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Vanadio metallico

Chemical Name:
Vanadio metallico
Formula:
V
Product No.:
2300
CAS No.:
7440-62-2
EINECS No.:
231-171-1
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2300ST001 V 99.9% Ø 25.4mm x 6.35mm Inquire
2300ST002 V 99.9% Ø 50.8mm x 3.175mm Inquire
2300ST003 V 99.9% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
2300ST004 V 99.95% Ø 76.2mm x 3.175mm Inquire
2300ST005 V 99.95% Ø 76.2mm x 6.35mm Inquire
2300ST006 V 99.95% Ø 100mm x 10mm Inquire
2300ST007 V 99.95% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
2300ST008 V 99.95% 200 mm x 100 mm x 10 mm Inquire
2300ST009 V 99.9% 639 mm x 145 mm x 6 mm Inquire
Product ID
2300ST001
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4mm x 6.35mm
Product ID
2300ST002
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8mm x 3.175mm
Product ID
2300ST003
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm
Product ID
2300ST004
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2mm x 3.175mm
Product ID
2300ST005
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2mm x 6.35mm
Product ID
2300ST006
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 100mm x 10mm
Product ID
2300ST007
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm
Product ID
2300ST008
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
200 mm x 100 mm x 10 mm
Product ID
2300ST009
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
639 mm x 145 mm x 6 mm

Panoramica dei target di sputtering in metallo vanadio

I target di sputtering
in metallo vanadio
sono materiali metallici funzionali utilizzati per la deposizione di film sottili, che presentano un’eccellente stabilità e prestazioni di sputtering controllabili. Questi prodotti sono ampiamente utilizzati nei film sottili per semiconduttori, nei rivestimenti funzionali, negli esperimenti di ricerca scientifica e nei relativi campi di deposizione sotto vuoto.

Offriamo target di sputtering in metallo vanadio in varie dimensioni e strutture, supportando la lavorazione personalizzata. Contattateci
per soluzioni tecniche.

Caratteristiche principali del prodotto

Composizione metallica uniforme
Processo di sputtering stabile
Elevata densità del bersaglio
Compatibile con varie apparecchiature sottovuoto
Capace di incollaggio
del backplane Dimensioni personalizzate supportate

Applicazioni dei bersagli di sputtering in metallo vanadio

Film sottili per semiconduttori e microelettronica:
i bersagli di sputtering in metallo vanadio possono essere utilizzati per depositare film sottili di metallo vanadio, adatti alla fabbricazione di dispositivi microelettronici e strati strutturali correlati.

Rivestimenti funzionali e modifica delle superfici:
nel campo dei rivestimenti funzionali, questo target viene spesso utilizzato per preparare film sottili di metallo con resistenza all’usura, conduttività o proprietà fisiche speciali.

Ricerca scientifica e studi di sputtering in laboratorio:
i target di vanadio sono ampiamente utilizzati nelle università e negli istituti di ricerca per l’esplorazione dei processi e i test di prestazione di nuovi materiali per film sottili.

Materiali speciali e sviluppo di processi:
i target di sputtering in metallo vanadio costituiscono un’importante fonte di deposizione di metallo nello sviluppo di nuovi materiali e processi.

Domande frequenti

D1: Quale metodo di sputtering è adatto per i target di sputtering in metallo vanadio?
R1: Questi target possono essere utilizzati per lo sputtering DC o RF; il metodo specifico dipende dalla configurazione dell’apparecchiatura e dai requisiti di processo.

D2: I target di vanadio sono stabili durante lo sputtering?
R2: Con parametri di processo adeguati, i target di vanadio metallico mostrano una buona stabilità di sputtering, che aiuta a ottenere film sottili uniformi.

D3: I target di sputtering in vanadio metallico possono essere incollati su un backplane?
R3: Sì, a seconda dei requisiti dell’applicazione, i target di vanadio possono essere incollati su materiali come i backplane in rame per migliorare la dissipazione del calore e la stabilità dell’installazione.

Q4: Un target in vanadio è adatto alla ricerca o alla produzione di massa?
A4: Questo prodotto è adatto sia alla verifica di processo in esperimenti di ricerca scientifica che a scenari di produzione in piccoli lotti o personalizzati.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Da tempo ci occupiamo della fornitura di target per sputtering e materiali metallici correlati. Conosciamo bene le caratteristiche di applicazione del vanadio metallico nella deposizione di film sottili e siamo in grado di fornire target di qualità stabile, capacità di personalizzazione
flessibili e un supporto tecnico
chiaro per aiutare i clienti a portare avanti senza intoppi i loro progetti di sputtering.

Formula molecolare: V
Peso molecolare: 50,9415 g/mol
Aspetto: Bersaglio metallico grigio-argento
Densità: 6,11 g/cm³
Punto di fusione: 1910°C
Punto di ebollizione: 3377°C
Struttura cristallina: Esagonale a struttura stretta (hcp)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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