ULPMAT

Ossido di tulio

Chemical Name:
Ossido di tulio
Formula:
Tm2O3
Product No.:
690800
CAS No.:
12036-44-1
EINECS No.:
234-851-6
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
690800ST002 Tm2O3 99.99% (REO) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
690800ST001 Tm2O3 99.99% (REO) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
690800ST003 Tm2O3 99.99% (REO) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
690800ST002
Formula
Tm2O3
Purity
99.99% (REO)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
690800ST001
Formula
Tm2O3
Purity
99.99% (REO)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
690800ST003
Formula
Tm2O3
Purity
99.99% (REO)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Bersaglio di sputtering all’ossido di tulio Panoramica

I target di sputtering all’ossido di tulio sono materiali di ossido di terre rare ad alte prestazioni progettati per processi avanzati di deposizione di film sottili. Con una purezza fino al 99,99%, hanno un’eccellente stabilità chimica e proprietà isolanti elevate e sono ampiamente utilizzati nei dispositivi optoelettronici, nei materiali di archiviazione, nei rivestimenti ottici e in altri campi. I target di ossido di tulio ad alta purezza mantengono una buona stabilità termica in condizioni di alta temperatura e alto vuoto, rendendoli adatti a processi impegnativi.

Offriamo bersagli sputtering all’ossido di tulio in una varietà di forme e dimensioni, tra cui bersagli rotondi, rettangolari e di forma speciale, e possiamo fornire servizi personalizzati in base alle esigenze dei clienti. Allo stesso tempo, forniamo un servizio completo di assistenza post-vendita per garantire che non abbiate problemi in termini di selezione, utilizzo, abbinamento ai processi, ecc.

Caratteristiche principali del target di sputtering all’ossido di tulio

Purezza: 99,99%
Struttura densa: garantisce una deposizione uniforme e stabile del film
Elevato isolamento e stabilità termica: adatto per film dielettrici e strati funzionali ad alte prestazioni
Dimensioni e forma personalizzabili: soddisfano i requisiti di compatibilità di varie apparecchiature PVD
Compatibilità con i principali sistemi di deposizione: si adattano ad apparecchiature come lo sputtering magnetronico e l’evaporazione a fascio di elettroni
Servizio di rilegatura: è possibile fornire servizi di elaborazione e rilegatura del backplane di destinazione

Applicazioni del target di sputtering in ossido di tulio

Dispositivi a semiconduttore: come materiali dielettrici ad alto coefficiente k, ottimizzano la capacità e le prestazioni di perdita dei dispositivi
Rivestimento ottico: utilizzato per componenti ottici di fascia alta, come filtri, finestre a infrarossi e rivestimenti ad alto indice di rifrazione
Memorizzazione delle informazioni: utilizzati per nuovi materiali a film sottile per la memorizzazione ottica e la memorizzazione magneto-ottica
Dispositivi laser e materiali per fosfori: migliorare l’efficienza di eccitazione nei sistemi di drogaggio con terre rare

Rapporti

Forniamo un rapporto di analisi completo (COA), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e documenti di conformità (come RoHS, REACH) per ogni lotto. Supportiamo test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto sia conforme agli standard internazionali.

Formula molecolare: Tm₂O₃
Peso molecolare: 385,87 g/mol
Aspetto: Blocco di colore da bianco a verde chiaro
Densità: 8,6 ± 0,1 g/cm³ (valore misurato, densità relativa ≥99%)
Punto di fusione: 2341 ± 10°C
Struttura cristallina: Sistema cubico (gruppo spaziale Ia-3)
Metodo di legame: Piastra posteriore in rame/molibdeno

Parola segnale:
Avvertenza
Dichiarazioni di pericolo:
H315 Provoca irritazione cutanea.
H319 Provoca grave irritazione oculare.
H335: Può causare irritazione respiratoria

Imballaggio interno: Sacchetto sigillato sottovuoto per proteggere dalla contaminazione e dall’umidità.

Imballaggio esterno: Cartone o scatola di legno, a seconda delle dimensioni e del peso.

Obiettivi fragili: Viene utilizzato uno speciale imballaggio protettivo per garantire un trasporto sicuro.

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