Silicio

Panoramica sui target rotanti in silicio

I target

rotanti in
silicio
sono target rotanti utilizzati nei processi di sputtering continuo, adatti per esigenze di deposizione su grandi superfici e di lunga durata. Sono utilizzati principalmente nei pannelli di visualizzazione, nei film sottili fotovoltaici, nei rivestimenti funzionali e nelle relative applicazioni di deposizione sotto vuoto.

Siamo in grado di fornire target rotanti in silicio con diverse strutture e dimensioni in base alle esigenze delle apparecchiature, supportando la comunicazione di processo e l’integrazione tecnica. Contattateci
direttamente per trovare la soluzione più adatta alle vostre esigenze.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura rotante, elevato utilizzo del bersaglio
Processo di sputtering stabile e uniforme
Adatto per un funzionamento continuo a lungo termine
Efficace per la gestione termica e la dissipazione del calore
Compatibile con vari sistemi di sputtering con bersagli rotanti
Struttura e dimensioni personalizzate supportate

Applicazioni dei bersagli rotanti in silicio

Deposizione di film sottili su grandi superfici:
adatto per processi di deposizione di film sottili su substrati di grandi dimensioni, contribuisce a migliorare l’uniformità del film e la stabilità del processo.
Processi di rivestimento di display e fotovoltaici:
nella produzione di pannelli di display e fotovoltaici a film sottile, la struttura del bersaglio rotante è in grado di soddisfare i requisiti di produzione continua per la consistenza della deposizione.
Preparazione di rivestimenti funzionali:
adatto alla preparazione di film sottili funzionali elettrici, ottici o protettivi, soddisfacendo i requisiti prestazionali di diversi scenari applicativi.
Ricerca e sviluppo e convalida dei processi:
ampiamente utilizzato per ottimizzare i parametri dei nuovi processi e studiare il comportamento dei materiali, supportando test stabili in condizioni di sputtering rotante.

Domande frequenti

D1: Quali sono le caratteristiche di un bersaglio rotante in silicio rispetto a un bersaglio planare?
A1: Un bersaglio rotante partecipa alla polverizzazione attraverso una rotazione continua, che migliora l’utilizzo del bersaglio e contribuisce a migliorare l’uniformità del film.

D2: Quanto è efficace la dissipazione del calore di un bersaglio rotante in silicio durante la polverizzazione?
A2: La struttura rotante facilita la dissipazione del calore e, in combinazione con un design di raffreddamento ragionevole, può mantenere un funzionamento stabile del processo di polverizzazione.

D3: Quali sono i requisiti dell’attrezzatura quando si utilizza un bersaglio rotante in silicio?
R3: Sono necessari una struttura catodica dedicata e un sistema di raffreddamento per il bersaglio rotante, e i parametri specifici devono essere compatibili con il modello dell’attrezzatura.

D4: Quali precauzioni devono essere prese quando si utilizza un bersaglio rotante in silicio?
R4: Si raccomanda di operare in condizioni di vuoto e alimentazione stabili e di installare e mantenere il bersaglio secondo le specifiche dell’attrezzatura.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella fornitura di target di sputtering rotanti orientati all’applicazione, ponendo l’accento sul design strutturale dei target e sulla compatibilità delle apparecchiature, e fornendo ai clienti soluzioni di prodotto stabili e affidabili e un supporto tecnico efficiente.