| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 4908300800ST001 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | 299.6 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST002 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | 800 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST003 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST004 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST005 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST006 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4908300800ST007 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST008 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
L’ossido di indio e zinco (IZO) è un materiale di ossido conduttivo trasparente (TCO) di elevata purezza ampiamente utilizzato nell’elettronica a film sottile, nei dispositivi optoelettronici e nelle applicazioni dei semiconduttori. Grazie all’eccellente conduttività elettrica, alla trasparenza ottica e alla formazione uniforme di film, i target sputtering IZO sono essenziali per la deposizione di film sottili nei display, nei touch panel e nei dispositivi fotovoltaici. I nostri target garantiscono una purezza del 99,95% (3N5), una struttura densa e prestazioni stabili per applicazioni industriali e di ricerca.
Forniamo target sputtering all’ossido di zinco e indio di alta qualità per istituti di ricerca e produttori. Rapporto personalizzabile rapporto.Contattateci per ottenere il miglior prezzo e supporto tecnico.
Purezza superiore: la purezza del 99,95% (3N5) soddisfa i requisiti più severi per le applicazioni di film sottili e TCO.
Composizione personalizzabile: I rapporti In:Zn e le dimensioni del target possono essere regolati in base ai requisiti di deposizione.
Prestazioni elevate: Eccellente conduttività elettrica, trasparenza ottica e caratteristiche di sputtering stabili.
Materiale stabile: La struttura densa, la composizione uniforme e i bassi livelli di impurità garantiscono risultati riproducibili del film sottile.
Elettronica a film sottile: Applicato in elettrodi trasparenti, transistor a film sottile (TFT) e pannelli di visualizzazione.
Dispositivi optoelettronici Dispositivi optoelettronici: Utilizzati in OLED, fotorivelatori, sensori a infrarossi e pannelli tattili.
Solare Celle solari: Adatto per strati di elettrodi tampone e trasparenti in CIGS e altre celle solari avanzate.
Ricerca e sviluppo: Ampiamente utilizzato nei laboratori per la scienza dei materiali e la ricerca sui dispositivi.
Dispositivi energetici: Applicato in film conduttivi trasparenti per applicazioni di accumulo e conversione dell’energia.
Competenza nel settore: Specializzati nella fornitura di target di sputtering ad alta purezza per tecnologie TCO e film sottili.
Soluzioni personalizzate: Flessibilità nella composizione dei target, nelle dimensioni e nelle specifiche di purezza.
Qualità affidabile: Il rigoroso controllo delle impurità, la struttura densa e la composizione uniforme garantiscono prestazioni stabili.
Consegna globale: Spedizione rapida e sicura in tutto il mondo con imballaggio protettivo.
Assistenza tecnica: Un team di professionisti fornisce documentazione tecnica completa e consulenza.
F1. Qual è la purezza dei vostri target di sputtering IZO?
A1. I nostri target hanno una purezza standard del 99,95% (3N5), garantendo risultati affidabili per applicazioni avanzate di film sottili e optoelettronica.
F2. È possibile personalizzare la composizione o le dimensioni dei target di ossido di zinco-indio?
A2. Sì, offriamo rapporti In:Zn e dimensioni del target personalizzabili in base ai requisiti del sistema di deposizione.
F3. Come devono essere conservati i target di sputtering all’ossido di indio e zinco?
A3. Conservare in un ambiente fresco e asciutto, lontano da umidità e contaminanti, in un imballaggio protettivo.
F4. Quali industrie utilizzano i target di sputtering all’ossido di zinco-indio?
A4. Ampiamente utilizzati in elettronica a film sottile, optoelettronica, celle solari, semiconduttori e laboratori di ricerca.
Ogni lotto di prodotti viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza (MSDS)
I rapporti di test di terze parti sono disponibili su richiesta per soddisfare gli standard industriali e di ricerca.
Formula chimica: In₂O₃-ZnO
Aspetto: Bersaglio denso bianco sporco o grigio argento
Punto di fusione: ~1900°C
Punto di ebollizione: ~2000°C
Struttura cristallina: Cubica (In₂O₃ come fase primaria)
Selezione della piastra di supporto: Rame (Cu), Alluminio (Al) o Acciaio inossidabile (SS), selezionabile in base alle dimensioni del target e all’apparecchiatura di deposizione.
Metodo di sputtering: RF/DC Magnetron Sputtering
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
