{"id":57888,"date":"2026-08-18T16:50:25","date_gmt":"2026-08-18T08:50:25","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/target-di-sputtering-in-lega-di-nichel-tipi-proprieta-applicazioni-e-guida-alla-scelta\/"},"modified":"2026-08-18T17:06:58","modified_gmt":"2026-08-18T09:06:58","slug":"target-di-sputtering-in-lega-di-nichel-tipi-proprieta-applicazioni-e-guida-alla-scelta","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/target-di-sputtering-in-lega-di-nichel-tipi-proprieta-applicazioni-e-guida-alla-scelta\/","title":{"rendered":"Target di sputtering in lega di nichel: tipi, propriet\u00e0, applicazioni e guida alla scelta"},"content":{"rendered":"\t\t
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Che cos\u2019\u00e8 un bersaglio di sputtering in lega di nichel?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Lega di nichel<\/a><\/span> Il bersaglio di sputtering \u00e8 un materiale in lega a base di nichel utilizzato come sorgente catodica nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Combinando il nichel con elementi di lega quali cromo<\/a><\/span>, silicio<\/a><\/span>, ferro<\/a><\/span>, titanio<\/a><\/span>, cobalto<\/a><\/span>, oppure rame<\/a><\/span>, i bersagli in lega di nichel possono fornire propriet\u00e0 elettriche e termiche<\/a><\/span>, magnetiche e di resistenza alla corrosione personalizzate per diverse applicazioni dei film sottili.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"Target\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Target di sputtering in lega di nichel vs target in nichel puro<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Sia i bersagli in nichel puro che quelli in lega di nichel sono ampiamente utilizzati nei processi di rivestimento PVD, ma presentano caratteristiche materiali diverse.<\/p>
Materiale<\/strong><\/td>Composizione<\/strong><\/td>Propriet\u00e0 principali<\/strong><\/td>Vantaggi<\/strong><\/td>Applicazioni tipiche<\/strong><\/td><\/tr>
Target in nichel puro<\/td>Ni puro<\/td>Elevata conduttivit\u00e0 elettrica, buona resistenza alla corrosione, buona duttilit\u00e0<\/td>Composizione semplice, prestazioni di sputtering stabili, adatto per film sottili conduttivi<\/td>Strati conduttivi, rivestimenti per la ricerca, applicazioni PVD generiche<\/td><\/tr>
Target in lega di nichel<\/td>Nichel combinato con elementi quali Cr, Si, Fe, Ti, Co o Cu<\/td>Propriet\u00e0 elettriche, termiche, magnetiche e meccaniche regolabili<\/td>Prestazioni personalizzate grazie al controllo della composizione della lega, maggiore resistenza all\u2019ossidazione, maggiore stabilit\u00e0 del film<\/td>Resistori a film sottile, componenti semiconduttori, dispositivi elettronici, film magnetici, rivestimenti funzionali<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>

Il vantaggio principale dei bersagli di sputtering in lega di nichel \u00e8 la possibilit\u00e0 di modificare le prestazioni del materiale attraverso la progettazione della lega. Per applicazioni che richiedono una resistenza elettrica, una stabilit\u00e0 termica o propriet\u00e0 magnetiche specifiche, le leghe di nichel offrono spesso prestazioni migliori rispetto al nichel puro.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Tipi di bersagli per sputtering in lega di nichel<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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I target di sputtering in lega di nichel comprendono varie composizioni progettate per fornire diverse propriet\u00e0 elettriche, termiche, magnetiche, meccaniche e chimiche per la deposizione di film sottili. Combinando il nichel con elementi di lega quali cromo, silicio, ferro, titanio, cobalto, rame, vanadio e alluminio, i target in lega di nichel possono essere personalizzati per soddisfare diversi requisiti di sputtering PVD.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-cromo (NiCr)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-cromo \u00e8 un materiale a base di nichel composto da nichel e cromo. L\u2019aggiunta di cromo migliora la resistenza all\u2019ossidazione, la resistenza alla corrosione e la stabilit\u00e0 termica, mantenendo al contempo propriet\u00e0 elettriche stabili.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-cromo-silicio (NiCrSi)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-cromo-silicio combina nichel, cromo e silicio per fornire propriet\u00e0 elettriche controllate e una maggiore stabilit\u00e0 del film sottile. Il contenuto di cromo migliora la resistenza all\u2019ossidazione, mentre il silicio contribuisce a regolare le caratteristiche elettriche e le prestazioni del materiale.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-ferro (NiFe)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-ferro \u00e8 una lega a base di nichel contenente ferro. Il sistema di lega Ni-Fe offre propriet\u00e0 magnetiche e meccaniche regolabili con una buona stabilit\u00e0 del materiale.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-titanio (NiTi)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-titanio combina nichel e titanio per fornire caratteristiche meccaniche e funzionali uniche. La composizione della lega garantisce un\u2019eccellente stabilit\u00e0 strutturale e propriet\u00e0 del materiale personalizzabili.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-cobalto (NiCo)<\/strong><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-cobalto \u00e8 composto da nichel e cobalto e offre propriet\u00e0 magnetiche, elettriche e strutturali regolabili tramite il controllo della composizione della lega.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-rame (NiCu)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-rame combina nichel e rame per fornire propriet\u00e0 elettriche, termiche e di resistenza alla corrosione ben bilanciate.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-vanadio (NiV)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-vanadio combina nichel e vanadio per ottenere propriet\u00e0 elettriche e del materiale controllate nei processi di deposizione di film sottili.<\/p>

