Siliciuro di vanadio

Target di sputtering in siliciuro di vanadio Panoramica

I target di sputtering
in siliciuro di vanadio
sono target funzionali che combinano un’eccellente conduttività con stabilità alle alte temperature, adatti a vari processi di deposizione fisica da vapore. Questi target possono essere utilizzati per preparare film sottili di siliciuro con struttura uniforme e prestazioni stabili.

Offriamo target di sputtering in siliciuro di vanadio in varie dimensioni, forme e con densità controllata. Contattateci
per soluzioni personalizzate e assistenza tecnica.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata stabilità di sputtering
Target denso e uniforme
Buona conduttività del film
Affidabile per applicazioni ad alta temperatura
Struttura e dimensioni personalizzabili
Consistenza stabile dei lotti

Applicazioni dei target di sputtering in siliciuro di vanadio

Preparazione di film sottili funzionali conduttivi:
adatti alla preparazione di film sottili funzionali conduttivi, che possono essere utilizzati per la deposizione di dispositivi elettronici e strati funzionali correlati.
Rivestimenti di materiali elettronici ad alta temperatura:
grazie alla sua eccellente stabilità termica, è possibile preparare rivestimenti funzionali stabili ad alte temperature per soddisfare i requisiti delle applicazioni elettroniche ad alta temperatura.
Modifica della superficie dei dispositivi:
i film sottili di siliciuro di vanadio formati mediante sputtering possono migliorare le proprietà elettriche e la stabilità operativa delle superfici dei dispositivi.
Ricerca scientifica e ricerca sui processi di film sottili:
questo target è comunemente utilizzato nella ricerca sui film sottili di siliciuro e sui processi di deposizione, adatto per applicazioni di laboratorio e su scala pilota.

Domande frequenti

D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di sputtering al siliciuro di vanadio?
R1: Adatto per processi di sputtering DC o RF, fornisce una buona uniformità e stabilità del film.

D2: In che modo la densità del bersaglio influisce sulle prestazioni del film?
R2: Una densità più elevata contribuisce a migliorare l’adesione del film e la consistenza elettrica.

D3: Questo bersaglio è adatto per la polverizzazione continua?
R3: In condizioni di raffreddamento e di processo adeguate, può soddisfare i requisiti per la polverizzazione continua a lungo termine.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante l’uso?
A4: Si raccomanda di mantenere la superficie del bersaglio pulita e asciutta e di controllare adeguatamente i parametri di sputtering in base alle condizioni dell’apparecchiatura.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione di target di sputtering in siliciuro e siamo in grado di fornire in modo affidabile target di sputtering in siliciuro di vanadio con prestazioni costanti. Forniamo inoltre un supporto mirato in base alle esigenze di processo dei nostri clienti per aiutare a ottenere una deposizione di film sottili di alta qualità.