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Titanato di bario e stronzio

Chemical Name:
Titanato di bario e stronzio
Formula:
BaSrTiO3
Product No.:
5638220800
CAS No.:
12430-73-8
EINECS No.:
235-659-5
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
5638220800ST001 BaSrTiO3 99.95% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
5638220800ST002 BaSrTiO3 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
5638220800ST003 BaSrTiO3 99.95% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
5638220800ST004 BaSrTiO3 99.95% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
5638220800ST005 BaSrTiO3 99.95% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
5638220800ST006 BaSrTiO3 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
5638220800ST007 BaSrTiO3 99.95% Ø 203.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
5638220800ST001
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
5638220800ST002
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
5638220800ST003
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
5638220800ST004
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
5638220800ST005
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
5638220800ST006
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
5638220800ST007
Formula
BaSrTiO3
Purity
99.95%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm

Obiettivi di sputtering in titanato di bario e stronzio Panoramica

Il titanato di bario e stronzio sono progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Sono caratterizzati da un’elevata purezza e da un’eccellente densità, che assicurano una deposizione uniforme del film e prestazioni stabili. Con una purezza del 99,95% e un contenuto di impurità estremamente basso, sono adatti alla produzione di film sottili ceramici elettronici ad alte prestazioni.

Offriamo una varietà di bersagli per lo sputtering di titanato di bario e stronzio in varie dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, che possono anche essere personalizzate per soddisfare le esigenze dei clienti. Forniamo anche un’assistenza post-vendita completa; sentitevi liberi di contattarci per qualsiasi domanda.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,95%
L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
Dimensioni e forma personalizzabili
Eccellenti proprietà dielettriche e stabilità termica

Applicazioni del target di sputtering bario-stronzio-titanato

Film sottili ceramici funzionali: Utilizzato per la produzione di film sottili dielettrici e ferroelettrici ad alte prestazioni, ampiamente utilizzati in componenti elettronici come sensori e condensatori.
Dispositivi elettronici: Adatto alla produzione di transistor a film sottile, strati dielettrici e dispositivi microelettronici.
Materiali optoelettronici: Utilizzati per la produzione di film sottili optoelettronici multifunzionali, che migliorano l’efficienza e la stabilità dei dispositivi.

Rapporti

Forniamo un Certificato di analisi (COA), Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti per ogni lotto di target di sputtering BaSrTiO₃. Supportiamo anche test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto sia conforme agli standard del cliente.

Formula molecolare: BaSrTiO₃
Peso molecolare: 261,62 g/mol
Aspetto: Giallo chiaro, bersaglio ceramico denso
Densità: Circa 5,9 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 1.350°C
Struttura cristallina: Struttura perovskita (ortorombica o tetragonale)

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e inscatolati per evitare contaminazioni e umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 5638220800ST Categoria Marchio:

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