Target di sputtering in lega di nichel-alluminio (NiAl)<\/strong><\/a><\/span><\/p>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel e alluminio combina nichel e alluminio per garantire una maggiore resistenza all’ossidazione e una maggiore stabilit\u00e0 termica grazie alla composizione della lega.<\/p>

ULPMAT<\/a> <\/span>fornisce bersagli di sputtering in lega di nichel con varie composizioni, tra cui NiCr, NiCrSi, NiFe, NiTi, NiCo, NiCu, NiV e altre leghe a base di nichel personalizzate. La composizione della lega, la purezza, le dimensioni e la forma dei bersagli possono essere personalizzate in base ai requisiti specifici di deposizione PVD e alle esigenze di produzione dei film sottili.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Propriet\u00e0 principali dei bersagli di sputtering in lega di nichel<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Le prestazioni dei bersagli di sputtering in lega di nichel dipendono dalla composizione della lega, dalla microstruttura, dalla qualit\u00e0 del bersaglio e dalle condizioni di sputtering. Rispetto ai bersagli in nichel puro, le leghe a base di nichel quali NiCr, NiCrSi, NiFe e NiCo offrono una maggiore flessibilit\u00e0 nel controllo delle propriet\u00e0 elettriche, termiche, magnetiche e meccaniche nella deposizione di film sottili.<\/p>

Propriet\u00e0 elettriche e controllo della resistivit\u00e0<\/strong><\/p>

Le leghe di nichel-cromo (NiCr) e nichel-cromo-silicio (NiCrSi) sono ampiamente utilizzate quando sono richieste una resistivit\u00e0 elettrica controllata e prestazioni stabili del film. Regolando il rapporto tra cromo e silicio, \u00e8 possibile ottimizzare le caratteristiche elettriche, il coefficiente di temperatura della resistenza (TCR) e la stabilit\u00e0 a lungo termine dei film depositati.<\/p>

Stabilit\u00e0 termica e resistenza all\u2019ossidazione<\/strong><\/span><\/p>

Il cromo \u00e8 un importante elemento di lega per migliorare la resistenza all\u2019ossidazione e la stabilit\u00e0 termica nelle leghe a base di nichel. I target in NiCr e NiCrSi sono in grado di mantenere prestazioni stabili sotto sollecitazioni termiche, mentre l\u2019aggiunta di silicio pu\u00f2 migliorare ulteriormente la stabilit\u00e0 del film modificando la struttura della lega e il comportamento di diffusione.<\/p>

Propriet\u00e0 magnetiche<\/strong><\/p>

Le leghe di nichel contenenti ferro o cobalto, come NiFe e NiCo, offrono propriet\u00e0 magnetiche regolabili per applicazioni a film sottile. Le loro prestazioni magnetiche dipendono dalla composizione della lega, dallo spessore del film e dai parametri di deposizione.<\/p>

