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Rame Indio Gallio

Chemical Name:
Rame Indio Gallio
Formula:
CuInGa
Product No.:
29493100
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
29493100ST001 CuInGa 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
29493100ST002 CuInGa 99.99% Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
29493100ST003 CuInGa 99.99% Ø 203.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
29493100ST001
Formula
CuInGa
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
29493100ST002
Formula
CuInGa
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm
Product ID
29493100ST003
Formula
CuInGa
Purity
99.99%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm

Panoramica sui target di sputtering in rame, indio e gallio

I target di sputtering
in rame, indio e gallio
sono target in lega multielemento utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili optoelettronici e funzionali a composizione regolabile.

Offriamo target con diversi rapporti di rame, indio e gallio e in varie specifiche, e supportiamo la personalizzazione
in base ai parametri delle apparecchiature. Contattateci
per assistenza tecnica.

Caratteristiche principali del prodotto

Distribuzione uniforme dei componenti multielemento
Rapporti di composizione progettabili con precisione
Elevata densità del bersaglio
Processo di sputtering stabile
Buona ripetibilità del film
Buon legame
Adatto allo sviluppo di strutture complesse a film sottile

Applicazioni del bersaglio per sputtering in rame, indio e gallio

Sviluppo di materiali solari
a film sottile: questo bersaglio è comunemente utilizzato per il deposito di film precursori metallici. Regolando i rapporti degli elementi, fornisce una base per ottimizzare le prestazioni degli strati funzionali successivi.
Preparazione di film sottili funzionali optoelettronici
: i processi di sputtering consentono di ottenere film sottili in lega con composizione uniforme, adatti alla ricerca sul controllo delle proprietà ottiche ed elettriche. Ricerca sui sistemi di materiali
semiconduttori
: nell’esplorazione dei materiali semiconduttori multielemento, questo materiale aiuta a studiare l’influenza dei diversi rapporti tra gli elementi sulla struttura a bande.

Domande frequenti

D1: I rapporti tra gli elementi possono essere regolati in base ai requisiti del progetto?
A1: Sì, la composizione del target può essere progettata e realizzata in base ai requisiti del film sottile target.

D2: Questo target ha requisiti speciali per le apparecchiature di sputtering?
A2: È compatibile con i principali sistemi di sputtering. I parametri specifici devono essere ottimizzati in base alle condizioni delle apparecchiature.

D3: La composizione del film è soggetta a segregazione durante lo sputtering?
A3: Con un controllo ragionevole della potenza e dell’atmosfera, la composizione del film mantiene una buona consistenza.

D4: Il target è adatto per la sputtering continua a lungo termine?
A4: La struttura del target è stabile e adatta per la deposizione continua e i test di processo multi-batch.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo una maturata esperienza nella preparazione e nella gestione della qualità dei target di sputtering in lega multielemento. Dalla progettazione della composizione al collaudo del prodotto finito, disponiamo di processi sistematici per fornire ai clienti una qualità dei materiali stabile e costante, capacità di personalizzazione flessibili e un supporto di consegna continuo e affidabile, contribuendo al progresso efficiente dei progetti.

Formula chimica: CuInGa
Aspetto: Bersaglio sputtering denso da grigio argento a grigio scuro

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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