Tantalato di litio

Panoramica sui target di sputtering al tantalato di litio

I target di sputtering
al tantalato di litio
sono target funzionali altamente densi e omogenei utilizzati nella fabbricazione di film sottili, nella ricerca sui dispositivi optoelettronici e nella ricerca sui dispositivi piezoelettrici. Sono ampiamente utilizzati nei dispositivi a onde acustiche di superficie (SAW), nei modulatori ottici
e nella deposizione di film sottili funzionali microelettronici.

Siamo in grado di fornire target di sputtering in LiTaO3 altamente densi e omogenei. Dimensioni, spessore e forma possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente. Contattateci
per richiedere campioni o soluzioni personalizzate!

Caratteristiche principali del prodotto

L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
La struttura cristallina stabile garantisce risultati affidabili nella deposizione del film sottile
Dimensioni, spessore e forma personalizzabili
Supporta la ricerca e la produzione industriale di film sottili
Finitura superficiale raffinata, basso tasso di difetti
Risposta rapida dal nostro team tecnico

Applicazioni dei target di sputtering al tantalato di litio

Dispositivi a onde acustiche di superficie:
utilizzati per la deposizione di film sottili su dispositivi SAW per migliorare le prestazioni dei dispositivi e la precisione del segnale.
Dispositivi optoelettronici
: supportano la fabbricazione di modulatori ottici e film sottili ottici non lineari, garantendo prestazioni ottiche stabili.
Sensori piezoelettrici:
utilizzati per la deposizione di film sottili in sensori di pressione, accelerazione e acustici per migliorare la sensibilità e la velocità di risposta.
Film sottili funzionali microelettronici:
utilizzati per la deposizione di film sottili ad alta precisione in dispositivi MEMS e microelettronici, garantendo funzionalità e uniformità.

Domande frequenti

D1: Il target LiTaO3 è adatto per la sputtering magnetron ad alta potenza?
R1: Sì, i target ad alta densità mantengono strutture cristalline stabili sotto la sputtering magnetron ad alta potenza, garantendo l’uniformità del film sottile.

D2: È possibile personalizzare le dimensioni e lo spessore del target?
R2: Sì, è possibile fornire target di diverse dimensioni e spessori, inclusi quelli circolari, quadrati e di forme speciali, in base ai requisiti delle apparecchiature.

D3: Il tasso di difetti della superficie del target è elevato?
R3: La superficie è lucidata con precisione, con un basso tasso di difetti, adatto alla fabbricazione di film sottili ad alta precisione.

Q4: Per quali tipi di film sottili è adatto il target per la deposizione?
A4: Adatto per film sottili funzionali ferroelettrici/piezoelettrici, film sottili optoelettronici e film sottili funzionali microelettronici.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo molti anni di esperienza nella produzione di target di sputtering per materiali funzionali e forniamo target di sputtering LiTaO3 personalizzati e di alta qualità per garantire la stabilità e l’efficienza della deposizione di film sottili nella ricerca scientifica e nelle applicazioni industriali. Il nostro team tecnico fornisce una risposta rapida e un supporto professionale per aiutare i clienti a ottenere una preparazione di film sottili ad alta precisione.