in diverse dimensioni e configurazioni in base ai requisiti del sistema di deposizione. Il diametro, la lunghezza, la larghezza, lo spessore, la geometria e la configurazione di montaggio del bersaglio possono essere adattati alle apparecchiature di sputtering di laboratorio o industriali. Per sistemi specifici, \u00e8 possibile prendere in considerazione anche bersagli incollati, bersagli non incollati o piastre di supporto personalizzate in base ai requisiti dell\u2019apparecchiatura.<\/p><p><strong>Personalizzazione per la ricerca sui film sottili<\/strong><\/p><p>Obiettivi di ricerca diversi possono richiedere composizioni di perovskite e specifiche dei target diverse. I target personalizzati possono supportare studi che coinvolgono materiali fotovoltaici, dispositivi optoelettronici, film sottili legati ai semiconduttori e nuovi sistemi di materiali a base di perovskite. Fornire informazioni sulla composizione prevista del film sottile, sul metodo di sputtering e sullo scopo dell\u2019applicazione aiuta a definire un design del target adeguato.<\/p><p><strong>Informazioni richieste per una richiesta relativa a un bersaglio in perovskite personalizzato<\/strong><\/p><p>Per valutare un bersaglio di sputtering alla perovskite personalizzato, si raccomanda ai clienti di fornire la formula del materiale richiesta, il rapporto tra gli elementi, il livello di purezza, le dimensioni del bersaglio, le informazioni sull\u2019apparecchiatura di sputtering e l\u2019applicazione prevista. Una specifica completa consente di valutare la composizione e la configurazione del bersaglio prima della produzione, contribuendo a garantire la compatibilit\u00e0 con il processo di deposizione previsto.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-bd48275 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"bd48275\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Conclusione<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-6279c43 elementor-widget elementor-widget-text-editor\" data-id=\"6279c43\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"text-editor.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/en.wikipedia.org\/wiki\/Perovskite\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">Perovskite<\/a> <\/span>I bersagli di sputtering offrono una piattaforma di materiali versatile per lo sviluppo di film sottili a base di perovskite attraverso processi di deposizione sotto vuoto. Data l\u2019ampia gamma di composizioni possibili, tra cui sistemi a base di cesio, drogati, privi di piombo e a doppia perovskite, la scelta del bersaglio richiede un\u2019attenta valutazione della composizione chimica, delle specifiche del bersaglio, della compatibilit\u00e0 con lo sputtering e dei requisiti applicativi.<\/p><p>Dalla ricerca nel campo del fotovoltaico e dei dispositivi optoelettronici agli studi sui film sottili relativi ai semiconduttori, i bersagli di sputtering in perovskite personalizzati consentono ai ricercatori di esplorare diversi sistemi di materiali e ottimizzare le propriet\u00e0 dei film. La scelta della composizione e della configurazione appropriate del bersaglio \u00e8 essenziale per ottenere prestazioni di deposizione affidabili e risultati riproducibili nei film sottili. Per i progetti di ricerca che richiedono composizioni, dimensioni o configurazioni di sputtering specifiche, \u00e8 possibile sviluppare bersagli di sputtering in perovskite personalizzati in base alle specifiche dei materiali richieste e agli obiettivi di deposizione.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-d69dc73 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"d69dc73\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Domande frequenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-e13bb87 elementor-widget elementor-widget-eael-adv-accordion\" data-id=\"e13bb87\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"eael-adv-accordion.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t            <div class=\"eael-adv-accordion\" id=\"eael-adv-accordion-e13bb87\" data-scroll-on-click=\"no\" data-scroll-speed=\"300\" data-accordion-id=\"e13bb87\" data-accordion-type=\"accordion\" data-toogle-speed=\"300\">\n            <div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"che-cos-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"1\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2361\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Che cos\u2019\u00e8 un bersaglio di sputtering in perovskite?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2361\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"1\" aria-labelledby=\"che-cos-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">Un bersaglio di sputtering in perovskite \u00e8 un materiale solido a base di perovskite utilizzato come materiale di partenza nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD), come lo sputtering magnetronico, per depositare film sottili di perovskite o di materiali affini alla perovskite.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"quali-sono-i-tipi-pi-comuni-di-bersagli-per-sputtering-in-perovskite\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"2\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2362\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Quali sono i tipi pi\u00f9 comuni di bersagli per sputtering in perovskite?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2362\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"2\" aria-labelledby=\"quali-sono-i-tipi-pi-comuni-di-bersagli-per-sputtering-in-perovskite\"><p>Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipisicing elit. Optio, neque qui velit. Magni dolorum quidem ipsam eligendi, totam, facilis laudantium cum accusamus ullam voluptatibus commodi numquam, error, est. Ea, consequatur.