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Solfuro di rame

Chemical Name:
Solfuro di rame
Formula:
Cu2S
Product No.:
291600
CAS No.:
22205-45-4
EINECS No.:
244-842-9
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
291600ST001 Cu2S 99.95% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
291600ST002 Cu2S 99.95% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
291600ST003 Cu2S 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
291600ST001
Formula
Cu2S
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
291600ST002
Formula
Cu2S
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
291600ST003
Formula
Cu2S
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Panoramica sui target di sputtering in solfuro di rame

I target di sputtering
in solfuro di rame
sono target in materiale funzionale ad alta purezza ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili, nei dispositivi optoelettronici e nella fabbricazione di materiali elettronici.

Siamo in grado di fornire target in solfuro di rame ad alta purezza in varie specifiche e dimensioni in base alle attrezzature e ai requisiti di processo dei clienti. Contattateci
per soluzioni personalizzate
.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta purezza
Elevata uniformità compositiva
Deposizione di film stabile e affidabile
Basso contenuto di impurità
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering
Proprietà elettriche e ottiche stabili
Supporta forme circolari, quadrate e irregolari personalizzate e incollaggio

Applicazioni dei target di sputtering al solfuro di rame

Fabbricazione di film sottili
optoelettronici
: utilizzati per la deposizione di film sottili per
celle solari
e fotoconduttivi, garantiscono l’uniformità del film e le prestazioni di conversione fotoelettrica. Produzione di dispositivi
a semiconduttori
: come target di materiale semiconduttore funzionale, può essere utilizzato per sviluppare nuovi dispositivi elettronici, garantendo prestazioni elettroniche stabili.
Rivestimenti funzionali e applicazioni industriali: utilizzato per la deposizione di rivestimenti resistenti alla corrosione, conduttivi o con funzioni speciali, aumentando il valore aggiunto dei materiali industriali.

Domande frequenti

D1: Il bersaglio in solfuro di rame è adatto per la sputtering DC o RF?
R1: Il solfuro di rame è un materiale semiconduttore e si consiglia la sputtering a radiofrequenza per ottenere risultati di deposizione del film stabili.

D2: Il target richiede un trattamento superficiale?
R2: I target vengono solitamente lucidati e disossidati prima dell’uso. Se necessario, è possibile eseguire un pretrattamento in base ai requisiti di processo.

D3: Il target è fragile durante lo sputtering?
R3: Rispetto ai target metallici, i target in solfuro di rame sono più fragili. È necessario prestare attenzione durante la manipolazione e l’installazione per evitare collisioni.

Q4: Le dimensioni e le forme dei target possono essere personalizzate?
A4: Sì, offriamo target rotondi, quadrati e di forma personalizzata per soddisfare le diverse esigenze delle attrezzature e dei processi.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella produzione e fornitura di target di sputtering per materiali funzionali ad alta purezza. Dalla selezione delle materie prime al controllo dei lotti, controlliamo rigorosamente il processo per garantire le prestazioni stabili dei target in solfuro di rame nella ricerca scientifica, nelle applicazioni industriali e nella preparazione di film sottili per dispositivi elettronici. Forniamo ai clienti materiali affidabili, tracciabili e di alta qualità.

Formula chimica: Cu₂S
Peso molecolare: 159,16 g/mol
Aspetto: Materiale bersaglio denso da nero a marrone scuro
Densità: 5,61 g/cm³
Struttura cristallina: Monoclino

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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