I target di sputtering
in ortosilicato di litio
sono materiali ceramici avanzati ampiamente utilizzati per la deposizione di film sottili in applicazioni energetiche e nucleari. Il Li4SiO4 è noto per la sua eccellente stabilità termica, la buona conduttività ionica e l’alto contenuto di litio.
Offriamo target di sputtering in ortosilicato di litio personalizzabili in varie purezze, dimensioni e forme per soddisfare specifiche esigenze di ricerca o industriali. Offriamo anche un supporto completo: non esitate a contattarci.
Purezza tipica ≥99,9
Alta densità e microstruttura uniforme
Dimensioni e forme personalizzabili: disponibili in forme circolari, rettangolari o altre forme.
Composizioni personalizzate opzionali: possiamo regolare la stechiometria o aggiungere dopanti in base alle vostre specifiche esigenze applicative.
Fusione nucleare: Li₄SiO₄ è un materiale ceramico di punta per la produzione di trizio nei rivestimenti dei reattori a fusione.
Batterie al litio allo stato solido: come componente ricco di litio negli elettroliti solidi o negli strati interfacciali per una migliore conduttività ionica.
Stoccaggio di idrogeno e isotopi: applicato in compositi ceramici per lo stoccaggio sicuro e il rilascio controllato di isotopi di idrogeno.
D1: Per quali tipi di film sottili viene utilizzato principalmente il bersaglio di sputtering di ortosilicato di litio?
R1: Questo bersaglio viene utilizzato principalmente per la preparazione di film sottili funzionali di silicato di litio, comunemente utilizzati nella ricerca sui materiali delle batterie al litio, sugli strati funzionali ceramici e sui film sottili legati all’energia.
D2: Quali sono le caratteristiche del materiale ortosilicato di litio nella preparazione di film sottili?
R2: Questo materiale ha una buona stabilità chimica e strutturale, che consente la formazione di strutture di film sottili uniformi e controllabili durante la polverizzazione.
Q3: Per quali processi di deposizione è adatto questo target di sputtering?
A3: Il target di sputtering in ortosilicato di litio può essere utilizzato nei comuni processi PVD come lo sputtering RF e lo sputtering DC ed è compatibile con varie apparecchiature sperimentali e su scala pilota.
Q4: Quali precauzioni devono essere prese durante l’uso e la conservazione del target di sputtering in ortosilicato di litio?
A4: Si raccomanda di conservarlo e maneggiarlo in un ambiente asciutto e sigillato, evitando l’esposizione prolungata all’aria per garantire la stabilità e la ripetibilità del target durante il processo di deposizione.
Ogni lotto di Li4SiO4 è fornito con un certificato di analisi (COA)
e una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS).
Su richiesta è possibile fornire analisi di purezza elementare e composizione di fase effettuate da terzi.
Su richiesta sono disponibili modelli XRD e analisi della dimensione delle particelle.
Formula molecolare: Li₄SiO₄
Peso molecolare: 119,85 g/mol
Aspetto: Materiale solido bianco denso
Densità: 2,39 g/cm³
Punto di fusione: 1256 °C
Struttura cristallina: Monoclino
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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