| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 280800ST001 | NiO | 99.9% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST002 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST003 | NiO | 99.9% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST004 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST005 | NiO | 99.9% | Ø 75 mm x 4 mm | Inquire |
| 280800ST006 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 5 mm | Inquire |
| 280800ST007 | NiO | 99.95% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 280800ST008 | NiO | 99.9% | 127 mm x 101 mm x 7mm | Inquire |
| 280800ST009 | NiO | 99.9% | 200 mm x 75 mm x 3.2mm | Inquire |
I target di ossido di nichel i target di sputtering sono target di ossido di nichel di elevata purezza adatti alla deposizione di precisione di film sottili funzionali e di film sottili di ceramica elettronica.
Offriamo target di sputtering NiO chimicamente stabili e ad alta densità. È possibile fornire dimensioni e specifiche personalizzate in base ai requisiti dell’apparecchiatura e del processo. Si prega di contattateci per informazioni tecniche informazioni tecniche.
Ossido di nichel di elevata purezza
Eccellente densità del bersaglio
Composizione uniforme e stabile
Deposizione uniforme del film
Adatto per lo sputtering magnetronico
Supporta la personalizzazione multi-specifica
Supporta incollaggio e personalizzazione del backplane
Film sottili ceramici elettronici: Possono essere utilizzati per la deposizione di materiali ceramici elettronici per controllare le proprietà elettriche, magnetiche o ottiche.
Preparazione di film sottili funzionali: Adatto per la preparazione di strati funzionali di film sottili, come film conduttivi, film optoelettronici o film protettivi.
Film sottili catalitici: Possono essere utilizzati per la deposizione di dispositivi catalitici o di strati catalitici a film sottile per migliorare l’efficienza e la selettività delle reazioni catalitiche.
Ricerca e sviluppo di processi: Adatto agli istituti di ricerca per condurre il controllo della struttura del film sottile, l’ottimizzazione dei parametri di destinazione e nuovi esperimenti di processo.
Q1: Per quale tipo di apparecchiatura di sputtering è adatto il target di sputtering NiO?
A1: Può essere utilizzato nelle apparecchiature di sputtering magnetronico, ma i requisiti specifici devono essere confermati con le specifiche dell’apparecchiatura.
Q2: La composizione del target è uniforme e stabile?
A2: Sì, la composizione del target rimane costante in tutto il blocco del target, garantendo l’uniformità del film.
Q3: Supportate dimensioni personalizzate o specifiche di ricerca?
A3: Sì, possiamo fornire varie dimensioni e specifiche in base alle esigenze sperimentali o di produzione.
D4: È possibile controllare la composizione del film proiettato?
A4: In presenza di parametri di processo ragionevoli, la composizione del film mantiene una buona coerenza con l’obiettivo.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati nella R&S e nella produzione di target di sputtering NiO di elevata purezza, ponendo l’accento sulla densità del target, sull’uniformità della composizione e sull’adattabilità del processo, fornendo un supporto materiale affidabile per film sottili funzionali, ceramiche elettroniche e applicazioni di ricerca scientifica.
Formula molecolare: NiO
Peso molecolare: 74,69 g/mol
Aspetto: Bersaglio metallico nero o verde con superficie liscia
Densità: Circa 6,67 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1.915°C
Punto di ebollizione: Circa 2.700°C
Struttura cristallina: Struttura di salgemma
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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