La polvere
di solfuro di silicio
è una polvere di solfuro di silicio ad alta purezza con eccellente stabilità chimica e termica. È ampiamente utilizzata nei film sottili funzionali, nei materiali per dispositivi elettronici e nella ricerca chimica.
Siamo in grado di fornire polvere di solfuro di silicio compatibile con il processo e di supportare discussioni tecniche relative alla dimensione delle particelle, ai parametri di processo e alle indicazioni di applicazione. Contattateci
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Elevata stabilità chimica
Eccellente stabilità termica
Polvere uniforme con buona scorrevolezza
Adatta a varie tecniche di deposizione e lavorazione
Supporta applicazioni su film sottili, rivestimenti e materiali per dispositivi
Preparazione di film sottili funzionali:
la polvere SiS può essere utilizzata per preparare film sottili funzionali elettronici e rivestimenti protettivi, migliorando le prestazioni dei materiali e l’uniformità di deposizione.
Materiali per dispositivi elettronici:
utilizzata per la deposizione di dispositivi a semiconduttori e strati funzionali, migliora la stabilità e l’uniformità delle prestazioni dei dispositivi.
Ricerca chimica e sviluppo di nuovi materiali:
può fungere da materia prima di base per la ricerca e lo sviluppo di materiali a base di solfuro di silicio e per la ricerca sulle reazioni chimiche.
Ricerca scientifica e convalida dei processi:
supporta la ricerca e lo sviluppo di nuovi materiali e processi di film sottili, nonché l’ottimizzazione e la convalida dei parametri.
D1: Per quali applicazioni è adatta la polvere di solfuro di silicio?
R1: Utilizzata principalmente in film sottili funzionali, materiali per dispositivi elettronici, ricerca chimica e sviluppo di nuovi materiali.
D2: La polvere SiS è stabile alle alte temperature?
A2: La polvere mostra una buona stabilità termica in condizioni appropriate, ma è necessario evitare ambienti umidi.
D3: La morfologia della polvere influisce sulle prestazioni del film?
A3: Una morfologia della polvere uniforme e stabile contribuisce a migliorare la deposizione del film e l’uniformità di lavorazione.
D4: La polvere di SiS può essere utilizzata direttamente per la deposizione di film sottili?
A4: Sì, è adatta all’uso come materia prima per film sottili funzionali e rivestimenti.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati nella fornitura di polveri di solfuro di silicio ad alte prestazioni, fornendo polveri di solfuro di silicio stabili e tracciabili per supportare i clienti nel raggiungimento di un’elevata coerenza e affidabilità nelle applicazioni di ricerca e sviluppo e di processo.
Formula molecolare: SiS2
Peso molecolare: 78,16 g/mol
Aspetto: Polvere di colore da giallo a giallo pallido
Densità: 2.61 g/cm³
Punto di fusione: 1090 °C
Punto di ebollizione: 1477 °C (sublimazione)
Struttura cristallina: Tetragonale (struttura a catena)
Parola di segnalazione:
Pericolo
Indicazioni di pericolo:
H261: A contatto con l’acqua libera gas infiammabile.
H300: Letale se ingerito.
H315: Provoca irritazione cutanea.
H319: Provoca grave irritazione oculare.
H335: Può provocare irritazione delle vie respiratorie.
Imballaggio interno: sacchetti di plastica sigillati a doppio strato o sacchetti di alluminio per proteggere dall’umidità e dalle perdite.
Imballaggio esterno: fusto di ferro o fusto di fibra, a seconda del peso, con coperchio sigillato rinforzato.
Imballaggio per merci pericolose: imballaggio certificato UN conforme alle normative per il trasporto di materiali pericolosi.
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