| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 291601ST001 | CuS | 99.999% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 291601ST002 | CuS | 99.999% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 291601ST003 | CuS | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 291601ST004 | CuS | 99.999% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 291601ST005 | CuS | 99.999% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
I target di sputtering
in solfuro di rame
sono materiali funzionali utilizzati per la deposizione di film sottili, principalmente in dispositivi optoelettronici, film sottili conduttivi e ricerca sui materiali.
Offriamo target di sputtering in solfuro di rame con composizione stabile e alta densità/uniformità, disponibili in varie dimensioni e strutture. Contattateci
per informazioni tecniche
e soluzioni personalizzate.
Composizione chimica stabile della lega
Elevata densità del bersaglio
Buona uniformità di sputtering
Composizione del film costante
Finitura superficiale fine
Opzioni di incollaggio
e backplane opzionali
Compatibile con varie apparecchiature
Preparazione di film sottili per dispositivi
optoelettronici
: questo bersaglio può essere utilizzato per depositare film sottili di solfuro di rame con conduttività stabile e proprietà semiconduttrici
, soddisfacendo le esigenze di ricerca e sviluppo dei dispositivi optoelettronici.
Film sottili funzionali e rivestimenti superficiali: forma rivestimenti a film sottile resistenti alla corrosione e ben adesivi attraverso processi di sputtering per la modifica della superficie e la progettazione funzionale.
Ricerca su sensori e dispositivi elettronici: adatto per applicazioni nella ricerca e sviluppo di sensori e dispositivi elettronici dove è richiesta un’elevata consistenza nella composizione e nelle prestazioni del film.
Ricerca sulle prestazioni e la lavorazione dei materiali: ampiamente utilizzato negli istituti di ricerca per studiare la struttura dei film sottili, le condizioni di deposizione e le relazioni di controllo delle prestazioni.
D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di sputtering in solfuro di rame?
R1: Possono essere utilizzati per i comuni metodi di sputtering, come lo sputtering DC e RF. Il metodo specifico deve essere adattato in base alle condizioni dell’attrezzatura.
D2: La densità del target influisce sull’effetto di sputtering?
R2: Una densità più elevata può migliorare la stabilità dello sputtering e ottenere una composizione e uno spessore del film più uniformi.
D3: È possibile personalizzare target di dimensioni o forme diverse?
R3: È possibile fornire target personalizzati di varie dimensioni, spessori e forme in base alle esigenze delle apparecchiature e dei processi.
D4: Quali precauzioni è necessario prendere durante lo stoccaggio e il trasporto dei target?
R4: Si consiglia di conservarli in un contenitore sigillato per evitare umidità e contaminazione, al fine di garantire le condizioni della superficie e le prestazioni del target.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Ci concentriamo sulla produzione e sul controllo qualità dei target di sputtering in solfuro di metallo, ponendo l’accento sull’uniformità dei materiali, la precisione di lavorazione e la stabilità di consegna, per fornire soluzioni di deposizione di film sottili affidabili e altamente valutabili per i clienti del settore della ricerca e dell’industria.
Formula chimica: CuS
Peso molecolare: 95,61 g/mol
Aspetto: Materiale bersaglio nero e denso
Densità: 5,6 g/cm³
Punto di fusione: 1.200 °C (prima della decomposizione)
Struttura cristallina: Ortorombica
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