Qualit\u00e0 del bersaglio e prestazioni di deposizione<\/strong><\/p>

Per i target di sputtering in lega di nichel, una composizione uniforme, un\u2019elevata densit\u00e0 e una microstruttura stabile sono essenziali per una deposizione uniforme del film sottile. La qualit\u00e0 del target pu\u00f2 influenzare la velocit\u00e0 di sputtering, l\u2019uniformit\u00e0 del film, la generazione di particelle e le prestazioni complessive del rivestimento.<\/p>

Influenza dei parametri di sputtering<\/strong><\/p>

Sebbene la composizione della lega determini le propriet\u00e0 fondamentali dei target di sputtering in lega di nichel, le prestazioni finali del film sottile sono fortemente influenzate anche dalle condizioni di sputtering. Parametri quali la potenza di sputtering, la pressione di esercizio, la temperatura del substrato e lo spessore del film possono influire sulla velocit\u00e0 di deposizione, sulla densit\u00e0 del film, sulla microstruttura, sulle prestazioni elettriche e sulla stabilit\u00e0 meccanica.<\/p>

Ad esempio, la potenza di sputtering influenza l\u2019energia degli atomi depositati e la velocit\u00e0 di crescita del film, mentre la pressione di lavoro incide sulle caratteristiche del plasma e sull\u2019energia delle particelle durante la deposizione. La temperatura del substrato pu\u00f2 modificare la diffusione atomica e la cristallinit\u00e0 del film, mentre lo spessore del film pu\u00f2 influenzare le propriet\u00e0 elettriche e meccaniche. Pertanto, la scelta di un bersaglio di sputtering in lega di nichel adeguato richiede non solo di considerare la composizione della lega, ma anche la compatibilit\u00e0 con il sistema di sputtering e le condizioni di processo.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Applicazioni<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Resistori a film sottile e pellicole elettroniche: NiCr e NiCrSi<\/a> <\/span>sono comunemente utilizzati per le applicazioni relative ai resistori a film sottile grazie alla loro resistivit\u00e0 elettrica controllabile e alle caratteristiche termiche stabili. Regolando la composizione della lega e le condizioni di deposizione, questi materiali possono garantire prestazioni di resistenza affidabili per i componenti elettronici di precisione.<\/p>

Semiconduttori<\/a> <\/span>e film avanzati a film sottile<\/a> <\/span>: i bersagli di sputtering in lega di nichel vengono utilizzati per la deposizione di film sottili funzionali in applicazioni elettroniche e relative ai semiconduttori. Questi processi richiedono in genere un\u2019elevata purezza del materiale, una composizione della lega uniforme e prestazioni di sputtering stabili per ottenere una qualit\u00e0 del film costante.<\/p>

Componenti elettronici: i film sottili in leghe a base di nichel sono utilizzati in componenti elettronici in cui sono richieste propriet\u00e0 elettriche controllate, stabilit\u00e0 termica e prestazioni affidabili del film. La scelta della composizione della lega dipende dai requisiti specifici del dispositivo e dalle condizioni operative.<\/p>

Film sottili magnetici: i bersagli di sputtering in NiFe e NiCo sono ampiamente utilizzati per la ricerca sui film sottili magnetici e nei dispositivi magnetici elettronici. Le loro propriet\u00e0 magnetiche possono essere regolate attraverso la composizione della lega, la struttura del film e l\u2019ottimizzazione del processo di sputtering.<\/p>

Rivestimenti funzionali e protettivi: i bersagli di sputtering in lega di nichel possono essere utilizzati anche per produrre rivestimenti funzionali che richiedono una buona stabilit\u00e0 termica, resistenza alla corrosione e durata meccanica. I sistemi di leghe contenenti cromo o altri elementi possono migliorare le prestazioni dei rivestimenti in ambienti particolarmente difficili.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"Applicazioni\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Come scegliere un bersaglio di sputtering in lega di nichel<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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La scelta di un bersaglio di sputtering in lega di nichel adeguato richiede di tenere conto dei requisiti applicativi, delle condizioni di deposizione e delle propriet\u00e0 del materiale.<\/p>

