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Siliciuro di tantalio

Chemical Name:
Siliciuro di tantalio
Formula:
TaSi2
Product No.:
731400
CAS No.:
12039-79-1
EINECS No.:
234-902-2
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
731400ST001 TaSi2 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST002 TaSi2 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST003 TaSi2 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST004 TaSi2 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST005 TaSi2 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST006 TaSi2 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST007 TaSi2 99.9% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST008 TaSi2 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST009 TaSi2 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
731400ST001
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST002
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST003
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST004
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST005
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST006
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST007
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST008
Formula
TaSi2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST009
Formula
TaSi2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Obiettivi per sputtering al siliciuro di tantalio Panoramica

Il siliciuro di tantalio sono materiali ad alte prestazioni progettati per i processi di deposizione di film sottili. Con una purezza fino al 99,99%, presentano un’eccellente stabilità termica e chimica, garantendo una formazione uniforme del film, una buona adesione e un basso contenuto di impurità.

Offriamo target di sputtering in siliciuro di tantalio in una varietà di specifiche e dimensioni, tra cui rotonde e rettangolari, che possono essere personalizzate in base alle vostre esigenze specifiche. Forniamo anche un’assistenza post-vendita completa: se avete domande durante l’uso, non esitate a contattateci.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,99%
Eccellente stabilità termica e chimica
Alta densità per garantire una deposizione uniforme del film
Dimensioni e forma personalizzabili
Incollaggio del target è disponibile
Applicabile ai settori dei semiconduttori, dell’optoelettronica e dei rivestimenti ad alta temperatura

Applicazioni del target di sputtering al siliciuro di tantalio

Semiconduttori: Utilizzato per produrre strati di film sottile di dispositivi elettronici ad alte prestazioni per migliorare la stabilità e le prestazioni del dispositivo.
Dispositivi optoelettronici: Adatti alla produzione di strati di film ottici e di elementi di sensori.
Rivestimenti per alte temperature: Forniscono prestazioni eccellenti nei rivestimenti resistenti all’usura e alle alte temperature.
Film sottili funzionali: Applicati a strati di film protettivi resistenti alla corrosione e all’usura.

Rapporti

Ogni lotto di prodotti viene fornito con un Certificato di analisi (COA), Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e relativi rapporti di qualità. Supportiamo anche test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto sia conforme agli standard del cliente.

Formula molecolare: TaSi₂
Peso molecolare: circa 182,84 g/mol
Aspetto: bersaglio denso grigio scuro con superficie liscia
Densità: circa 9,4 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: circa 2.850 °C
Struttura cristallina: sistema esagonale

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 731400ST Categoria Marchio:

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