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Carbonio

Chemical Name:
Carbonio
Formula:
C
Product No.:
0600
CAS No.:
7782-42-5
EINECS No.:
231-955-3
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
0600ST001 C 99.999% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
Product ID
0600ST001
Formula
C
Purity
99.999%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm

Panoramica sui target di sputtering al carbonio

I target di sputtering
al carbonio
sono realizzati con materiali al carbonio di elevata purezza, che garantiscono un’elevata densità del target e processi di sputtering stabili. Sono utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili a base di carbonio e relativi rivestimenti funzionali.

Offriamo una vasta gamma di target di sputtering al carbonio, con dimensioni personalizzate e adattamento al processo. Contattateci
direttamente per i parametri tecnici e i preventivi.

Caratteristiche principali del prodotto

Materie prime al carbonio di elevata purezza
Struttura del target densa
Buona stabilità di sputtering
Elevata uniformità del film
Specifiche di dimensioni flessibili
Ciclo di consegna controllabile

Applicazioni dei target di sputtering al carbonio

Deposizione di film sottili funzionali a base di carbonio: adatti alla preparazione di film sottili di carbonio uniformi per soddisfare vari requisiti funzionali.
Rivestimenti protettivi e resistenti all’usura: utilizzati nell’ingegneria delle superfici per migliorare la resistenza all’usura e la stabilità operativa dei substrati.
Film sottili relativi all’elettronica e ai semiconduttori
: applicabili a processi di film sottili che richiedono elevata purezza dei materiali e stabilità di processo.
Sviluppo di processi e ottimizzazione dei parametri: adatto per le fasi di ricerca e su scala pilota, utilizzato per verificare le condizioni di sputtering e i percorsi di processo.

Domande frequenti

D1: Quali processi di sputtering sono adatti per i target di sputtering al carbonio?
R1: Applicabile ai comuni processi di sputtering; i dettagli specifici devono essere confermati in base ai parametri delle apparecchiature.

D2: Quali sono le dimensioni e le specifiche comuni dei target di sputtering?
A2: Supporta diverse dimensioni standard e può anche essere personalizzato per soddisfare le esigenze.

D3: Il consumo del bersaglio è uniforme durante l’uso?
A3: In condizioni di processo ragionevoli, l’erosione del bersaglio è uniforme e il processo di sputtering è stabile.

D4: Supportate acquisti di campioni o piccoli lotti?
A4: Supporta ordini di campioni e piccoli lotti per comodi test e verifiche iniziali.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati in materiali a base di carbonio e target per sputtering e disponiamo di un controllo stabile delle materie prime e di capacità di lavorazione. Siamo in grado di rispondere rapidamente alle richieste e di aiutare i clienti a portare avanti i progetti in modo efficiente.

Formula molecolare: C
Peso molecolare: 12,01 g/mol
Aspetto: Blocco nero e denso
Densità: 2,0-2,3 g/cm³ (bersaglio di grafite)
Punto di fusione: 3550 °C (sublimazione)
Struttura cristallina: Esagonale (grafite)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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