Ossido di nichel e litio

Panoramica sui target di sputtering in ossido di litio e nichel

I target di sputtering
in ossido di litio e nichel
sono target in materiale funzionale ad alta densità e uniformità utilizzati nella preparazione di film sottili e in esperimenti di ricerca scientifica. Sono ampiamente utilizzati nei film catodici delle batterie agli ioni di litio, nelle batterie allo stato solido e nella deposizione di rivestimenti optoelettronici e funzionali.

Siamo in grado di fornire target di sputtering LNO ad alta densità e uniformità; dimensioni, spessore e forma possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente. Contattateci
per richiedere campioni o soluzioni personalizzate!

Caratteristiche principali del prodotto

L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film
La struttura cristallina stabile garantisce risultati affidabili nella deposizione del film
Dimensioni, spessore e forma personalizzabili
Supporta la ricerca e la preparazione industriale di film sottili
Finitura superficiale accurata, basso tasso di difetti
Risposta rapida dal nostro team tecnico

Applicazioni dei target di sputtering di ossido di litio e nichel

Preparazione di materiali catodici a film sottile:
utilizzati per la deposizione di film catodici per batterie agli ioni di litio ad alte prestazioni, migliorano la stabilità del ciclo e le prestazioni elettrochimiche.
Ricerca sulle batterie allo stato solido:
supportano la deposizione di film sottili per batterie allo stato solido, garantendo l’uniformità dell’interfaccia e la conduttività ionica.
Optoelettronica e rivestimenti funzionali:
fabbricazione di film sottili ad alta precisione per sensori, dispositivi ottici e strutture microelettroniche, garantendo film densi e uniformi.

Domande frequenti

D1: Quali processi di deposizione sono adatti per i target di sputtering di ossido di litio e nichel?
R1: Adatto per sputtering magnetronico, evaporazione con fascio di elettroni e altri processi PVD convenzionali.

D2: È possibile personalizzare le dimensioni e lo spessore del bersaglio?
R2: Sì, sono disponibili varie specifiche in base alle esigenze delle apparecchiature del cliente.

D3: Qual è l’uniformità del film depositato?
R3: La densità del bersaglio e la struttura cristallina ottimizzata garantiscono un’elevata uniformità del film e qualità cristallina.

D4: Il tasso di difetti della superficie del bersaglio è elevato?
A4: La superficie del bersaglio viene sottoposta a lucidatura di precisione, con un conseguente basso tasso di difetti, adatto alla fabbricazione di film sottili ad alta precisione.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Grazie alla nostra pluriennale esperienza nella produzione di target di sputtering per materiali funzionali, siamo in grado di fornire target di sputtering in ossido di litio e nichel personalizzati e di alta qualità per garantire la stabilità e l’efficienza della deposizione di film sottili nella ricerca scientifica e nelle applicazioni industriali. Il nostro team tecnico offre una risposta rapida e un supporto professionale per aiutare i clienti a ottenere una preparazione di film sottili ad alta precisione.