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Subossido di titanio

Chemical Name:
Subossido di titanio
Formula:
TiOx
Product No.:
220806
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
220806ST001 TiOx 99.95% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
220806ST002 TiOx 99.95% Ø 76.2mm x 3.175mm Inquire
220806ST003 TiOx 99.95% Ø 101.6mm x 3.175mm Inquire
220806ST004 TiOx 99.95% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
Product ID
220806ST001
Formula
TiOx
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm
Product ID
220806ST002
Formula
TiOx
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2mm x 3.175mm
Product ID
220806ST003
Formula
TiOx
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6mm x 3.175mm
Product ID
220806ST004
Formula
TiOx
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm

Target di sputtering in subossido di titanio Panoramica

I target di sputtering
in subossido di titanio
sono target ceramici in ossido di titanio (TiOx) ad alta purezza e contenuto di ossigeno controllato, progettati specificamente per il deposito di film di ossido di titanio non stechiometrici con specifiche proprietà optoelettroniche e funzionali. Sono ampiamente utilizzati in campi quali la fotocatalisi, le finestre intelligenti, le celle fotovoltaiche e i rivestimenti biomedici, fungendo da materiale chiave per ottenere modifiche superficiali multifunzionali.

Controlliamo con precisione la concentrazione di vuoti di ossigeno e la fase cristallina del materiale target in base ai vostri specifici requisiti di prestazione del film, fornendo target di sputtering TiOx personalizzati per la ricerca e lo sviluppo e la produzione. Vi invitiamo sinceramente a discutere le opportunità di collaborazione.

Caratteristiche principali del prodotto

Contenuto di ossigeno preciso e controllabile
Elevata purezza ed eccellente densità
Prestazioni di sputtering stabili e costanti
Attività fotocatalitica e proprietà elettrocromiche superiori
Disponibili diverse opzioni di fase cristallina (ad es. anatasi, rutilo)

Applicazioni dei target di sputtering al subossido di titanio

Fotocatalisi e purificazione ambientale:
utilizzati per fabbricare film fotocatalitici ad alta efficienza rivestiti su vetri autopulenti e superfici di apparecchiature di purificazione dell’aria, decomponendo efficacemente gli inquinanti organici e fornendo al contempo funzionalità antibatteriche.
Finestre intelligenti elettrocromiche:
come materiale chiave dello strato, i film TiOx sputterizzati alterano in modo reversibile il colore e la trasmittanza sotto tensione applicata, consentendo un’ombreggiatura dinamica e un controllo della luce a risparmio energetico.
Celle solari e dispositivi fotovoltaici:
funge da materiale per elettrodi per celle solari sensibilizzate con colorante o da strato di trasporto degli elettroni nelle celle perovskite, migliorando l’efficienza di conversione fotovoltaica e la stabilità del dispositivo.
Rivestimenti biocompatibili:
il deposito di film di TiOx su impianti medici (ad esempio, articolazioni artificiali, impianti dentali) migliora significativamente la loro biocompatibilità, resistenza alla corrosione e osteointegrazione.

Domande frequenti

D1: Cosa rappresenta la “x” nei materiali target TiOx? In che modo influisce sulle proprietà del film?
A1: “x” indica il rapporto non stechiometrico tra ossigeno e titanio (tipicamente compreso tra 1,5 e 2,0). Il controllo preciso del valore “x” determina direttamente la concentrazione di vuoti di ossigeno nel film, influenzando in modo significativo la sua conduttività, le caratteristiche di assorbimento della luce, l’attività catalitica e la velocità di risposta elettrocromica.

D2: Come si deve scegliere tra i target TiOx in fase rutilo e anatasi?
R2: L’anatasi presenta tipicamente una maggiore attività fotocatalitica, che la rende adatta per rivestimenti autopulenti e purificanti. Il rutilo offre una maggiore stabilità strutturale e un indice di rifrazione più elevato, che lo rendono preferibile per film protettivi ottici e rivestimenti resistenti all’usura. Possiamo consigliare la fase appropriata in base agli obiettivi dell’applicazione.

D3: Quanto è stabile questo materiale target durante la polverizzazione?
A3: Il nostro avanzato processo di sinterizzazione garantisce una microstruttura altamente uniforme, mantenendo velocità di deposizione stabili e una composizione del film coerente durante la polverizzazione magnetronica DC prolungata o la polverizzazione RF, prevenendo al contempo scariche anomale.

D4: Supportate la personalizzazione della ricerca e sviluppo in piccoli lotti?
A4: Supportiamo fortemente l’innovazione nella ricerca e sviluppo. Offriamo target personalizzati in piccoli lotti di dimensioni ridotte, con contenuto di ossigeno e fasi cristalline specifici, insieme a raccomandazioni dettagliate sui parametri di processo per accelerare il vostro sviluppo.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati in target ceramici in ossido funzionale e comprendiamo a fondo come la stechiometria dell’ossigeno nei materiali TiOx determini in modo critico le prestazioni finali del film. Attraverso tecniche di drogaggio e sinterizzazione precise, forniamo target TiOx personalizzati con proprietà distintive, non soluzioni generiche.

Formula molecolare: TiOₓ (x può essere personalizzato)
Aspetto: Materiale bersaglio da nero a grigio

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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