Ossido di indio-gallio-zinco (IGZO)

Panoramica dei granuli di ossido di indio-gallio-zinco

L’ossido di indio-gallio-zinco (In2O3-Ga2O3-ZnO) sono materiali semiconduttori ossidati di elevata purezza ampiamente utilizzati nell’elettronica trasparente, nei transistor a film sottile (TFT) e nei display a schermo piatto. Grazie all’eccellente mobilità degli elettroni, alla trasparenza ottica e alla composizione stabile, i granuli di IGZO sono una materia prima ideale per i target di sputtering, i rivestimenti a film sottile e le applicazioni di ricerca. I nostri granuli di IGZO sono prodotti con una purezza del 99,99% (4N), una morfologia densa e una distribuzione uniforme delle particelle, garantendo prestazioni costanti sia nell’uso industriale che in laboratorio.

Forniamo granuli di ossido di indio-gallio-zinco (IGZO) di alta qualità con gamme di dimensioni personalizzate, che supportano varie tecnologie di deposizione di film sottili.

Caratteristiche principali dei granuli di IGZO

Elevata purezza: purezza del 99,99% (4N) per prestazioni superiori in applicazioni di semiconduttori e display.
Composizione stabile: Il rapporto uniforme In:Ga:Zn:O garantisce la riproducibilità delle proprietà del film sottile.
Eccellenti prestazioni elettriche: Elevata mobilità degli elettroni adatta ad applicazioni TFT avanzate.
Dimensione flessibile delle particelle: Disponibile in granuli di diverse dimensioni per obiettivi di sputtering e ricerca.
Ampie applicazioni: Dagli schermi piatti all’optoelettronica trasparente.

Applicazioni dei granuli di In2O3-Ga2O3-ZnO

Realizzazione di target sputtering: Materia prima per i target di sputtering IGZO.
Transistor a film sottile (TFT): Da utilizzare nei backplane a matrice attiva dei display OLED e LCD.
Elettronica trasparente: Ideale per strati conduttivi flessibili e trasparenti.
Dispositivi optoelettronici Dispositivi optoelettronici: Utilizzati in fotorivelatori, sensori e backplane di display.
Ricerca scientifica: Applicato nei laboratori per lo studio dei film sottili di semiconduttori e ossidi.

Perché sceglierci?

Competenza professionale: Specializzata in materiali semiconduttori ossidati.
Soluzioni personalizzate: Controllo flessibile delle dimensioni e della composizione dei granuli.
Qualità affidabile: Bassi livelli di impurità con un rigoroso controllo ICP-MS.
Spedizione globale: Consegna rapida con imballaggio sicuro.
Assistenza tecnica: Disponibilità di COA, TDS, MSDS e rapporti sulle impurità.

Domande frequenti

F1. Che livello di purezza hanno i granuli di In2O3-Ga2O3-ZnO?
A1. La purezza standard è del 99,99% (4N), adatta alle tecnologie avanzate di TFT e display.

F2. Le dimensioni dei granuli possono essere personalizzate?
A2. Sì, forniamo dimensioni personalizzate, con intervalli standard compresi tra 1 e 6 mm.

F3. Per cosa vengono utilizzati principalmente i granuli di IGZO?
A3. Sono utilizzati principalmente per la fabbricazione di target sputtering, transistor a film sottile e dispositivi elettronici trasparenti.

F4. Come vengono confezionati i granuli di ossido di indio-gallio-zinco?
A4. Sono confezionati in contenitori antistatici e sigillati sottovuoto per evitare la contaminazione.

F5. Fornite la documentazione tecnica per ogni ordine?
A5. Sì, forniamo COA, TDS, MSDS e rapporti di analisi delle impurità ICP-MS.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
I rapporti di analisi di terze parti sono disponibili su richiesta.