I target di sputtering
in vanadio-titanio
sono target funzionali in lega con prestazioni regolabili che combinano eccellenti proprietà meccaniche con stabilità di sputtering. Questi target sono adatti alla preparazione di film sottili in lega per applicazioni di rivestimento resistenti all’usura, protettivi e funzionali.
Siamo in grado di fornire target di sputtering in lega di vanadio-titanio con diversi rapporti di lega e configurazioni strutturali. Contattateci
per soluzioni personalizzate e assistenza tecnica.
Composizione della lega regolabile
Processo di sputtering stabile
Struttura del bersaglio densa
Buona adesione del film
Adatto per strutture di incollaggio
del backplane
Specifiche di dimensioni flessibili
Preparazione di film sottili in lega resistenti all’usura:
possono essere utilizzati per preparare film sottili in lega resistenti all’usura, migliorando significativamente la resistenza all’usura e la durata della superficie del substrato.
Applicazioni di rivestimenti protettivi:
i rivestimenti in lega formati mediante deposizione per sputtering sono adatti alla protezione superficiale di apparecchiature e componenti, migliorandone la stabilità di servizio.
Modifica funzionale della superficie:
questo target può essere utilizzato per la modifica funzionale della superficie, soddisfacendo i requisiti di applicazioni con elevate esigenze in termini di proprietà meccaniche e uniformità strutturale dei film sottili.
Ricerca e sviluppo di processi:
comunemente utilizzato nella ricerca sui film sottili in lega e sui processi di deposizione, adatto per applicazioni in laboratorio e su scala pilota.
Domande frequenti
D1: È possibile regolare il rapporto di composizione del bersaglio di sputtering in lega di vanadio-titanio?
R1: Il rapporto di composizione della lega può essere personalizzato in base ai requisiti prestazionali del film sottile per soddisfare diverse applicazioni.
D2: Questo target supporta una struttura di incollaggio
del backplate?
R2: Sì, è possibile fornire una soluzione di incollaggio del backplate in base ai requisiti dell’apparecchiatura per migliorare la dissipazione del calore e la stabilità strutturale durante lo sputtering.
D3: In che modo l’incollaggio del backplate aiuta il processo di sputtering?
R3: L’incollaggio del backplate aiuta a migliorare la resistenza complessiva e la conduttività termica del target, riducendo il rischio di sputtering prolungato.
D4: Quali precauzioni devono essere prese quando si utilizza questo bersaglio?
A4: Si raccomanda di mantenere pulita la superficie del bersaglio, evitare impatti meccanici durante l’installazione e controllare ragionevolmente la potenza di sputtering e le condizioni di raffreddamento.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione di target di sputtering in lega e nei processi di incollaggio della piastra posteriore, che ci consentono di fornire in modo affidabile target di sputtering in lega di vanadio-titanio con una struttura affidabile e una composizione controllabile. Forniamo anche un supporto mirato al processo per aiutare a ottenere una deposizione di film sottile stabile e di alta qualità.
Formula molecolare: VTi
Aspetto: Lucentezza metallica grigio-argentea, di solito si presenta in forma solida e metallica.
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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