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Solfuro di indio

Chemical Name:
Solfuro di indio
Formula:
In2S3
Product No.:
491600
CAS No.:
12030-24-9
EINECS No.:
234-742-3
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
491600ST001 In2S3 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
491600ST002 In2S3 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
491600ST003 In2S3 99.999% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
491600ST004 In2S3 99.999% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
491600ST005 In2S3 99.999% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
491600ST006 In2S3 99.999% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
491600ST001
Formula
In2S3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
491600ST002
Formula
In2S3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
491600ST003
Formula
In2S3
Purity
99.999%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
491600ST004
Formula
In2S3
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
491600ST005
Formula
In2S3
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
491600ST006
Formula
In2S3
Purity
99.999%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Panoramica dei target di sputtering al solfuro di indio

Il solfuro di indio (In2S3) è un composto di elevata purezza ampiamente utilizzato nelle celle solari a film sottile, nell’optoelettronica e nei dispositivi a semiconduttore. Con eccellenti proprietà ottiche ed elettriche, i target di sputtering In2S3 sono ideali per produrre film sottili uniformi e ad alte prestazioni. I nostri target garantiscono una purezza del 99,999%, un’elevata densità e tassi di sputtering stabili sia per la ricerca che per le applicazioni industriali.

Forniamo bersagli sputtering di alta qualità in solfuro di indio (In₂S₃) con dimensioni e opzioni di incollaggio personalizzabili. Contattateci per prezzi e supporto tecnico.

Caratteristiche salienti del prodotto del target di sputtering al solfuro di indio

Purezza superiore: la purezza del 99,999% (5N) garantisce una contaminazione minima e una qualità stabile del film sottile.
Alta densità: Ottimizzato per uno sputtering uniforme e una deposizione riproducibile.
Personalizzato Dimensioni: Disponibile in forme circolari, planari o rettangolari, con dimensioni personalizzate per il vostro sistema.
Opzioni della piastra di supporto: Incollaggio opzionale per migliorare la conduttività termica e la durata dell’obiettivo.
Prestazioni stabili: Fornisce tassi di deposizione costanti, adesione eccellente e film sottili di alta qualità.

Applicazioni dei target sputtering al solfuro di indio di alta qualità

Celle solari a film sottile: Utilizzati come strato tampone o assorbente nelle celle solari a film sottile CIGS e di altro tipo.
Dispositivi optoelettronici Dispositivi optoelettronici: Adatto per fotorivelatori, strati conduttivi trasparenti e dispositivi a infrarossi.
Semiconduttori: Utilizzati per transistor a film sottile ad alte prestazioni, sensori e componenti elettronici.
Ricerca e sviluppo: Sostiene gli studi sulla scienza dei materiali e la R&S sull’elettronica avanzata.
Materiali energetici: Applicati nell’immagazzinamento dell’energia e nei dispositivi a film sottile fotocatalitici.

Perché scegliere noi?

Competenza nel settore: Specializzati in target di sputtering avanzati per semiconduttori, optoelettronica e applicazioni a film sottile.
Soluzioni personalizzate: Composizione, dimensioni e incollaggio flessibili incollaggio per soddisfare le esigenze dei clienti.
Qualità affidabile: Controllo rigoroso di purezza, densità e microstruttura per risultati riproducibili.
Consegna globale: Spedizione rapida e sicura in tutto il mondo con imballaggio protettivo.
Assistenza tecnica: Un team di professionisti fornisce una documentazione completa e una consulenza tecnica.

Domande frequenti

F1. Qual è la purezza dei vostri target di sputtering al solfuro di indio?
A1. I nostri target sputtering hanno una purezza del 99,99% (4N), adatta alla deposizione di film sottili di alta precisione.

F2. Quali forme e dimensioni sono disponibili per i target In2S3?
A2. Sono disponibili target circolari, planari e rettangolari, con dimensioni personalizzate per adattarsi a vari sistemi di sputtering.

F3. Fornite l’incollaggio della piastra di supporto per i target In2S3?
A3. Sì, possiamo incollare i target a piastre di supporto adeguate per migliorare la gestione termica e prolungare la durata del target.

F4. Quali industrie utilizzano i target di sputtering al solfuro di indio?
A4. Sono ampiamente utilizzati nelle celle solari a film sottile, nell’optoelettronica, nei dispositivi a semiconduttore e nella R&S avanzata.

Rapporti

Ogni lotto di target sputtering In2S3 viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza (MSDS)
I rapporti di test di terze parti sono disponibili su richiesta per soddisfare gli standard industriali e di ricerca.

Formula chimica: In2S3
Peso molecolare: 325,82 g/mol
Densità: 4,85 g/cm³
Punto di fusione: > 1050°C
Purezza target: 99,99%-99,9995% (personalizzabile)
Aspetto: Nero o grigio scuro solido
Forma: Rotonda, rettangolare o dimensioni personalizzate
Struttura cristallina: Cubica
Metodo di sputtering: Sputtering Magnetron DC (DC)/RF Sputtering (RF)

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 491600ST Categoria Marchio:

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