Titanato di rame (ossido di rame e titanio)

Panoramica sui target di sputtering in ossido di rame e titanio

I target di sputtering
in ossido di rame e titanio
sono materiali di rivestimento realizzati con composti di ossido di rame e titanio, utilizzati principalmente per il deposito di film funzionali con proprietà optoelettroniche specializzate.

Produciamo target ceramici con composizione precisa e struttura densa. Contattateci
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Caratteristiche principali del prodotto

Qualità superiore del film
Composizione chimica controllabile
Velocità di sputtering stabile
Opzioni di incollaggio e substrato disponibili
Elevata uniformità dei lotti

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di rame e titanio

Dispositivi fotovoltaici: utilizzati per fabbricare strati funzionali chiave in celle solari e fotorilevatori, migliorando l’assorbimento della luce e l’efficienza di separazione della carica.
Pellicole conduttive trasparenti: depositano pellicole di ossido conduttivo trasparente (TCO) per touchscreen e display flessibili, bilanciando conduttività e trasparenza.
Catalisi e rilevamento: i film depositati mostrano un’elevata attività e selettività nel rilevamento dei gas e nella catalisi ambientale.
Rivestimenti per vetri intelligenti: utilizzati per preparare rivestimenti per finestre intelligenti con proprietà termocromiche o elettrocromiche, consentendo la regolazione dinamica della luce e del calore.

Domande frequenti

D1: Quali sono le caratteristiche principali dei film spruzzati da materiali target di ossido di rame-titanio?
A1: I film sono generalmente caratterizzati da bande proibite ottiche regolabili, eccellente stabilità chimica e proprietà elettriche o catalitiche uniche.

D2: Come è possibile controllare il tipo di conduttività e la resistività del film?
A2: Regolando con precisione gli stati di ossidazione e il rapporto tra rame e titanio nel materiale target, in combinazione con i parametri del processo di sputtering (come la pressione parziale dell’ossigeno), è possibile progettare in modo mirato le loro proprietà elettriche.

Q3: Questo target richiede un pretrattamento prima della polverizzazione?
A3: In genere si consiglia la pulizia della superficie e la pre-polverizzazione per rimuovere i contaminanti e ottenere condizioni di polverizzazione stabili, garantendo la qualità del film.

Q4: Quali vantaggi offre rispetto ai target di ossido di titanio puro o ossido di rame?
A4: Il suo vantaggio risiede nell’introduzione del rame, che modula efficacemente la struttura a bande dell’ossido di titanio, producendo proprietà optoelettroniche e catalitiche più ricche per applicazioni più versatili.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella produzione personalizzata di target ceramici avanzati, sfruttando una rigorosa scienza dei materiali e un controllo dei processi per garantire che le prestazioni dei prodotti soddisfino con precisione i requisiti di ricerca e sviluppo e di produzione. Non siamo solo un fornitore, ma il vostro partner nell’esplorazione tecnologica, impegnato a supportare le vostre applicazioni di tecnologia a film sottile con prodotti affidabili e conoscenze specialistiche.