Tantalato di potassio (ossido di potassio e tantalio)

Panoramica sul substrato di tantalato di potassio

I substrati
di tantalato di potassio
sono materiali substrato monocristallini con struttura cristallina perovskite, caratterizzati da un reticolo completo e un’elevata qualità superficiale. Questi substrati sono ampiamente utilizzati nella crescita epitassiale di film sottili, nella ricerca sulle proprietà di interfaccia e nello sviluppo di nuovi dispositivi a ossido.

Offriamo substrati KTaO3 in vari orientamenti e dimensioni e supportiamo la lavorazione personalizzata. Contattateci
per i parametri tecnici dettagliati.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura monocristallina completa
Costante reticolare stabile
Elevata qualità di lucidatura superficiale
Adatto alla crescita epitassiale
Specifiche di orientamento flessibili
Buona uniformità dei lotti

Applicazioni dei substrati di tantalato di potassio

Crescita epitassiale di film sottili di ossido: comunemente utilizzati per la crescita di vari film sottili di ossido di perovskite, contribuiscono all’ottenimento di strati epitassiali di alta qualità e strutture di interfaccia chiare.
Ricerca sulle proprietà dell’interfaccia e delle basse dimensioni: questo substrato è adatto allo studio di fenomeni all’avanguardia come il trasporto di elettroni e i gas elettronici bidimensionali alle interfacce degli ossidi.
Sviluppo di dispositivi a film sottile funzionali: nella ricerca di nuovi dispositivi elettronici e funzionali, il substrato può fungere da piattaforma di base per la verifica delle strutture e delle prestazioni dei dispositivi.
Ricerca sulla struttura dei materiali e sull’adattamento delle sollecitazioni: i substrati KTaO3 presentano vantaggi nell’adattamento dei reticoli e sono spesso utilizzati negli studi sulla compatibilità strutturale e sulle sollecitazioni di diversi sistemi di materiali.

Domande frequenti

D1: Quali sono gli orientamenti cristallini comuni dei substrati di tantalato di potassio?
R1: Gli orientamenti cristallini comunemente utilizzati includono (100), (110) e (111), che possono essere selezionati in base ai requisiti sperimentali.

D2: Quali sono i metodi di trattamento della superficie del substrato?
R2: Di solito viene fornita una lucidatura su entrambi i lati o su un solo lato e la rugosità della superficie può soddisfare i requisiti della crescita epitassiale.

D3: Per quali processi di deposizione sono adatti i substrati KTaO3?
R3: Adatti a vari metodi di preparazione di film sottili come la deposizione laser pulsata, la polverizzazione magnetronica e l’epitassia a fascio molecolare.

D4: Supportate dimensioni personalizzate o specifiche speciali?
R4: Sì, possiamo fornire substrati personalizzati di diverse dimensioni, spessori e orientamenti in base alle esigenze del cliente.

Rapporto

sull’orientamento dei cristalli singoli e descrizione della qualità dei cristalli
Dati relativi alla lucidatura e alla rugosità della superficie
Registri di controllo delle dimensioni e dello spessore
Documenti relativi al numero di lotto e alla tracciabilità della qualità

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella fornitura e nel controllo qualità di substrati monocristallini di ossidi funzionali. Comprendiamo gli elevati requisiti di uniformità e affidabilità dei substrati nella crescita epitassiale e nella ricerca sui dispositivi e siamo in grado di fornire ai nostri clienti un supporto a lungo termine in materia di comunicazione tecnica, corrispondenza delle specifiche e stabilità delle consegne.