I target di sputtering
al titanio (drogato con Nb)
introducono una piccola quantità di niobio nei target a base di titanio per migliorare la conduttività, la resistenza alla corrosione e la stabilità termica dei film sottili. Questi target sono adatti ai processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per la preparazione di film sottili funzionali, rivestimenti conduttivi e materiali di modifica superficiale per dispositivi elettronici.
Offriamo target di sputtering TiNb ad alta purezza e composizione uniforme, adatti per sistemi di sputtering magnetron DC o RF. È possibile personalizzare diverse dimensioni, forme e metodi di incollaggio
per soddisfare le esigenze della ricerca e della produzione industriale.
Il drogaggio con niobio migliora la conduttività e la resistenza alla corrosione del film.
Il materiale del target denso e uniforme garantisce una deposizione stabile del film.
Eccellente adesione del film e proprietà interfacciali.
Applicabile a vari substrati e condizioni di processo PVD.
Supporta la sputtering continua e le applicazioni industriali
Film sottili conduttivi funzionali:
ampiamente utilizzati in film conduttivi trasparenti e rivestimenti funzionali per dispositivi elettronici.
Rivestimenti resistenti alla corrosione e al calore:
il niobio migliora la resistenza alla corrosione e la stabilità termica dei film sottili, adatti alla preparazione di rivestimenti ad alte prestazioni.
Ricerca e sviluppo di processi:
utilizzato in università e istituti di ricerca per lo studio dei parametri di processo dei film sottili conduttivi e dei film sottili compositi.
D1: Per quali processi di sputtering è adatto il bersaglio di sputtering al titanio drogato con Nb?
R1: Adatto per processi di sputtering con magnetrone a corrente continua, sputtering con magnetrone a radiofrequenza e deposizione di film sottili compositi multistrato.
D2: Qual è il ruolo principale del drogaggio con niobio?
R2: Il niobio migliora la conduttività, la resistenza alla corrosione e la stabilità termica del film sottile, rendendo le sue proprietà più adatte ai dispositivi elettronici e alle applicazioni di rivestimento funzionale.
Q3: Come selezionare le specifiche appropriate del target Ti-Nb?
A3: Selezionare le dimensioni e la forma del target in base al modello dell’apparecchiatura di sputtering, alle dimensioni del substrato e ai requisiti di deposizione. Sono disponibili servizi di personalizzazione.
Q4: Quali sono le precauzioni per lo stoccaggio e il trasporto del target di sputtering al titanio drogato con Nb?
A4: Conservarlo in un luogo asciutto, evitare l’umidità e i danni meccanici e prevenire la contaminazione della superficie e la rottura.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati in target di sputtering a base di titanio e leghe drogate, fornendo target di sputtering Ti-Nb ad alta purezza e composizione uniforme e soluzioni personalizzate per garantire la qualità dei film sottili e la stabilità del processo per applicazioni di ricerca e industriali.
Formula molecolare: TiNb
Aspetto: Materiale target grigio-argento
Densità: Circa 6,5 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1700 °C
Struttura cristallina: Cubica a corpo centrato (BCC)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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