Carbonitruro di titanio

Target di sputtering in carbonitruro di titanio Panoramica

I target di sputtering
in carbonitruro di titanio
sono composti da carburo di titanio e nitruro di titanio, combinando l’elevata durezza, la resistenza all’usura e l’eccellente stabilità termica di entrambi i materiali ceramici. Grazie alla progettazione del sistema composito, questo target presenta prestazioni più equilibrate in termini di densità del film, proprietà meccaniche e stabilità di servizio ed è ampiamente utilizzato nella preparazione di rivestimenti resistenti all’usura, film sottili funzionali e rivestimenti ingegneristici ad alte prestazioni.

Siamo in grado di fornire target di sputtering TiC-TiN densi e distribuiti uniformemente, adatti per sistemi di sputtering magnetron DC o RF. Possiamo anche fornire prodotti target di diverse dimensioni, forme e schemi di incollaggio
in base ai requisiti delle apparecchiature, supportando sia applicazioni di ricerca che industriali.

Caratteristiche principali del prodotto

Combina l’elevata durezza e resistenza all’usura di TiC e TiN
Buona stabilità alle alte temperature, adatta per applicazioni di sputtering a potenza medio-alta
Proprietà meccaniche e stabilità strutturale equilibrate del film sottile
Il design composito della composizione contribuisce a migliorare le prestazioni complessive del film sottile
Adatto a vari processi di deposizione di film sottili PVD

Applicazioni dei target di sputtering in carbonitruro di titanio

Rivestimenti resistenti all’usura e protettivi:
comunemente utilizzati per preparare rivestimenti resistenti all’usura con elevata durezza e basso coefficiente di attrito, adatti per le superfici di utensili da taglio, stampi e parti meccaniche.
Film sottili funzionali e ingegneristici:
nei rivestimenti funzionali e nelle applicazioni ingegneristiche, questo target può essere utilizzato per ottenere strutture composite a film sottile che bilanciano durezza e stabilità.
Film sottili per alte temperature e ambienti difficili:
adatto alla ricerca e all’applicazione di materiali a film sottile utilizzati in condizioni di servizio ad alta temperatura, attrito o complesse.
Ricerca scientifica e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzato in università, istituti di ricerca e laboratori per l’ottimizzazione di nuovi materiali compositi a film sottile e dei parametri del processo di sputtering.

Domande frequenti

D1: Per quali metodi di sputtering è adatto il bersaglio di sputtering in carbonitruro di titanio?
R1: Questo bersaglio può essere generalmente utilizzato per lo sputtering con magnetrone DC o lo sputtering con magnetrone RF, a seconda della configurazione dell’apparecchiatura e dei requisiti di processo.

D2: Quali proprietà dei film sottili si possono ottenere utilizzando target in carbonitruro di titanio?
R2: I film sottili depositati presentano tipicamente un’elevata durezza, una buona resistenza all’usura e proprietà strutturali stabili.

D3: I target di sputtering in carbonitruro di titanio sono adatti allo sputtering ad alta potenza?
R3: Grazie alla sua buona stabilità termica e alla struttura densa, è adatto a processi di sputtering ad alta densità di potenza in condizioni di processo appropriate.

D4: L’uso di target compositi durante la sputtering contribuisce alla stabilità della composizione del film?
R4: In condizioni di qualità stabile del target e di controllo dei parametri di processo, i target compositi aiutano a ottenere film sottili compositi con una composizione relativamente uniforme.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Da tempo ci concentriamo sui target di sputtering e sui materiali inorganici avanzati, ponendo l’accento sulla densità dei target, sulla consistenza della composizione e sull’adattabilità del processo, e siamo in grado di fornirvi soluzioni materiali stabili e affidabili per la deposizione di film sottili compositi TiC-TiN.