I target di sputtering
in seleniuro di molibdeno
sono materiali diseleniuri di metalli di transizione bidimensionali con eccellente struttura stratificata, conduttività elettrica e stabilità chimica. I loro film depositati offrono prestazioni eccezionali nella fabbricazione di dispositivi optoelettronici, semiconduttori bidimensionali, elettronica flessibile e materiali catalitici, rendendoli una scelta ideale per la ricerca scientifica e la produzione di film sottili ad alte prestazioni.
Siamo in grado di produrre target di sputtering MoSe2 di varie purezze, dimensioni e spessori. Non esitate a contattarci
se desiderate ricevere campioni o informazioni tecniche
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Materiale di elevata purezza con impurità minime
Struttura stratificata intatta per una deposizione uniforme
Dimensioni, spessori e strutture personalizzate supportate
Adatto a vari sistemi di sputtering magnetronico
Proprietà elettriche stabili, adatte a dispositivi bidimensionali
Disponibili trattamenti di lucidatura superficiale e incollaggio
Utilizzati per la fabbricazione di film sottili semiconduttori bidimensionali e materiali per transistor.
Utilizzati come strati funzionali conduttivi e fotoresponsivi in dispositivi optoelettronici.
Utilizzati per la deposizione di film sottili funzionali flessibili, elettronici e trasparenti.
Svolge un ruolo nella fabbricazione di supporti catalitici e film sottili di materiali energetici.
D1: Come vengono imballati i target di sputtering MoSe2 per garantire un trasporto sicuro?
R1: I target di sputtering sono sigillati sottovuoto e imballati in scatole esterne resistenti agli urti per garantire che non vengano contaminati o danneggiati durante il trasporto.
D2: È possibile personalizzare le dimensioni o la forma dei target di sputtering?
A2: Sì, offriamo piastre di supporto personalizzate circolari, rettangolari, segmentate e composite, e supportiamo anche la lucidatura della superficie e la lavorazione di incollaggio.
D3: Come devono essere conservati i target di sputtering MoSe2?
A3: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto, fresco e sigillato, evitando l’esposizione prolungata all’umidità o a gas chimicamente corrosivi per mantenere la stabilità delle prestazioni del target di sputtering.
D4: Come vengono garantite la purezza e le prestazioni del prodotto? È possibile fornire dei test?
A4: Utilizziamo materie prime di elevata purezza per la preparazione. Ogni lotto di target di sputtering viene sottoposto a test ICP, XRD, XRF e altri. Sono disponibili rapporti completi sulla composizione e sulla qualità per garantire prestazioni stabili.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti.
Siamo specializzati nella ricerca e nella produzione di materiali bidimensionali e target di sputtering in diseleniuro di metalli di transizione, e disponiamo di tecnologie avanzate di sintesi delle polveri, sinterizzazione e lavorazione di precisione. I nostri bersagli di sputtering MoSe2 sono caratterizzati da elevata purezza, alta densità e forte uniformità, soddisfacendo le esigenze sia della ricerca scientifica che delle applicazioni industriali. Grazie alla qualità stabile, alla consegna rapida, alla personalizzazione flessibile e al supporto tecnico professionale, siamo diventati un partner affidabile a lungo termine per istituti di ricerca globali e aziende di rivestimenti di alta gamma.
Formula chimica: MoSe2
Peso molecolare: 253,88 g/mol
Aspetto: Materiale bersaglio denso di colore grigio-nero a forma di disco o rettangolare con superficie liscia.
Densità: ≈ 6,5 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1185 °C
Punto di ebollizione: Circa 2200 °C
Struttura cristallina: Sistema cristallino esagonale a pacchetti ravvicinati (HCP, struttura a strati).
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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