Platino Manganese I target sputtering in lega di platino e manganese sono materiali chiave progettati per l’immagazzinamento magnetico e l’elettronica di spin e sono ampiamente utilizzati nelle MRAM, nei sensori GMR e in varie strutture di valvole di spin. L’esclusivo antiferromagnetismo e l’elevata stabilità termica ne fanno la scelta ideale per gli strati magnetici fissi.
Siamo in grado di fornire bersagli sputtering in lega di platino e manganese di varie forme e dimensioni, tra cui rotondi, rettangolari, anulari, ecc. e possono essere personalizzati con precisione in base ai requisiti specifici del processo. Forniamo inoltre un supporto tecnico completo e servizio post-vendita per aiutarvi a migliorare l’efficienza di deposizione del film e la consistenza del prodotto.
Rapporto di composizione: o personalizzabile
Purezza: 99,95%
Elevata stabilità termica, adatto al processo di ricottura ad alta temperatura
Eccellenti prestazioni di accoppiamento antiferromagnetico per una direzione di magnetizzazione fissa
Alta densità e particelle fini, adatte ai sistemi di sputtering di precisione
Sono disponibili varie dimensioni e servizi di incollaggio del backplane (Incollaggio)
Memoria magnetica ad accesso casuale (MRAM): Il PtMn è ampiamente utilizzato come materiale antiferromagnetico dello strato fisso per garantire una direzione stabile del polo magnetico.
Testina del disco rigido: Nella struttura GMR o TMR, il PtMn è utilizzato come materiale dello strato di pinning per ottenere una lettura ad alta sensibilità dei segnali magnetici.
Dispositivi spintronici: Come strato di bias di scambio, viene utilizzato per regolare il comportamento dell’interfaccia magnetica.
Sensore magnetico: L’elevata stabilità lo rende adatto all’automazione industriale e al rilevamento automobilistico.
Forniamo un dettagliato Certificato di analisi (COA), scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e rapporto di analisi della composizione per ogni lotto di target PtMn. In base alle esigenze del cliente, è possibile incaricare istituti terzi di condurre test di composizione e magnetici per garantire che la qualità del prodotto soddisfi i requisiti delle applicazioni di alto livello.
Formula molecolare: PtMn Aspetto: Catrame metallico grigio-argentoIl bersaglio sputtering in metallo platino è un bersaglio in metallo prezioso sviluppato specificamente per la deposizione di film sottili di alto livello.
Densità: circa 15,0 g/cm³
Punto di fusione: circa 1.550-1.650 °C (punto di fusione della lega)
Struttura cristallina: Struttura ordinata L1₀ (adatta per dispositivi di archiviazione magnetica)
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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