I target di sputtering
in ossido di scandio
sono target ceramici realizzati con polveri ad alta purezza utilizzando processi avanzati, adatti a vari sistemi di deposizione fisica da vapore. Questo prodotto è in grado di depositare film sottili con eccellenti proprietà optoelettroniche, rendendolo un materiale di base fondamentale per la preparazione di materiali funzionali avanzati.
Siamo in grado di fornire target ceramici in ossido di scandio di diverse dimensioni, purezze e metodi di incollaggio
in base alle esigenze del cliente. Per specifiche e dettagli tecnici specifici, vi preghiamo di contattarci
direttamente.
Alta densità
Stechiometria precisa e controllabile
Microstruttura uniforme, priva di crepe e pori
Buona resistenza agli shock termici, lunga durata
Film sottili conduttivi trasparenti:
utilizzati per depositare film sottili di ossido di scandio e stagno ad alte prestazioni, fungono da elettrodi trasparenti per touch screen e celle solari, combinando un’elevata trasmittanza e un’eccellente conduttività.
Rivestimenti protettivi ottici:
preparano strati protettivi di ossido di scandio sulle superfici di componenti ottici di precisione, migliorandone significativamente la resistenza all’usura, la resistenza ai danni da laser e la stabilità ambientale.
Pellicole elettrolitiche allo stato solido:
utilizzate in batterie allo stato solido e dispositivi elettrocromici, le pellicole a base di ossido di scandio depositate presentano un’elevata conduttività ionica e una buona compatibilità di interfaccia.
Dielettrici ad alta costante dielettrica:
utilizzati come materiali dielettrici ad alta costante dielettrica nei dispositivi a semiconduttori
, aiutano a ridurre la corrente di dispersione e a migliorare l’integrazione dei dispositivi.
D1: Quali sono le principali differenze tra i target di ossido di scandio e i target di scandio metallico nelle applicazioni?
A1: I target in metallo scandio sono utilizzati principalmente per il deposito di film funzionali metallici; i target ceramici in ossido di scandio sono utilizzati specificamente per il deposito di film di ossido, che presentano vantaggi prestazionali unici in ottica, elettronica e protezione.
D2: Come scegliere un metodo di incollaggio del target adeguato?
A2: I metodi comuni includono la brasatura, l’incollaggio con adesivo conduttivo e i design senza incollaggio
. La selezione deve tenere conto in modo completo della densità di potenza, dei requisiti di dissipazione del calore e della struttura della camera di processo. Siamo in grado di fornire una consulenza professionale basata sulle vostre attrezzature.
D3: Come prevenire la rottura della superficie del bersaglio durante la polverizzazione?
A3: È fondamentale ottimizzare i parametri di processo (come la potenza, la pressione del gas e il rapporto dell’atmosfera) e garantire un’elevata densità iniziale del bersaglio e una struttura uniforme. Siamo in grado di fornire riferimenti sulla finestra di processo e raccomandare condizioni di polverizzazione adeguate.
D4: Qual è il tempo di consegna tipico per i prodotti?
R4: Le specifiche standard sono solitamente disponibili a magazzino; per i prodotti personalizzati non standard, il ciclo di produzione è generalmente di 4-8 settimane a seconda della complessità. Faremo del nostro meglio per coordinarci al fine di soddisfare i requisiti di tempo del vostro progetto.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta.
Siamo specializzati nella ricerca, nello sviluppo e nella produzione di target di sputtering ceramici avanzati e disponiamo di tecnologie mature di lavorazione delle polveri, stampaggio e sinterizzazione. Attraverso un rigoroso controllo della purezza delle materie prime e del flusso di processo, garantiamo che ogni target abbia prestazioni elevate affidabili e costanti. Non solo forniamo prodotti, ma ci impegniamo anche ad essere il vostro partner tecnologico, offrendo soluzioni professionali per i materiali e un supporto tecnico continuo nello sviluppo e nella produzione di film sottili.
Formula molecolare: Sc₂O₃
Peso molecolare: 137,91 g/mol
Aspetto: Blocco bianco e denso
Densità: 3,86 g/cm³
Punto di fusione: 2485 °C
Punto di ebollizione: 4300 °C
Struttura cristallina: Cubica (tipo Bixbyite)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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