Stannato di zinco (ZTO) (ossido di zinco e stagno)

Panoramica sui target di sputtering in zinco stannato

I target di sputtering
in zinco stannato
sono target ceramici in ossido composito fabbricati utilizzando polvere di ZnSnO₃ ad alta purezza attraverso processi avanzati di sinterizzazione ceramica. Questo materiale integra le proprietà superiori dell’ossido di zinco e dell’ossido di stagno, mostrando eccellenti caratteristiche semiconduttrici e funzionali. È un materiale di base fondamentale per il deposito di film funzionali ZnSnO₃ di alta qualità nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) e trova ampia applicazione nei settori della sensoristica avanzata, delle nuove energie e dell’optoelettronica.

Offriamo target di sputtering ZnSnO3 di alta qualità in diverse purezze e dimensioni, con servizi di incollaggio
opzionali. Contattateci
per assistenza tecnica.

Caratteristiche principali del prodotto

Ossido composito ad alta purezza
Proprietà semiconduttrici e di rilevamento superiori
Alta densità, bassa porosità
Rapporto stechiometrico preciso
Servizi di incollaggio
professionali disponibili

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di zinco e stagno

Sensori di gas ad alte prestazioni: deposita film altamente sensibili e selettivi per il rilevamento di composti organici volatili come formaldeide ed etanolo.
Pellicole conduttive trasparenti: depositate come pellicole di ossido conduttivo trasparente per elettrodi trasparenti, touchscreen e pannelli di visualizzazione di nuova generazione attraverso processi di drogaggio e altri processi. Dispositivi
optoelettronici
e catalisi: utilizzati per fabbricare strati funzionali in fotorilevatori, pellicole fotocatalitiche e nuove celle solari.
Ceramiche elettroniche avanzate: fungono da materiale di base per film funzionali nella ricerca su nuovi dispositivi piezoelettrici, dielettrici e ferroelettrici a film sottile.

Domande frequenti

D1: Quali sono i principali vantaggi del materiale target ZnSnO3?
R1: Il suo vantaggio principale risiede nella versatilità, che consente la deposizione di film di ossido composito con eccellenti proprietà di rilevamento dei gas, trasparenza moderata e attività catalitica.

D2: Quali sono i requisiti di purezza applicabili ai materiali target?
R2: In genere, la purezza deve essere ≥99,9%. Per i film sensori ad alte prestazioni, si raccomanda una purezza del 99,99% (4N) o superiore per garantire prestazioni e uniformità.

D3: Come si deve selezionare il metodo di incollaggio appropriato?
A3: Dipende dalla potenza di sputtering e dai requisiti di dissipazione del calore. L’incollaggio con adesivo conduttivo è adatto per livelli di potenza convenzionali. Per potenze elevate o funzionamento a lungo termine, si raccomanda la saldatura dei metalli (ad es. brasatura) per garantire un’adeguata dissipazione del calore e stabilità.

Q4: Come devono essere conservati e immagazzinati i target?
A4: Conservare in contenitori sigillati e resistenti all’umidità in un ambiente asciutto e pulito. Maneggiare con cura a causa della composizione ceramica per evitare rotture dovute a urti.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nello sviluppo e nella produzione personalizzata di target funzionali in ossido composito. Le nostre soluzioni tecniche professionali e la qualità affidabile soddisfano le vostre esigenze nella ricerca e sviluppo e nella produzione di nuovi dispositivi a film sottile.