| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 493401ST001 | In2Se3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 493401ST002 | In2Se3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 493401ST003 | In2Se3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 493401ST004 | In2Se3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 493401ST005 | In2Se3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 493401ST006 | In2Se3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
Il seleniuro di indio è un materiale composto di elevata purezza ampiamente utilizzato nella ricerca sui semiconduttori, nei dispositivi optoelettronici e nella deposizione di film sottili. Con eccellenti proprietà termoelettriche e ottiche, i target di sputtering In2Se3 sono essenziali per la produzione di film sottili ad alte prestazioni. I nostri prodotti garantiscono una purezza del 99,99% e una densità uniforme per ottenere tassi di sputtering stabili e una qualità superiore dei film sottili.
Forniamo target sputtering di seleniuro di indio (In2Se3) di alta qualità per istituti di ricerca e produttori industriali. Contattateci per prezzi competitivi e supporto tecnico.
Purezza superiore: la purezza del 99,99% (4N) garantisce la deposizione di film sottili a bassa contaminazione.
Alta densità: Microstruttura ottimizzata per prestazioni di sputtering stabili.
Dimensioni personalizzate: Disponibile in forme planari, circolari o rettangolari, con dimensioni adatte al vostro sistema di sputtering.
Opzioni di legame forte: I target possono essere forniti con piastre di supporto per migliorare la conduttività termica e la durata.
Prestazioni costanti: Offre un’adesione eccellente, uno spessore uniforme e una qualità riproducibile del film sottile.
Semiconduttori: Utilizzati nei dispositivi elettronici per transistor a film sottile e circuiti ad alta velocità.
Optoelettronica: Applicata nei fotorivelatori, nei dispositivi a infrarossi e nell’ottica laser.
Deposizione di film sottili: Adatto ai processi PVD (physical vapor deposition), compresi sputtering ed evaporazione.
Celle solari: Utilizzato nelle celle solari a film sottile per migliorare l’efficienza e le prestazioni.
Ricerca e sviluppo: Supporta la scienza dei materiali avanzati e la ricerca sull’elettronica di nuova generazione.
Esperienza nel settore: Specializzati nella fornitura di target di sputtering avanzati per le industrie dei semiconduttori e dell’ottica.
Soluzioni personalizzate: Flessibilità nella composizione, nelle dimensioni e nelle opzioni di incollaggio per soddisfare i requisiti del vostro sistema.
Qualità affidabile: Il rigoroso controllo della qualità assicura densità, purezza e microstruttura costanti.
Consegna globale: Spedizione internazionale rapida e sicura con imballaggio protettivo.
Supporto tecnico: Un team di professionisti fornisce consulenza tecnica e documentazione completa.
F1. Qual è la purezza dei vostri target di sputtering In2Se3?
A1. I nostri target di sputtering hanno una purezza standard del 99,99% (4N), adatta per applicazioni di film sottili di alta precisione.
F2. Quali forme e dimensioni sono disponibili per i target di sputtering In2Se3?
A2. Forniamo target planari, circolari e rettangolari in dimensioni standard e personalizzate per adattarsi a diversi sistemi di sputtering.
F3. Fornite servizi di bonding per i target In2Se3?
A3. Sì, offriamo l’incollaggio con piastre di supporto adeguate per migliorare la gestione termica e prolungare la durata del target.
F4. Quali industrie utilizzano i target di sputtering al seleniuro di indio?
A4. Sono ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nell’optoelettronica, nelle celle solari e nella ricerca e sviluppo di film sottili.
Ogni lotto di prodotti viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di analisi delle impurità
I rapporti di analisi di terze parti sono disponibili su richiesta per soddisfare le esigenze della ricerca e dell’industria.
Formula chimica: In₂Se₃
Peso molecolare: 466,52 g/mol
Aspetto: Solido grigio-nero, denso e uniforme
Purezza: 99,99% (4N)
Densità: 5,55 g/cm³
Punto di fusione: ~890°C
Struttura cristallina: Esagonale
Formula: Bersaglio per sputtering (rotondo, rettangolare o forme personalizzate)
Servizi di incollaggio: Incollaggio del backplane disponibile per migliorare le prestazioni termiche.
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci