| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 3956290800ST001 | YBa2Cu3O7 | 99.9% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 3956290800ST002 | YBa2Cu3O7 | 99.95% (REO) | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 3956290800ST003 | YBa2Cu3O7 | 99.95% (REO) | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
I target per sputtering
in ossido di ittrio-bario-rame
sono target superconduttori ad alta purezza e alta temperatura ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili superconduttori, nei dispositivi a levitazione magnetica e nei materiali ceramici elettronici.
Offriamo target di sputtering in YBa2Cu3O7 in varie dimensioni, forme e gradi di purezza per soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della preparazione industriale di film sottili. Contattateci
per soluzioni personalizzate.
Elevata purezza, basso contenuto di impurità
Struttura uniforme e densa, prestazioni di sputtering stabili
Eccellenti proprietà superconduttive
Elevata stabilità termica
Controllo preciso della composizione chimica
Dimensioni e forme personalizzabili
Fornitura a lungo termine, qualità affidabile
Deposizione di film sottili superconduttori: utilizzati nella produzione di film sottili superconduttori ad alta temperatura per migliorare le prestazioni e l’uniformità della superconduttività.
Dispositivi a levitazione magnetica: utilizzati nei treni a levitazione magnetica e nei dispositivi sperimentali di levitazione ad alta precisione.
Ceramiche elettroniche: migliora le prestazioni elettriche e l’affidabilità nelle ceramiche elettroniche ad alta frequenza e nei dispositivi microelettronici.
Materiali per la ricerca scientifica: fornisce target di sputtering stabili e affidabili ad alta purezza per la ricerca sulla superconduttività.
D1: Qual è la purezza dei vostri target di sputtering in ossido di ittrio-bario-rame?
A1: I nostri target raggiungono una purezza superiore al 99,9%, garantendo prestazioni superconduttive stabili durante la deposizione di film sottili.
D2: In quali forme possono essere personalizzati i vostri target?
A2: Possiamo fornire target rotondi, quadrati e di dimensioni e forme specificate dal cliente per adattarsi a diverse apparecchiature di sputtering.
D3: I vostri target per sputtering sono stabili durante la deposizione ad alta temperatura?
A3: I nostri target sono densi e uniformi, resistenti ai processi di sinterizzazione e deposizione ad alta temperatura e mostrano prestazioni stabili e affidabili.
Q4: Quali sono i requisiti di conservazione e trasporto dei vostri target?
A4: Devono essere conservati in un ambiente asciutto, fresco e protetto dalla luce e trasportati utilizzando imballaggi a prova di umidità e urti per mantenerne l’integrità e le prestazioni.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati nella produzione di target di sputtering YBa2Cu3O7 ad alta purezza, con un rigoroso controllo di qualità e servizi personalizzati per garantire prestazioni stabili e affidabili dei target, soddisfacendo le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili.
Formula chimica: YBa₂Cu₃O₇
Peso molecolare: 666,22 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico da marrone scuro a nero per sputtering
Densità: ~6,3 g/cm³
Punto di fusione: ~1010 °C (si decompone)
Struttura cristallina: Tipo perovskite ortorombica
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