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"quali-sono-i-materiali-pi-comuni-utilizzati-come-bersagli-per-lo-sputtering-della-perovskite\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"3\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2363\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Quali sono i materiali pi\u00f9 comuni utilizzati come bersagli per lo sputtering della perovskite?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2363\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"3\" aria-labelledby=\"quali-sono-i-materiali-pi-comuni-utilizzati-come-bersagli-per-lo-sputtering-della-perovskite\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">Tra i materiali comunemente utilizzati come bersagli per lo sputtering delle perovskiti figurano CsPbBr\u2083, CsPbCl\u2083, CsPbI\u2083, sistemi CsPbBr\u2083 drogati, perovskiti prive di piombo e perovskiti doppie come Cs\u2082AgBiBr\u2086. \u00c8 inoltre possibile sviluppare composizioni personalizzate in base a specifici requisiti dei materiali.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"il-cspbbr-pu-essere-utilizzato-come-bersaglio-per-la-deposizione-per-sputtering\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"4\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2364\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Il CsPbBr\u2083 pu\u00f2 essere utilizzato come bersaglio per la deposizione per sputtering?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2364\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"4\" aria-labelledby=\"il-cspbbr-pu-essere-utilizzato-come-bersaglio-per-la-deposizione-per-sputtering\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">S\u00ec. Il CsPbBr\u2083 pu\u00f2 essere preparato come bersaglio di sputtering di perovskite per la ricerca sulla deposizione di film sottili. La composizione del bersaglio e le condizioni di sputtering devono essere selezionate in base alla struttura del film richiesta e all&#8217;applicazione prevista.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"che-cos-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite-senza-piombo\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"5\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2365\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Che cos'\u00e8 un bersaglio di sputtering in perovskite senza piombo?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2365\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"5\" aria-labelledby=\"che-cos-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite-senza-piombo\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">Un bersaglio di sputtering in perovskite senza piombo \u00e8 un materiale a base di perovskite in cui il piombo \u00e8 sostituito da elementi alternativi quali stagno, bismuto o antimonio. Ne sono un esempio le perovskiti a base di CsSn, i sistemi a base di Bi e le doppie perovskiti senza piombo.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"-possibile-personalizzare-i-bersagli-di-sputtering-in-perovskite\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"6\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2366\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">\u00c8 possibile personalizzare i bersagli di sputtering in perovskite?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2366\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"6\" aria-labelledby=\"-possibile-personalizzare-i-bersagli-di-sputtering-in-perovskite\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">S\u00ec. \u00c8 possibile specificare target di sputtering in perovskite personalizzati in base alla composizione chimica, al rapporto tra gli elementi, alla concentrazione del dopante, alla purezza, alle dimensioni del target, alla geometria e ai requisiti del sistema di sputtering.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"come-si-fa-a-scegliere-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite-adatto\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"7\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2367\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Come si fa a scegliere un bersaglio di sputtering in perovskite adatto?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2367\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"7\" aria-labelledby=\"come-si-fa-a-scegliere-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite-adatto\"><p>La scelta di un bersaglio di sputtering in perovskite adeguato richiede di tenere conto della composizione chimica, delle specifiche del bersaglio, della compatibilit\u00e0 con l&#8217;apparecchiatura di sputtering e dell&#8217;applicazione prevista del film sottile. Nel definire le specifiche del bersaglio \u00e8 necessario considerare la composizione richiesta del film e lo scopo della deposizione.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"quali-sono-le-specifiche-richieste-per-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite-su-misura\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"8\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2368\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Quali sono le specifiche richieste per un bersaglio di sputtering in perovskite su misura?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2368\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"8\" aria-labelledby=\"quali-sono-le-specifiche-richieste-per-un-bersaglio-di-sputtering-in-perovskite-su-misura\"><p>Per un bersaglio di sputtering in perovskite personalizzato, i clienti devono fornire la formula chimica, il rapporto tra gli elementi, i requisiti di purezza, le dimensioni del bersaglio, la geometria del bersaglio, le informazioni relative al sistema di sputtering e l\u2019applicazione prevista.