1. Considerare la composizione della lega<\/strong><\/p>

La composizione della lega \u00e8 uno dei fattori pi\u00f9 importanti nella scelta di un bersaglio di sputtering in lega di nichel. Diversi elementi di lega possono modificare le propriet\u00e0 elettriche, termiche, magnetiche e meccaniche dei film sottili depositati.<\/p>
Elemento di lega<\/strong><\/td>Influenza sulle propriet\u00e0 del materiale<\/strong><\/td><\/tr>
Cromo (Cr)<\/td>Migliora la resistenza all\u2019ossidazione, la resistenza alla corrosione e la stabilit\u00e0 termica<\/td><\/tr>
Silicio (Si)<\/td>Aiuta a controllare la resistivit\u00e0 elettrica e migliora la stabilit\u00e0 dei film sottili<\/td><\/tr>
Ferro (Fe)<\/td>Fornisce propriet\u00e0 magnetiche e migliora le prestazioni funzionali<\/td><\/tr>
Titanio (Ti)<\/td>Migliora le propriet\u00e0 meccaniche e le caratteristiche funzionali<\/td><\/tr>
Cobalto (Co)<\/td>Migliora le propriet\u00e0 magnetiche ed elettroniche<\/td><\/tr>
Rame (Cu)<\/td>Migliora la conduttivit\u00e0 elettrica<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>

La scelta della composizione della lega dipende dalle propriet\u00e0 richieste del film sottile e dai requisiti dell’applicazione. Ad esempio, le leghe NiCrSi vengono comunemente scelte per applicazioni che richiedono una resistivit\u00e0 elettrica controllata e prestazioni stabili del film sottile, mentre le leghe NiFe sono preferite per le applicazioni con film sottili magnetici. I bersagli di sputtering in lega di nichel sono disponibili in diverse composizioni, gradi di purezza, dimensioni e forme in base alle specifiche esigenze di deposizione PVD.<\/p>

2. Scegliere la purezza adeguata<\/strong><\/p>

La purezza del bersaglio \u00e8 un fattore importante che influisce sulla qualit\u00e0 del film sottile e sulla stabilit\u00e0 della deposizione. I bersagli di sputtering in lega di nichel di maggiore purezza possono contribuire a ridurre le potenziali fonti di contaminazione durante il processo di sputtering e sono comunemente scelti per applicazioni che richiedono un rigoroso controllo delle prestazioni del film.<\/p>

A seconda dei requisiti applicativi, i bersagli di sputtering in lega di nichel sono disponibili in diversi gradi di purezza, tra cui 99%, 99,9%, 99,95% e 99,99%. Il livello di purezza appropriato deve essere selezionato in base alla qualit\u00e0 del film richiesta, alle prestazioni del dispositivo e ai requisiti di processo.<\/p>

3. Scegliere la forma e le dimensioni adeguate del bersaglio<\/strong><\/p>

La geometria e le dimensioni del bersaglio devono essere compatibili con l\u2019apparecchiatura di sputtering e la configurazione del catodo. I bersagli di sputtering in lega di nichel possono essere forniti in varie forme, tra cui bersagli a disco, bersagli a piastra, bersagli incollati e forme personalizzate.<\/p>

Una corretta progettazione del bersaglio contribuisce a garantire un comportamento di sputtering stabile, un utilizzo efficiente del materiale e una deposizione uniforme del film sottile.<\/p>

4. Considerare i requisiti del processo di sputtering<\/strong><\/p>

La scelta di un bersaglio di sputtering in lega di nichel deve tenere conto anche dello specifico processo di deposizione. Fattori quali il metodo di sputtering, le condizioni di alimentazione, il materiale del substrato, la temperatura di deposizione e lo spessore richiesto del film possono influenzare le caratteristiche finali del film. Ad esempio, lo sputtering con magnetrone in corrente continua (DC) e lo sputtering a radiofrequenza (RF) possono richiedere configurazioni diverse dei bersagli a seconda dell\u2019apparecchiatura e dei requisiti applicativi.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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Domande frequenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Che cos\u2019\u00e8 un bersaglio di sputtering in lega di nichel?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Il bersaglio di sputtering in lega di nichel \u00e8 un materiale a base di nichel utilizzato come sorgente catodica nei processi di sputtering PVD per il deposito di film sottili. \u00c8 costituito da nichel combinato con elementi di lega quali cromo, silicio, ferro, titanio, cobalto o rame, al fine di ottenere propriet\u00e0 elettriche, termiche, magnetiche e meccaniche controllate.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>A cosa servono i bersagli di sputtering in lega di nichel?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

I bersagli di sputtering in lega di nichel vengono utilizzati per diverse applicazioni relative ai film sottili, tra cui resistori a film sottile, rivestimenti per semiconduttori, componenti elettronici, film sottili magnetici e rivestimenti funzionali. La composizione della lega scelta dipende dalle propriet\u00e0 richieste del film, quali la resistivit\u00e0 elettrica, la stabilit\u00e0 termica o le prestazioni magnetiche.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Qual \u00e8 la differenza tra i bersagli di sputtering in nichel puro e quelli in lega di nichel?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

I bersagli in nichel puro garantiscono un’elevata conduttivit\u00e0 elettrica e una buona resistenza alla corrosione. I bersagli per sputtering in lega di nichel offrono una maggiore flessibilit\u00e0, poich\u00e9 gli elementi di lega possono modificare propriet\u00e0 quali la resistivit\u00e0 elettrica, la resistenza all’ossidazione, la stabilit\u00e0 termica e il comportamento magnetico.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Quali sono i tipi pi\u00f9 comuni di bersagli per sputtering in lega di nichel?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Tra i target di sputtering pi\u00f9 comuni in lega di nichel figurano:<\/p>\n

    \n
  • Target di sputtering in lega di nichel-cromo (NiCr)<\/li>\n
  • Target di sputtering in lega di nichel-cromo-silicio (NiCrSi)<\/li>\n
  • Target di sputtering in lega di nichel-ferro (NiFe)<\/li>\n
  • Target di sputtering in lega di nichel-titanio (NiTi)<\/li>\n
  • Target di sputtering in lega di nichel-cobalto (NiCo)<\/li>\n
  • Target di sputtering in lega di nichel e rame (NiCu)<\/li>\n<\/ul>\n

    I diversi sistemi di leghe offrono caratteristiche dei materiali diverse per soddisfare specifici requisiti relativi ai film sottili PVD.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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    <\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>A cosa serve il bersaglio di sputtering in lega di nichel-cromo-silicio?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

    Il bersaglio di sputtering in lega di nichel-cromo-silicio (NiCrSi) viene utilizzato per applicazioni che richiedono una resistivit\u00e0 elettrica controllata, caratteristiche termiche stabili e prestazioni affidabili dei film sottili. L’aggiunta di cromo e silicio contribuisce a ottimizzare la resistenza all’ossidazione e la stabilit\u00e0 elettrica.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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    <\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Come si fa a scegliere un bersaglio di sputtering in lega di nichel adatto?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

    La scelta deve tenere conto di diversi fattori, tra cui la composizione della lega, la purezza, le dimensioni del bersaglio, la compatibilit\u00e0 con il sistema di sputtering e le propriet\u00e0 richieste del film. Ad esempio, le leghe NiCr e NiCrSi vengono spesso scelte per il controllo delle propriet\u00e0 elettriche, mentre le leghe NiFe e NiCo sono prese in considerazione per applicazioni con film sottili magnetici.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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    <\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Quali livelli di purezza sono disponibili per i bersagli di sputtering in lega di nichel?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

    I bersagli per sputtering in lega di nichel possono essere forniti in diversi livelli di purezza a seconda delle esigenze applicative, tra cui 99%, 99,9%, 99,95% e gradi di purezza ancora pi\u00f9 elevati per processi di deposizione di film sottili particolarmente esigenti.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

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    <\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>\u00c8 possibile personalizzare i bersagli di sputtering in lega di nichel?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

    S\u00ec. I bersagli di sputtering in lega di nichel possono essere personalizzati in base alle esigenze applicative, tra cui la composizione della lega, la purezza, le dimensioni e la forma del bersaglio. ULPMAT offre soluzioni personalizzate di bersagli di sputtering in lega di nichel per diverse esigenze di deposizione PVD.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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    Riferimenti<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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    \n\t\t\t\t\t\t\t
      \n\t\t\t\t\t\t\t
    • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t1. Ohring, M. Scienza dei materiali dei film sottili: deposizione e struttura. Academic Press.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
    • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t2. Mattox, D. M. Manuale sui processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Elsevier.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
    • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t3. Kelly, P. J., Arnell, R. D. \u201cDeposizione per sputtering con magnetrone: una rassegna dei recenti sviluppi e delle applicazioni.\u201d Vacuum.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
    • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t4. Articoli di ricerca sui film sottili di NiCr, NiCrSi e NiFe pubblicati su *Thin Solid Films*, *Surface and Coatings Technology* e *Journal of Applied Physics*.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t
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