Zirconia stabilizzata con ittrio (YSZ)

Target di sputtering in zirconia stabilizzata con ittrio Panoramica

I target di sputtering
in zirconia stabilizzata con ittrio
sono materiali compositi di ossido di terre rare ad alta purezza ampiamente utilizzati nella preparazione di film sottili ottici, rivestimenti ceramici e materiali funzionali.

Offriamo target per sputtering in Y2O3-ZrO2 in varie dimensioni, proporzioni e gradi di purezza, adatti alla ricerca e alla preparazione industriale di film sottili. Che si tratti di rivestimenti ceramici, film ottici o sviluppo di materiali funzionali, forniamo servizi personalizzati e supporto tecnico. Contattateci
per soluzioni e preventivi.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, basso contenuto di impurità
Densità uniforme, struttura densa
Elevata stabilità chimica
Eccellente stabilità termica
Facile da sottoporre al processo di sputtering sottovuoto
Elevata uniformità dei lotti
Piastre di fissaggio e di supporto opzionali
Dimensioni e proporzioni personalizzabili

Applicazioni dei target di sputtering in zirconia stabilizzata con ittrio

Preparazione di film sottili
ottici
: utilizzati per preparare film ottici ad alta trasmittanza e stabilità.
Rivestimenti ceramici: migliora la resistenza all’usura e la stabilità termica delle superfici ceramiche.
Deposizione di materiali funzionali: utilizzati per la preparazione di film sottili in dispositivi elettronici e optoelettronici.
Materiali per la ricerca scientifica: forniscono target di sputtering uniformi e ad alta purezza per la ricerca nel campo della scienza dei materiali.

Domande frequenti

D1: È possibile personalizzare il rapporto Y2O3-ZrO2 del target?
A1: Sì, possiamo fornire diversi rapporti Y2O3-ZrO2 in base alle esigenze dei clienti per soddisfare diversi requisiti di prestazione dei film sottili.

D2: Per quali processi di sputtering sono adatti i target?
A2: Adatti a vari processi di sputtering, tra cui sputtering DC, RF e magnetron.

D3: Come vengono garantite la densità e la compattezza del target?
A3: Il target viene sottoposto a sinterizzazione ad alta temperatura e a severi controlli di qualità, che garantiscono una densità uniforme e una struttura compatta, assicurando la stabilità durante il processo di sputtering.

Q4: È possibile personalizzare le dimensioni e la forma del target?
A4: Siamo in grado di fornire target di forma rotonda, quadrata e irregolare. Le dimensioni sono personalizzate in base alle esigenze del cliente per adattarsi alle diverse apparecchiature di sputtering.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella produzione di target di sputtering Y2O3-ZrO2 ad alta purezza, con un rigoroso controllo di qualità, fornendo servizi personalizzati e supporto tecnico per garantire prestazioni stabili dei target e soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della preparazione di film sottili industriali.