| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 300800ST001 | ZnO | 99.95% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 300800ST002 | ZnO | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 300800ST003 | ZnO | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 300800ST004 | ZnO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 300800ST005 | ZnO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 300800ST006 | ZnO | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 300800ST007 | ZnO | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 300800ST008 | ZnO | 99.95% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 300800ST009 | ZnO | 99.95% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
I target di sputtering
all’ossido di zinco
sono ampiamente utilizzati in settori high-tech quali dispositivi optoelettronici, film conduttivi trasparenti e celle solari, grazie alle loro eccellenti proprietà elettriche e ottiche.
Offriamo target di sputtering ZnO ad alta purezza adatti a varie applicazioni di deposizione di film sottili, aiutandovi a migliorare le prestazioni e la stabilità dei prodotti. Contattateci
per ulteriore assistenza tecnica
e servizi personalizzati.
Alta purezza
Eccellenti proprietà elettriche
Proprietà ottiche superiori
Buona trasparenza e conduttività
Effetto di deposizione per sputtering stabile
Crescita di film sottili ad alta efficienza
Dimensioni e forme personalizzabili
Bonding
e backplane personalizzabili
Optoelettronica
: utilizzati nei dispositivi optoelettronici per preparare film conduttivi trasparenti, ampiamente utilizzati nei touchscreen e nei dispositivi optoelettronici. Celle
solari
: utilizzati come strato conduttivo trasparente nelle celle solari, contribuiscono a migliorare l’efficienza e la stabilità delle celle.
Display: svolgono un ruolo cruciale nella produzione di display, in particolare nelle tecnologie LCD e OLED.
Sensori: utilizzati nei sensori di gas e nei fotosensori, migliorano la loro velocità di risposta e sensibilità.
D1: Quali settori utilizzano i target di sputtering di ossido di zinco?
R1: Ampiamente utilizzati nell’optoelettronica, nell’energia solare, nei display e nei sensori, in particolare nei film conduttivi trasparenti e nelle celle solari.
D2: Quali sono i requisiti di purezza per i target di sputtering di ossido di zinco?
R2: Offriamo target con purezza del 99,95%, che soddisfano i requisiti dei dispositivi elettronici e optoelettronici di fascia alta.
D3: È possibile personalizzare le dimensioni e la forma dei target di ossido di zinco?
R3: Sì, possiamo personalizzare le dimensioni e la forma dei target in base alle esigenze dei clienti per adattarli ai requisiti delle diverse apparecchiature.
D4: I target di ossido di zinco sono adatti alla deposizione a bassa temperatura?
R4: Sì, sono adatti ai processi di deposizione a bassa temperatura, in particolare alla deposizione di film sottili a bassa temperatura, garantendo la qualità e la stabilità del film.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Offriamo target di sputtering ZnO personalizzati e ad alta purezza, insieme a un supporto tecnico completo e rapporti per aiutare i vostri progetti ad avere successo.
Formula molecolare: ZnO
Peso molecolare: 81,38 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico bianco e denso con superficie liscia e uniforme
Densità: 5,61 g/cm³
Punto di fusione: 1.975 °C
Punto di ebollizione: 2.360 °C
Struttura cristallina: Wurtzite esagonale (P6₃mc)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
