ULPMAT

Zirconio metallico

Chemical Name:
Zirconio metallico
Formula:
Zr
Product No.:
4000
CAS No.:
7440-67-7
EINECS No.:
231-176-9
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
4000ST001 Zr 99.5% (Zr + Hf) Ø 130 mm x 20 mm Inquire
4000ST002 Zr 99.5% (Zr + Hf) Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
4000ST003 Zr 99.95% (Zr + Hf) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
4000ST004 Zr 99.95% (Zr + Hf) Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
4000ST005 Zr 99.95% (Zr + Hf) Ø 75 mm x 3 mm Inquire
4000ST006 Zr 99.95% (Zr + Hf) Ø 125 mm x 3 mm Inquire
4000ST007 Zr 99.95% (Zr + Hf) Ø 125 mm x 6 mm Inquire
Product ID
4000ST001
Formula
Zr
Purity
99.5% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 130 mm x 20 mm
Product ID
4000ST002
Formula
Zr
Purity
99.5% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm
Product ID
4000ST003
Formula
Zr
Purity
99.95% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
4000ST004
Formula
Zr
Purity
99.95% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
4000ST005
Formula
Zr
Purity
99.95% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 75 mm x 3 mm
Product ID
4000ST006
Formula
Zr
Purity
99.95% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 125 mm x 3 mm
Product ID
4000ST007
Formula
Zr
Purity
99.95% (Zr + Hf)
Dimension
Ø 125 mm x 6 mm

Panoramica sui target di sputtering in zirconio metallico

I target di sputtering
in zirconio metallico
sono materiali metallici ad alta purezza progettati per la deposizione di film sottili di precisione in settori avanzati quali semiconduttori, ottica e rivestimenti protettivi. Prodotti con zirconio puro al 99,95%, questi target presentano una densità eccellente, una microstruttura uniforme e prestazioni di sputtering stabili, consentendo risultati di alta qualità e altamente uniformi nella deposizione di film sottili.

Offriamo target di sputtering in zirconio in un’ampia gamma di dimensioni e forme, inclusi target planari, circolari e lavorati su misura. Sono disponibili servizi di incollaggio
e imballaggi specializzati per garantire la compatibilità con diversi sistemi PVD. Per qualsiasi domanda tecnica o relativa all’applicazione, il nostro team fornisce assistenza e guida complete.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza
Corpo del target ad alta densità per uno sputtering stabile
Finitura superficiale liscia e composizione uniforme
Dimensioni, forme e incollaggio della piastra di supporto personalizzati
Ideale per

applicazioni

nei settori dei semiconduttori
, dell’ottica
e dei rivestimenti protettivi

Applicazioni dei target di sputtering in metallo di zirconio

Semiconduttori
ed elettronica: per strati barriera, film conduttivi e componenti a film sottile nei dispositivi microelettronici.
Pellicole ottiche
: utilizzati per produrre rivestimenti ottici riflettenti, protettivi o resistenti alla corrosione.
Componenti aerospaziali e per alte temperature: applicati per formare rivestimenti funzionali su parti che richiedono resistenza all’ossidazione e alla corrosione.
Materiali energetici e funzionali: utili nei materiali legati all’idrogeno, nei film catalitici e nella ricerca avanzata sui film sottili.

Domande frequenti

D1: Quali sono le opzioni di imballaggio per i target di sputtering in zirconio?
A1: I prodotti sono confezionati utilizzando protezioni in schiuma, sigillatura sottovuoto o imballaggi di tipo cleanroom a seconda delle dimensioni e dei requisiti di purezza. È disponibile anche un imballaggio personalizzato.

D2: I target supportano condizioni di sputtering ad alta potenza?
A2: Sì. Grazie alla loro alta densità e alla microstruttura stabile, i target in zirconio funzionano in modo affidabile sia con sputtering DC che RF, anche a livelli di potenza elevati.

D3: Come devono essere conservati i target di sputtering in zirconio?
A3: Conservare in un ambiente pulito, asciutto e con bassa umidità, preferibilmente in imballaggi sigillati. Evitare ambienti corrosivi e mantenere la superficie libera da contaminazioni.

D4: È possibile personalizzare le dimensioni del target e il tipo di piastra di supporto?
A4: Assolutamente sì. Supportiamo la lavorazione personalizzata, l’incollaggio dei target
(Cu/Mo/SS) e la personalizzazione
completa in base alle specifiche delle apparecchiature.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test effettuati da terzi.

Perché scegliere noi?

Qualità del film costante: il materiale ad alta densità garantisce velocità di sputtering stabili e una deposizione uniforme del film.
Personalizzazione flessibile: dimensioni, forme, stili di incollaggio e gradi di purezza possono essere personalizzati su richiesta.
Assistenza tecnica esperta: forniamo consulenza sulla scelta dei materiali, sui parametri di sputtering e sull’applicazione del film.
Garanzia di qualità: ogni prodotto viene consegnato con COA e MSDS, con verifica da parte di terzi disponibile.
Fornitura affidabile e consegna rapida: la capacità produttiva avanzata garantisce una disponibilità costante e una spedizione puntuale.

Formula molecolare: Zr
Peso atomico: 91,22 g/mol
Aspetto: Materiale metallico di elevata purezza di colore grigio-argento, con superficie liscia e struttura densa.
Densità: Circa 6,52 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1.855 °C
Punto di ebollizione: Circa 4.377 °C
Struttura cristallina: Esagonale a struttura stretta (hcp, α-Zr, fase a temperatura ambiente).

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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