Ossido di titanio

Panoramica sui target di sputtering in subossido di titanio

I target di sputtering
in ossido di titanio
appartengono alla fase Magnéli e combinano la conduttività dei metalli con la resistenza alle alte temperature della ceramica. Questi target vengono utilizzati principalmente per preparare film sottili funzionali con elevata conduttività, resistenza alle alte temperature e stabilità strutturale e sono ampiamente utilizzati nei dispositivi elettronici, nella ceramica conduttiva e nello sviluppo di materiali scientifici per film sottili.

Siamo in grado di fornire target di sputtering Ti4O7 densi e uniformi nella composizione, adatti per sistemi di sputtering magnetron DC o RF. È possibile fornire diverse dimensioni e metodi di lavorazione in base alle esigenze delle apparecchiature del cliente per soddisfare le esigenze di preparazione di film sottili scientifici o industriali. Contattateci
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Caratteristiche principali del prodotto

Struttura di sottossido di titanio in fase Magnéli
Elevata conduttività, adatto per lo sputtering magnetron
Eccellente stabilità termica e resistenza agli shock termici
Composizione stabile durante la polverizzazione, buona ripetibilità del film
Adatto per deposizione ad alta temperatura, sotto vuoto e in atmosfera inerte
Può essere utilizzato per la preparazione di film sottili funzionali e strutturali

Applicazioni del bersaglio di polverizzazione al subossido di titanio

Deposizione di film sottili funzionali:
può essere utilizzato per preparare film sottili funzionali altamente conduttivi e resistenti alle alte temperature, adatti per dispositivi elettronici e applicazioni di rivestimento speciali.
Ceramiche conduttive e film sottili compositi:
grazie alla sua elevata conduttività e stabilità, è possibile preparare materiali ceramici conduttivi e film sottili compositi.
Ricerca scientifica e sviluppo di materiali:
ampiamente utilizzato nella ricerca e nello sviluppo di materiali in fase Magnéli, film sottili di ossido conduttivo e nuovi film sottili funzionali.
Rivestimenti resistenti alla corrosione ad alta temperatura:
i film sottili Ti4O7 mostrano prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura o corrosivi e possono essere utilizzati per la ricerca su rivestimenti resistenti al calore o protettivi.

Domande frequenti

D1: A quale metodo di sputtering è adatto il bersaglio di sputtering di sottossido di titanio?
R1: Adatto sia ai sistemi di sputtering magnetron DC che RF, mostra un’eccellente conduttività e adattabilità a vari processi PVD.

D2: La composizione del target Ti₄O₇ è stabile durante la polverizzazione?
R2: Con parametri di processo adeguati, il target mantiene una composizione stabile, garantendo una buona ripetibilità e uniformità del film.

D3: Il target è in grado di resistere a condizioni di polverizzazione ad alta temperatura?
R3: Sì, il target possiede un’eccellente stabilità termica e resistenza agli shock termici, che lo rendono adatto alla deposizione ad alta temperatura a lungo termine.

D4: In quali aree di ricerca vengono tipicamente applicati i film sottili Ti₄O₇?
R4: Utilizzati principalmente per film sottili di ossido conduttivo, film sottili ceramici funzionali, rivestimenti ad alta temperatura e ricerca sui materiali in fase Magnéli.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla ricerca, lo sviluppo e la fornitura di ceramiche funzionali e target di sputtering ad alte prestazioni, garantendo che i target di sputtering Ti₄O₇ soddisfino gli standard scientifici e industriali in termini di struttura del materiale, densificazione e compatibilità di sputtering, fornendo una garanzia affidabile per la preparazione di film sottili.