Seleniuro di gallio

Panoramica sui target di sputtering in seleniuro di gallio

I target di sputtering
in seleniuro di gallio
sono target ceramici funzionali preparati da polvere o lingotti di GaSe ad alta purezza attraverso processi avanzati di metallurgia delle polveri. Ereditando la struttura cristallina a strati unica, il bandgap diretto e le eccezionali proprietà ottiche non lineari del materiale GaSe, fungono da materiale di base per la produzione di film di seleniuro di gallio di alta qualità tramite la tecnologia di deposizione fisica da vapore (PVD). Sono utilizzati principalmente nell’optoelettronica a infrarossi avanzata, nell’ottica non lineare e nei nuovi dispositivi a materiali bidimensionali.

Offriamo target di sputtering in ceramica GaSe di alta qualità in diverse purezze, dimensioni e configurazioni di incollaggio
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Caratteristiche principali del prodotto

Struttura semiconduttrice a strati
Prestazioni ottiche non lineari superiori
Caratteristiche ottimizzate per applicazioni nell’infrarosso medio-lontano
Elevata purezza con stechiometria precisa
Disponibile incollaggio professionale della piastra di supporto

Applicazioni dei target di sputtering in seleniuro di gallio

Dispositivi ottici a infrarossi e non lineari: utilizzati per la deposizione di film sottili nella produzione di componenti funzionali fondamentali per la generazione/rilevamento di terahertz e il raddoppio della frequenza laser nell’infrarosso medio.
Optoelettronica e rilevatori: utilizzati per fabbricare fotorilevatori a infrarossi ad alte prestazioni, transistor ad effetto di campo e strati sensibili per dispositivi optoelettronici flessibili.
Materiali e dispositivi 2D all’avanguardia: funge da fonte di deposizione per film GaSe 2D di alta qualità, consentendo la ricerca fondamentale e lo sviluppo di applicazioni per nuovi dispositivi e sensori quantistici.
Rivestimenti funzionali specializzati: sfruttando le sue proprietà ottiche e semiconduttrici uniche, viene depositato come film funzionale per finestre a infrarossi o sensori specializzati.

Domande frequenti

D1: Perché scegliere il materiale target GaSe?
A1: I suoi vantaggi principali risiedono nella sua struttura a strati unica e nelle eccezionali proprietà ottiche non lineari, che lo rendono particolarmente adatto alla produzione di dispositivi optoelettronici a infrarossi medi e nella banda terahertz.

D2: Quali sono i requisiti di purezza applicabili al materiale target GaSe?
A2: Per garantire prestazioni optoelettroniche ottimali dei film sottili, la purezza deve tipicamente superare il 99,9%. L’alta purezza riduce efficacemente al minimo i difetti causati dalle impurità.

D3: Quali precauzioni devono essere prese durante l’uso e la manutenzione?
A3: Questo materiale è fragile e richiede un’attenta manipolazione durante il posizionamento e la rimozione. Conservare in contenitori sigillati per evitare l’esposizione all’umidità. A causa della sua struttura a strati, i parametri del processo di sputtering devono essere ottimizzati per ottenere film sottili uniformi.

D4: È possibile personalizzare dimensioni o incollaggi non standard?
A4: Sì. Supportiamo la personalizzazione delle forme e delle dimensioni dei target in base alla camera dell’apparecchiatura e ai requisiti di processo, e forniamo servizi professionali di incollaggio delle piastre di supporto.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Sfruttando la nostra esperienza nei target composti speciali, forniamo target GaSe altamente stabili e coerenti e soluzioni personalizzate.