Ossido di zinco (drogato con Ga)

Target di sputtering in ossido di zinco (drogato con Ga) Panoramica

I target di sputtering in ossido di zinco (drogato con Ga)
sono target in ossido altamente trasparenti e altamente conduttivi, utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili conduttivi trasparenti, ampiamente applicati nei display, nel fotovoltaico e nell’optoelettronica.

Offriamo soluzioni personalizzate con diversi rapporti di drogaggio, dimensioni e specifiche di densità. Contattateci
per i parametri tecnici
e i suggerimenti di applicazione.

Caratteristiche principali del prodotto

Distribuzione stabile del drogaggio con Ga
Eccellente conduttività e trasmittanza del film sottile
Elevata densità del bersaglio e scarica stabile
Adatto per sputtering DC e RF
Buona uniformità dei lotti
Supporta le esigenze di ricerca e produzione di massa

Applicazioni dei target di sputtering all’ossido di zinco (drogato con Ga)

Co-op conduttive trasparenti (TCO): questo materiale può essere utilizzato per preparare strati conduttivi trasparenti con elevata trasmittanza e bassa resistività, adatti a sostituire i tradizionali film sottili ITO.
Display a schermo piatto e pannelli tattili: utilizzati per formare film elettrodi stabili in dispositivi LCD, OLED e touch display, migliorando la consistenza del display.
Celle solari a film sottile: come elettrodo frontale o materiale per strati funzionali, può migliorare l’efficienza di assorbimento della luce e potenziare le prestazioni elettriche complessive del dispositivo.
Dispositivi optoelettronici e sensori: adatto per strutture optoelettroniche a film sottile come rilevatori di raggi ultravioletti e sensori di gas, in applicazioni che richiedono un’elevata uniformità del film sottile.

Domande frequenti

D1: Qual è la differenza tra i target di ossido di zinco drogato con Ga e quelli di ossido di zinco ordinario?
A1: L’introduzione di Ga migliora significativamente la conduttività del film sottile, mantenendo una buona trasparenza ottica.

D2: Per quale processo di sputtering è adatto questo tipo di target?
A2: Comunemente utilizzato nello sputtering con magnetrone DC e nello sputtering RF; il processo specifico dipende dalla configurazione dell’apparecchiatura e dai requisiti del film.

D3: Il rapporto di drogaggio può essere personalizzato?
R3: Sì, sono disponibili vari schemi di drogaggio per soddisfare i requisiti di resistività e trasmittanza delle diverse applicazioni.

D4: Il target è soggetto a crepe durante l’uso?
R4: Ottimizzando il processo di sinterizzazione e controllando la densità, è possibile ridurre efficacemente il rischio di crepe causate dallo stress termico.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella preparazione stabile e nell’abbinamento applicativo di materiali di sputtering a base di ossidi funzionali, ponendo l’accento sul controllo della struttura del target, sulla costanza delle prestazioni e sulle capacità di fornitura a lungo termine. Siamo in grado di fornire un supporto affidabile e riproducibile in termini di materiali per i clienti del settore della ricerca e dell’industria.