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"quale-metodo-di-sputtering-adatto-per-i-film-sottili-di-perovskite\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"9\" aria-controls=\"elementor-tab-content-2369\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">Quale metodo di sputtering \u00e8 adatto per i film sottili di perovskite?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-2369\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"9\" aria-labelledby=\"quale-metodo-di-sputtering-adatto-per-i-film-sottili-di-perovskite\"><p class=\"PDq2pG_selectionAnchorContainer\">La deposizione per sputtering a magnetrone a radiofrequenza \u00e8 comunemente studiata per la deposizione di film sottili a base di perovskite, poich\u00e9 \u00e8 adatta a composizioni materiali complesse e alla preparazione di film sottili in ambiente sottovuoto. Le condizioni di deposizione dipendono dal sistema di perovskite selezionato.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><div class=\"eael-accordion-list\">\n\t\t\t\t\t<div id=\"in-quali-applicazioni-vengono-utilizzati-i-bersagli-di-sputtering-in-perovskite\" class=\"elementor-tab-title eael-accordion-header\" tabindex=\"0\" data-tab=\"10\" aria-controls=\"elementor-tab-content-23610\"><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-closed\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-plus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H272V64c0-17.67-14.33-32-32-32h-32c-17.67 0-32 14.33-32 32v144H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h144v144c0 17.67 14.33 32 32 32h32c17.67 0 32-14.33 32-32V304h144c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-advanced-accordion-icon-opened\"><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-accordion-icon e-font-icon-svg e-fas-minus\" viewBox=\"0 0 448 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M416 208H32c-17.67 0-32 14.33-32 32v32c0 17.67 14.33 32 32 32h384c17.67 0 32-14.33 32-32v-32c0-17.67-14.33-32-32-32z\"><\/path><\/svg><\/span><span class=\"eael-accordion-tab-title\">In quali applicazioni vengono utilizzati i bersagli di sputtering in perovskite?<\/span><svg aria-hidden=\"true\" class=\"fa-toggle e-font-icon-svg e-fas-angle-right\" viewBox=\"0 0 256 512\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\"><path d=\"M224.3 273l-136 136c-9.4 9.4-24.6 9.4-33.9 0l-22.6-22.6c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9l96.4-96.4-96.4-96.4c-9.4-9.4-9.4-24.6 0-33.9L54.3 103c9.4-9.4 24.6-9.4 33.9 0l136 136c9.5 9.4 9.5 24.6.1 34z\"><\/path><\/svg><\/div><div id=\"elementor-tab-content-23610\" class=\"eael-accordion-content clearfix\" data-tab=\"10\" aria-labelledby=\"in-quali-applicazioni-vengono-utilizzati-i-bersagli-di-sputtering-in-perovskite\"><p>I bersagli di sputtering in perovskite vengono utilizzati principalmente nella ricerca e nello sviluppo di film sottili per applicazioni quali materiali fotovoltaici, dispositivi optoelettronici, fotorilevatori e studi relativi ai semiconduttori.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-ee5bda9 elementor-widget elementor-widget-heading\" data-id=\"ee5bda9\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"heading.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t<h2 class=\"elementor-heading-title elementor-size-default\">Riferimenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-element elementor-element-c1182f2 elementor-icon-list--layout-traditional elementor-list-item-link-full_width elementor-widget elementor-widget-icon-list\" data-id=\"c1182f2\" data-element_type=\"widget\" data-e-type=\"widget\" data-widget_type=\"icon-list.default\">\n\t\t\t\t<div class=\"elementor-widget-container\">\n\t\t\t\t\t\t\t<ul class=\"elementor-icon-list-items\">\n\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">1. Green M. A., Ho-Baillie A., Snaith H. J. L\u2019avvento delle celle solari in perovskite. Nature Photonics, 2014. DOI: 10.1038\/nphoton.2014.134<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">2. Kojima A., Teshima K., Shirai Y., Miyasaka T. Perovskiti di alogenuri organometallici come sensibilizzatori alla luce visibile per celle fotovoltaiche. JACS, 2009. DOI: 10.1021\/ja809598r<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<li class=\"elementor-icon-list-item\">\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<span class=\"elementor-icon-list-text\">3. Even J., Pedesseau L., Katan C. Analisi della struttura cristallina delle perovskiti ibride organico-inorganiche a base di alogenuri. Chemical Physics Letters, 2014. DOI: 10.1016\/j.cplett.2013.11.012<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>I target di sputtering in perovskite sono materiali PVD all&#8217;avanguardia utilizzati per il deposito di film sottili di perovskite nella ricerca in campo fotovoltaico, optoelettronico e dei semiconduttori. Questa guida illustra i tipi di target in perovskite, le composizioni dei materiali, le propriet\u00e0 principali, gli aspetti da considerare nella scelta e le soluzioni personalizzate per lo sviluppo di film sottili.<\/p>\n","protected":false},"author":4,"featured_media":57999,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[1214],"tags":[],"class_list":["post-58078","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-blog"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/58078","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/users\/4"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=58078"}],"version-history":[{"count":4,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/58078\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":58082,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/58078\/revisions\/58082"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/57999"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=58078"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=58078"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=58078"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}