Ossido di magnesio

Panoramica sui target di sputtering in ossido di magnesio

I target di sputtering
in ossido di magnesio
sono target ceramici ad alta densità e purezza con eccellente stabilità termica e inerzia chimica. Sono ampiamente utilizzati nei processi di sputtering magnetronico o RF per film sottili ottici, film ceramici elettronici e rivestimenti funzionali.

Offriamo target di ossido di magnesio in varie dimensioni, spessori e densità e possiamo personalizzare soluzioni di incollaggio con backplane in rame o alluminio in base ai requisiti delle apparecchiature. Contattateci
per parametri e preventivi.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta densità, eccellente stabilità di sputtering
Eccellente stabilità termica, nessuna deformazione dopo deposizione a lungo termine
Superficie liscia, elevata uniformità del film
Forte inerzia chimica, adattabile a vari processi
Può essere incollato con backplane in rame/alluminio per migliorare l’efficienza di dissipazione del calore
Supporta varie dimensioni, spessori e specifiche personalizzate

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di magnesio

Preparazione di film sottili
ottici
: i target in ossido di magnesio possono depositare film densi e trasparenti mediante sputtering RF o magnetron, garantendo l’uniformità e la ripetibilità del film.
Film ceramici elettronici: utilizzati per il rivestimento di dispositivi elettronici ad alte prestazioni, migliorano le proprietà dielettriche e la stabilità dei film sottili.
Deposizione di rivestimenti funzionali: adatti per rivestimenti resistenti all’usura, al calore o ad alta stabilità, in grado di soddisfare requisiti di processo specifici.
Ricerca e convalida dei processi: adatti per la convalida dei processi di sputtering in laboratorio e su scala pilota, facilitando l’ottimizzazione dei parametri e la valutazione dei materiali.

Domande frequenti

D1: Per quali apparecchiature sono adatti i target di sputtering?
A1: Adatti per apparecchiature di ricerca e industriali per la deposizione di film sottili, come la polverizzazione RF e la polverizzazione magnetronica.

D2: Qual è la differenza tra polvere, granuli, pellet e target?
A2: Le polveri sono utilizzate per esperimenti su piccoli lotti e miscelazione di formulazioni; i granuli hanno una buona scorrevolezza e sono adatti per l’alimentazione continua; i pellet hanno un’alta densità e sono stabili durante l’evaporazione o lo sputtering; i target sono compattati e stampati, adatti per la deposizione diretta mediante sputtering, con conseguente elevata uniformità del film.

D3: I target supportano dimensioni personalizzate o l’incollaggio di piastre posteriori?
R3: Sì, supportiamo target rotondi, quadrati e di dimensioni speciali e possiamo fornire soluzioni di incollaggio di piastre posteriori in rame o alluminio per migliorare la dissipazione del calore e la durata.

D4: Come conservare i target per mantenerne le prestazioni?
R4: Conservare in un ambiente asciutto e sigillato per evitare umidità e contaminazione, garantendo la stabilità della superficie e della struttura del target.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella preparazione e nella tecnologia di incollaggio di target di ossido di magnesio ad alta purezza, fornendo prodotti con alta densità, dimensioni controllabili e alta consistenza del film. Offriamo anche supporto tecnico basato sulle attrezzature e sui requisiti di processo dei clienti, aiutandoli a completare in modo efficiente la deposizione di film sottili e la convalida dei processi.