Ossido di zirconio

Target di sputtering in ossido di zirconio Panoramica

Il target di sputtering
in ossido di zirconio
è un target ceramico ad alta purezza progettato per la deposizione stabile e di alta qualità di film sottili in applicazioni elettroniche e ottiche avanzate. Ideale per la produzione di film sottili durevoli, isolanti e resistenti all’usura.

Produciamo target di sputtering in ZrO2 in varie forme, dimensioni e spessori, garantendo un controllo preciso della densità, della finitura superficiale e della composizione chimica. Il nostro team offre dimensioni personalizzate, geometrie dei target specializzate e supporto tecnico
per ottimizzare il processo di deposizione di film sottili. Contattateci.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza e stabilità chimica
Struttura ceramica densa e priva di difetti
Eccellente stabilità termica e meccanica
Superficie liscia con bassa rugosità
Prestazioni di deposizione di film sottili costanti
Elevata adesione degli strati depositati
Qualità stabile da lotto a lotto
Compatibile con sistemi di sputtering RF e DC
Film resistenti all’usura e alla corrosione
Forme e dimensioni personalizzate disponibili

Applicazioni del bersaglio di sputtering in ossido di zirconio

Optoelettronica:
utilizzato in strati isolanti trasparenti e rivestimenti protettivi.
Semiconduttori:
applicato per strati dielettrici e barriera in dispositivi microelettronici.
Rivestimenti protettivi: ideale per film sottili resistenti all’usura e alla corrosione.
Ricerca e sviluppo: adatto per studi di laboratorio su ceramiche e rivestimenti di ossidi funzionali.

Domande frequenti

D1: Come viene imballato il target di sputtering ZrO2 per la spedizione?
R1: I target sono sigillati sottovuoto, avvolti in una pellicola protettiva antistatica e collocati in scatole di cartone rinforzate per evitare danni alla superficie e contaminazioni.

D2: È possibile personalizzare le dimensioni o la finitura superficiale del target?
R2: Sì, possiamo produrre target ZrO2 in dimensioni, spessori e finiture superficiali personalizzati in base a specifici requisiti di deposizione.

D3: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate?
R3: Conservare in un ambiente asciutto e pulito, lontano da umidità, polvere e sostanze chimiche corrosive per mantenere l’integrità e le prestazioni del bersaglio.

D4: Quali garanzie di purezza e prestazioni fornite?
R4: I nostri bersagli in ZrO2 mantengono un’elevata purezza chimica, una struttura ceramica densa e una microstruttura uniforme per garantire una qualità di deposizione del film sottile costante.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Forniamo target di sputtering ZrO2 di alta qualità con densità controllata, superfici lisce e prestazioni affidabili per applicazioni elettroniche, ottiche e di protezione a film sottile. Grazie alla consulenza tecnica, alle specifiche personalizzate e alla consegna rapida, aiutiamo i clienti a ottenere risultati di deposizione costanti e di alta qualità sia in ambito industriale che di ricerca.