Stannato di zinco (ZTO) (ossido di zinco e stagno)

Target di sputtering allo stannato di zinco Panoramica

I target di sputtering
allo stannato di zinco
possiedono un’eccellente conduttività e stabilità chimica, che li rendono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili, nei sensori di gas e nei dispositivi optoelettronici.

Offriamo target di sputtering Zn2SnO4 ad alta purezza adatti alla produzione di vari dispositivi elettronici di fascia alta, in grado di soddisfare le esigenze personalizzate dei clienti. Contattateci
per ulteriori informazioni.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, basse impurità
Eccellente conduttività e proprietà catalitiche
Risultati stabili nella deposizione di film sottili
Dimensioni e forme personalizzabili in base alle esigenze del cliente
Eccellente stabilità alle alte temperature
Servizi di incollaggio dei target disponibili
Adatto a varie applicazioni con film sottili

Applicazioni dei target di sputtering in zinco stannato

Sensori di gas: ampiamente utilizzati nella produzione di sensori di gas, migliorano la sensibilità e la stabilità dei sensori e trovano ampia applicazione nel monitoraggio ambientale.
Tecnologia delle batterie: utilizzati nella produzione di materiali per elettrodi negativi in batterie agli ioni di litio e agli ioni di sodio, migliorano l’efficienza di accumulo dell’energia. Dispositivi
optoelettronici
: l’elevata conduttività dello Zn2SnO4 lo rende un materiale importante per celle solari a film sottile e fotodiodi.
Film conduttivi trasparenti: possono essere utilizzati per produrre film conduttivi trasparenti, ampiamente utilizzati in touchscreen, display, celle solari e altri dispositivi.

Domande frequenti

D1: Quali sono i requisiti di purezza per i target di sputtering Zn₂SnO₄?
A1: Forniamo target con una purezza del 99,95%, garantendo l’assenza di effetti negativi nelle applicazioni e soddisfacendo le esigenze della produzione di apparecchiature di fascia alta.

D2: Come devono essere conservati i target di sputtering Zn₂SnO₄?
A2: Conservare in un ambiente asciutto e fresco, evitando il contatto con umidità e solventi organici per garantire la stabilità chimica.

D3: Come possono essere personalizzati i target di sputtering Zn2SnO4?
R3: Siamo in grado di fornire prodotti personalizzati in base alle esigenze specifiche dei clienti, comprese opzioni per diverse dimensioni, forme e purezze.

D4: Quali sono le caratteristiche prestazionali di deposizione di film sottili dei target di sputtering Zn2SnO4?
R4: Mostrano un’eccellente stabilità e uniformità durante la deposizione di film sottili, rendendoli adatti per applicazioni di deposizione di film sottili ad alta precisione.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci impegniamo a fornire target di sputtering Zn2SnO4 di alta qualità, assicurando che ogni lotto di prodotti sia sottoposto a rigorosi controlli di qualità per soddisfare le esigenze personalizzate dei nostri clienti e garantire un’applicazione efficace nei settori manifatturieri di fascia alta.