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Selenio metallico

Chemical Name:
Selenio metallico
Formula:
Se
Product No.:
3400
CAS No.:
7782-49-2
EINECS No.:
231-957-4
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
3400ST001 Se 99.999% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
3400ST002 Se 99.999% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
3400ST003 Se 99.999% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
3400ST004 Se 99.999% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
3400ST001
Formula
Se
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
3400ST002
Formula
Se
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
3400ST003
Formula
Se
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
3400ST004
Formula
Se
Purity
99.999%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Panoramica sui target di sputtering in selenio metallico

I target di sputtering
in selenio metallico
sono dischi solidi o piastre rettangolari prodotti con materie prime di selenio ad alta purezza attraverso processi di precisione quali la metallurgia delle polveri o la fusione. Sono utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). In condizioni di vuoto controllato, gli atomi superficiali vengono spruzzati attraverso un bombardamento ionico, depositando film uniformi e densi di selenio o precursori di film di seleniuro sui substrati.

Offriamo target di sputtering in selenio metallico ad alta purezza in varie specifiche (diametro, spessore) e forniamo servizi di incollaggio su misura per le esigenze delle apparecchiature dei clienti. Per richieste personalizzate o richieste di test di rivestimento, contattateci
telefonicamente.

Caratteristiche principali del target di sputtering in selenio metallico

Purezza elevatissima
Alta densità e bassa porosità
Eccellente uniformità microstrutturale
Controllo preciso delle dimensioni e della tolleranza
Servizi di incollaggio della piastra di supporto disponibili

Applicazioni dei target di sputtering in selenio metallico

Celle solari a film sottile in rame, indio, gallio e selenio (CIGS): fungono da fonte di selenio, co-sputterate con rame, indio e gallio o post-selenizzate per formare strati assorbenti fotovoltaici ad alta efficienza.
Fotodetettori e sensori: utilizzati per depositare film di selenio o seleniuro per la produzione di dispositivi optoelettronici sensibili alla luce visibile e infrarossa.
Materiali di accumulo a cambiamento di fase: fungono da target di origine per film di materiali a cambiamento di fase a base di selenio nella fabbricazione di memorie non volatili.
Rivestimenti decorativi e funzionali: depositano film a base di selenio con colori o funzionalità specializzate su substrati specifici.

Domande frequenti

D1: Come si deve selezionare la purezza del bersaglio di selenio? Una purezza più elevata è sempre migliore?
R1: La selezione della purezza dipende dai requisiti di prestazione del film. Per la ricerca e i dispositivi optoelettronici di fascia alta (ad esempio, celle CIGS), è tipicamente richiesto un valore pari o superiore al 99,999% (5N) per ridurre al minimo gli effetti delle impurità sulle proprietà elettriche. Per alcuni rivestimenti funzionali meno esigenti, può essere sufficiente una purezza del 99,99% (4N). I nostri consulenti tecnici possono fornire consigli di selezione convenienti.

D2: Perché i target richiedono piastre di supporto? Fornite servizi di incollaggio?
A2: L’incollaggio garantisce un’efficiente dissipazione del calore e un montaggio sicuro. Il selenio è fragile e ha una conducibilità termica moderata. Incollarlo a piastre di raffreddamento in rame o alluminio tramite saldatura metallica garantisce la stabilità termica e l’integrità meccanica durante la polverizzazione. Forniamo servizi di incollaggio
professionali e possiamo consegnare assemblaggi di target incollati pronti per l’installazione su misura per il design della vostra camera di polverizzazione.

D3: Quali sono le considerazioni speciali da tenere presenti quando si esegue la polverizzazione con target di selenio?
A3: Due punti chiave: in primo luogo, il controllo della potenza. Il selenio ha un basso punto di fusione (~221 °C) e richiede uno sputtering a potenza medio-bassa (CC o RF) per evitare il surriscaldamento e la fusione del bersaglio. In secondo luogo, l’atmosfera di processo. Tipicamente condotto in gas argon; per lo sputtering reattivo per produrre selenuri, introdurre quantità appropriate di gas di reazione come l’idrogeno solforato.

D4: Come valutate e garantite la qualità dei target di sputtering al selenio?
R4: Garantiamo rigorosamente la qualità attraverso diversi parametri: 1. Analisi della composizione chimica (i rapporti GDMS garantiscono la purezza); 2. Test di densità (≥95% della densità teorica); 3. Ispezione metallografica (osservazione della dimensione e dell’uniformità dei grani). Ogni lotto di target è accompagnato dai dati dei test critici.

Rapporto sul bersaglio di sputtering in selenio metallico

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Sfruttando la nostra esperienza tecnica nei target metallici speciali, forniamo soluzioni end-to-end, dai materiali ad alta purezza e la lavorazione di precisione all’incollaggio e ai test, rendendoci il vostro partner di fiducia per lo sviluppo di tecnologie e dispositivi avanzati a film sottile.

Formula molecolare: Se
Peso molecolare: 78,96
Aspetto: Bersaglio solido grigio con una lucentezza metallica
Densità: 4,81 g/cm³
Punto di fusione: 220,5 °C
Punto di ebollizione: 685 °C
Struttura cristallina: Esagonale (il selenio grigio è la forma più stabile)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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